本文關(guān)鍵詞：磁控濺射離子鍍膜機(jī)工件架系統(tǒng)設(shè)計(jì)

  更多相關(guān)文章： 工件架系統(tǒng) 三點(diǎn)支撐 鍍膜室殼體 有限元分析

【摘要】：隨著人們生活水平的不斷提高，越來(lái)越多的鍍膜產(chǎn)品被廣泛的應(yīng)用，而與之相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備的制造也在鍍膜技術(shù)的提升中變得愈加的重要�，F(xiàn)在大部分的真空鍍膜機(jī)僅能鍍制一種膜，但是在實(shí)際工程中，有時(shí)需對(duì)同一工件或樣品鍍制兩種不同的膜，重復(fù)定位會(huì)產(chǎn)生定位誤差，使產(chǎn)品所鍍的膜不均勻，這主要是由于鍍膜機(jī)的工件架設(shè)計(jì)存在一定不足所造成的。 本文是對(duì)磁控濺射離子鍍膜機(jī)的工件架子系統(tǒng)進(jìn)行了設(shè)計(jì)與分析，以半球型或半球殼型工件或樣品為研究對(duì)象，，采用三點(diǎn)支撐、升降換位以及樣品自轉(zhuǎn)的方式，使半球型或半球殼型工件或樣品進(jìn)行完全鍍膜，確保工件或樣品無(wú)漏鍍現(xiàn)象。采用導(dǎo)軌裝置使工件架平移至鍍制第二種膜的位置，進(jìn)行再次鍍膜，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)同一工件或樣品鍍制兩種不同的膜，不僅避免了二次定位所產(chǎn)生的偏差與再次定位的繁瑣，而且減少了二次定位給操作人員帶來(lái)的安全方面的危險(xiǎn)。 運(yùn)用solidworks三維設(shè)計(jì)軟件，對(duì)磁控濺射離子鍍膜機(jī)的工件架系統(tǒng)的自轉(zhuǎn)升降部分和平移部分進(jìn)行了仿真裝配與模擬運(yùn)動(dòng)，對(duì)裝配和運(yùn)動(dòng)的零部件進(jìn)行了動(dòng)態(tài)的干涉檢查，增加了設(shè)計(jì)的精確性，減少了生產(chǎn)成本與生產(chǎn)周期。 最后，利用有限元理論和ANSYS有限元軟件，對(duì)真空磁控濺射離子鍍膜機(jī)的鍍膜室殼體在200℃環(huán)境下，進(jìn)行了靜力分析與研究。對(duì)鍍膜室殼體進(jìn)行有限元建模、網(wǎng)格劃分、施加一定量的載荷，對(duì)其結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性和安全可靠性進(jìn)行驗(yàn)證，通過(guò)對(duì)計(jì)算結(jié)果的分析和研究，并結(jié)合鍍膜室殼體的實(shí)際工作情況，提出了對(duì)鍍膜室殼體的結(jié)構(gòu)改進(jìn)設(shè)計(jì)，改進(jìn)設(shè)計(jì)后的鍍膜室殼體在穩(wěn)定性和可靠性方面有明顯提高，完全滿足工程實(shí)際需要。
【關(guān)鍵詞】：工件架系統(tǒng) 三點(diǎn)支撐 鍍膜室殼體 有限元分析
【學(xué)位授予單位】：沈陽(yáng)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2013
【分類號(hào)】：TH122
【目錄】：

• 摘要5-6
• Abstract6-10
• 第1章 緒論10-16
• 1.1 課題來(lái)源10
• 1.2 研究的目的及意義10-11
• 1.2.1 研究的目的10
• 1.2.2 研究的意義10-11
• 1.3 真空鍍膜設(shè)備的應(yīng)用11-13
• 1.4 國(guó)內(nèi)外研究的概況13-15
• 1.5 本章小結(jié)15-16
• 第2章 磁控濺射離子鍍膜機(jī)工件架子系統(tǒng)方案分析16-22
• 2.1 磁控濺射離子鍍膜機(jī)工件架子系統(tǒng)設(shè)計(jì)的基本參數(shù)16
• 2.2 支撐點(diǎn)的換位和自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì)16-19
• 2.2.1 支撐部件的方案確定16-17
• 2.2.2 換位方式的選擇17-18
• 2.2.3 工件架自轉(zhuǎn)部件的方案確定18-19
• 2.3 工件平移部件的方案確定19-20
• 2.4 負(fù)偏壓部件的確定20-21
• 2.5 樣品烘烤加熱系統(tǒng)21
• 2.6 本章小結(jié)21-22
• 第3章 磁控濺射離子鍍膜機(jī)工件架子系統(tǒng)的研究與設(shè)計(jì)22-45
• 3.1 工件升降組件設(shè)計(jì)22-26
• 3.2 工件自轉(zhuǎn)部件傳動(dòng)裝置設(shè)計(jì)26-36
• 3.2.1 真空電機(jī)的選擇26-28
• 3.2.2 傳動(dòng)軸運(yùn)動(dòng)參數(shù)28
• 3.2.3 齒輪傳動(dòng)設(shè)計(jì)28-34
• 3.2.4 傳動(dòng)的潤(rùn)滑方式34-36
• 3.3 工件平移組件設(shè)計(jì)36-39
• 3.4 負(fù)偏壓設(shè)計(jì)39
• 3.5 三維裝配設(shè)計(jì)39-44
• 3.5.1 Solid Works 軟件簡(jiǎn)介39-42
• 3.5.2 自轉(zhuǎn)升降部件、平移部件及整體三維裝配圖42-44
• 3.6 磁控濺射離子鍍膜機(jī)工件架子系統(tǒng)樣機(jī)44
• 3.7 本章小結(jié)44-45
• 第4章 真空磁控濺射鍍膜室殼體有限元分析45-65
• 4.1 真空磁控濺射鍍膜室殼體的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)45
• 4.2 真空磁控濺射鍍膜室殼體的具體結(jié)構(gòu)45-48
• 4.3 真空磁控濺射鍍膜室殼體的有限元分析48-61
• 4.3.1 有限元法簡(jiǎn)介48-50
• 4.3.2 有限元法的基本思想50
• 4.3.3 有限元法求解的基本步驟50-53
• 4.3.4 真空室殼體的有限元分析過(guò)程53-61
• 4.4 鍍膜室改進(jìn)設(shè)計(jì)61-64
• 4.4.1 鍍膜室改進(jìn)結(jié)構(gòu)61-62
• 4.4.2 有限元分析62-64
• 4.5 本章小結(jié)64-65
• 第5章 結(jié)論65-66
• 參考文獻(xiàn)66-68
• 在學(xué)研究成果68-69
• 致謝69-70

【參考文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前8條

1 程建平;楊曉東;;真空磁控濺射鍍膜設(shè)備及工藝技術(shù)研究[J];電子工業(yè)專用設(shè)備;2009年11期

2 馮國(guó)勝;客車車身結(jié)構(gòu)的有限元分析[J];機(jī)械工程學(xué)報(bào);1999年01期

3 韓敏;;利用ANSYS軟件對(duì)壓力容器進(jìn)行應(yīng)力分析[J];煤礦機(jī)械;2008年01期

4 李芮;;磁控濺射技術(shù)[J];印染;2008年05期

5 劉翔宇,趙來(lái),許生,范垂禎,查良鎮(zhèn);磁控濺射鍍膜設(shè)備中靶的優(yōu)化設(shè)計(jì)[J];真空;2003年04期

6 余東海;王成勇;成曉玲;宋月賢;;磁控濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展[J];真空;2009年02期

7 安其;;等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備的研制[J];真空;2012年01期

8 劉毅;王江涌;;濺射深度剖析的定量分析及其應(yīng)用[J];真空;2012年02期

本文編號(hào)：857840