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高密度電法長(zhǎng)測(cè)線多剖面數(shù)據(jù)連接及應(yīng)用實(shí)例

發(fā)布時(shí)間:2019-09-03 14:07
【摘要】:為了對(duì)高密度電法長(zhǎng)測(cè)線多剖面數(shù)據(jù)進(jìn)行連接并使其流程規(guī)范化,本文總結(jié)了目前提出過(guò)的三種方法:(1)子剖面連接法;(2)分組誤差校正法;(3)數(shù)據(jù)插值法,并對(duì)三種方法的可行性及應(yīng)用效果做了分析;詳細(xì)介紹了子剖面連接法的方法原理;通過(guò)對(duì)不同數(shù)據(jù)質(zhì)量的測(cè)量電阻率的反演RMS值進(jìn)行研究,驗(yàn)證了子剖面連接法的科學(xué)性及可行性;對(duì)長(zhǎng)測(cè)線多剖面數(shù)據(jù)進(jìn)行連接的具體流程進(jìn)行規(guī)范化,為實(shí)際工作提供了重要的指引作用.通過(guò)實(shí)例應(yīng)用說(shuō)明,利用長(zhǎng)剖面與子剖面進(jìn)行聯(lián)合解釋,能更加直觀和方便地對(duì)整條測(cè)線上的異常進(jìn)行圈定和對(duì)比,能更全面、精確地認(rèn)識(shí)和把握勘探區(qū)域的電性分布規(guī)律.
【圖文】:

示意圖,溫納裝置,高密度電法,剖面示意圖


2017,32(4)李小彬,等:高密度電法長(zhǎng)測(cè)線多剖面數(shù)據(jù)連接及應(yīng)用實(shí)例(www.progeophys.cn)圖1高密度電法溫納裝置數(shù)據(jù)剖面示意圖Fig.1SketchofprofiledataforWennerarrayofhighdensityresistivity圖2部分重疊排列連接示意圖(a)部分重疊子剖面;(b)部分重疊排列測(cè)線.Fig.2Sketchoflinkingforpartialoverlappingarrays(a)Sub-sectionofpartialoverlappingarrays;(b)Lineofpartialoverlappingarrays.受地形或其他因素限制,當(dāng)采用“無(wú)重疊排列”采集數(shù)據(jù)時(shí)(圖3),會(huì)導(dǎo)致剖面倒梯形以外空白部分或部分地段的數(shù)據(jù)缺失,但為了異常解釋方便和了解勘探區(qū)電性分布趨勢(shì),可以直接把子剖面連接成長(zhǎng)剖面(式7)并進(jìn)行解釋.由于其數(shù)據(jù)部分缺失,地下物質(zhì)電性性質(zhì)在缺失段的精確度和真實(shí)性有一定的影響.公式(7)為D(i)=D1(a)i=a,D2(b)i=b,D3(c)i=c,{鐤.(7)2不同數(shù)據(jù)質(zhì)量的反演RMS值研究為了驗(yàn)證數(shù)據(jù)質(zhì)量較差時(shí)連接結(jié)果,以及不同數(shù)據(jù)質(zhì)量的連接結(jié)果的精確度,需要對(duì)不同數(shù)據(jù)質(zhì)量的測(cè)量電阻率的反演RMS值進(jìn)行研究.實(shí)際工作中,由于各廠家測(cè)量?jī)x器的精度及穩(wěn)定性不同、測(cè)量工區(qū)的地質(zhì)條件不同、測(cè)量人員操作細(xì)節(jié)不同等原因,會(huì)造成高密度電法測(cè)量電阻率數(shù)據(jù)質(zhì)量的不同,也就是我們通常所說(shuō)的測(cè)量數(shù)據(jù)的好壞.測(cè)量數(shù)據(jù)質(zhì)量不同是很正常也很常見(jiàn)的,但是不同測(cè)量數(shù)據(jù)質(zhì)量是否會(huì)對(duì)長(zhǎng)測(cè)線多剖面數(shù)據(jù)連接產(chǎn)生影響,這是本文這節(jié)需要研究的.本文從大量的實(shí)測(cè)電阻率數(shù)據(jù)中隨機(jī)選出3組不同數(shù)據(jù)質(zhì)量的數(shù)據(jù)進(jìn)行連接并反演,采用子剖面連接法對(duì)部分重疊剖面進(jìn)行處理:①取對(duì)應(yīng)節(jié)點(diǎn)上剖面1的數(shù)據(jù)值(式5);圖3無(wú)重疊排列連接示意圖(a)無(wú)重疊子剖面;(b)無(wú)重疊排列測(cè)線.Fig.3Sketchoflinkingfornoneoverlappingarrays(a)Sub

示意圖,示意圖,數(shù)據(jù)質(zhì)量,剖面


2017,32(4)李小彬,等:高密度電法長(zhǎng)測(cè)線多剖面數(shù)據(jù)連接及應(yīng)用實(shí)例(www.progeophys.cn)圖1高密度電法溫納裝置數(shù)據(jù)剖面示意圖Fig.1SketchofprofiledataforWennerarrayofhighdensityresistivity圖2部分重疊排列連接示意圖(a)部分重疊子剖面;(b)部分重疊排列測(cè)線.Fig.2Sketchoflinkingforpartialoverlappingarrays(a)Sub-sectionofpartialoverlappingarrays;(b)Lineofpartialoverlappingarrays.受地形或其他因素限制,當(dāng)采用“無(wú)重疊排列”采集數(shù)據(jù)時(shí)(圖3),會(huì)導(dǎo)致剖面倒梯形以外空白部分或部分地段的數(shù)據(jù)缺失,但為了異常解釋方便和了解勘探區(qū)電性分布趨勢(shì),可以直接把子剖面連接成長(zhǎng)剖面(式7)并進(jìn)行解釋.由于其數(shù)據(jù)部分缺失,地下物質(zhì)電性性質(zhì)在缺失段的精確度和真實(shí)性有一定的影響.公式(7)為D(i)=D1(a)i=a,D2(b)i=b,D3(c)i=c,{鐤.(7)2不同數(shù)據(jù)質(zhì)量的反演RMS值研究為了驗(yàn)證數(shù)據(jù)質(zhì)量較差時(shí)連接結(jié)果,以及不同數(shù)據(jù)質(zhì)量的連接結(jié)果的精確度,需要對(duì)不同數(shù)據(jù)質(zhì)量的測(cè)量電阻率的反演RMS值進(jìn)行研究.實(shí)際工作中,由于各廠家測(cè)量?jī)x器的精度及穩(wěn)定性不同、測(cè)量工區(qū)的地質(zhì)條件不同、測(cè)量人員操作細(xì)節(jié)不同等原因,會(huì)造成高密度電法測(cè)量電阻率數(shù)據(jù)質(zhì)量的不同,,也就是我們通常所說(shuō)的測(cè)量數(shù)據(jù)的好壞.測(cè)量數(shù)據(jù)質(zhì)量不同是很正常也很常見(jiàn)的,但是不同測(cè)量數(shù)據(jù)質(zhì)量是否會(huì)對(duì)長(zhǎng)測(cè)線多剖面數(shù)據(jù)連接產(chǎn)生影響,這是本文這節(jié)需要研究的.本文從大量的實(shí)測(cè)電阻率數(shù)據(jù)中隨機(jī)選出3組不同數(shù)據(jù)質(zhì)量的數(shù)據(jù)進(jìn)行連接并反演,采用子剖面連接法對(duì)部分重疊剖面進(jìn)行處理:①取對(duì)應(yīng)節(jié)點(diǎn)上剖面1的數(shù)據(jù)值(式5);圖3無(wú)重疊排列連接示意圖(a)無(wú)重疊子剖面;(b)無(wú)重疊排列測(cè)線.Fig.3Sketchoflinkingfornoneoverlappingarrays(a)Sub
【作者單位】: 中國(guó)地質(zhì)大學(xué)(武漢);中國(guó)地質(zhì)調(diào)查局武漢地質(zhì)調(diào)查中心;
【基金】:國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(41574121)資助
【分類號(hào)】:P631.3

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本文編號(hào):2531404

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