大氣壓等離子體微射流陣列具有高電子密度、高效率、可進(jìn)行無掩膜加工等特點,在材料處理和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域有潛在的應(yīng)用前景。然而由于陣列中相鄰微射流間存在強(qiáng)烈相互影響以及射流與環(huán)境空氣間的相互作用,等離子體微射流陣列存在著空間分布不均勻的問題。研究噴嘴尺寸為300μm的1×3微射流陣列,采用高速紋影攝影技術(shù)從流場角度研究工作電壓和氣體流速對微射流陣列的空間均勻性的影響。研究結(jié)果表明,等離子體放電會使得氣流的層流長度明顯變短,且施加電壓越高時,陣列中側(cè)向氣流的偏轉(zhuǎn)角越大,通入的氣體流速增大時,偏轉(zhuǎn)角隨之減小。實驗的結(jié)果有助于理解微射流陣列中射流間的相互影響機(jī)理,對于后續(xù)微射流陣列的應(yīng)用研究具有重要的指導(dǎo)意義。 

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【文章目錄】：
1 實驗裝置
    1.1 大氣壓等離子體微射流陣列裝置
    1.2 高速紋影攝影法
2 結(jié)果分析
3 結(jié)語


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]等離子體射流及其醫(yī)學(xué)應(yīng)用[J]. 盧新培.  高電壓技術(shù). 2011(06)



本文編號：3704186