分子/增壓泵結(jié)構(gòu)、性能及其應(yīng)用的研究
發(fā)布時(shí)間:2022-01-12 20:16
分子/增壓泵是最近實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的新型分子泵,它采用國(guó)際首創(chuàng)的專利結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,運(yùn)行穩(wěn)定,兼容中高真空,具有廣闊的應(yīng)用前景。本文在充分討論分子/增壓泵抽氣原理的基礎(chǔ)上,介紹了它的結(jié)構(gòu)和性能,并對(duì)其主要性能指標(biāo)進(jìn)行了測(cè)試。測(cè)試結(jié)果表明,分子/增壓泵在中高真空具有強(qiáng)勁抽速,并可以獲得清潔真空。鑒于分子/增壓泵已成功應(yīng)用于真空鍍膜領(lǐng)域并取得顯著效果,本文深入探討和研究了分子/增壓泵在磁控濺射離子鍍膜機(jī)和大型連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線中的應(yīng)用,為其在更多真空領(lǐng)域的應(yīng)用奠定了理論和實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)。分子/增壓泵是新型泵種,它在每個(gè)真空技術(shù)領(lǐng)域的推廣應(yīng)用都是具有開拓性的。本課題的完成,是其產(chǎn)品化的一小步,卻是其發(fā)展壯大的一大步。
【文章來(lái)源】:合肥工業(yè)大學(xué)安徽省 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁(yè)數(shù)】:65 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖2一11分子/增壓泵與渦輪分子泵轉(zhuǎn)子對(duì)比示意圖
火 火 火 火 火 火 火火、 ~~~P(Pa)圖3一5分子蹭壓泵抽速測(cè)試曲線 3.2.2 3.2.2分子/增壓泵極限真空測(cè)試測(cè)試裝置分子/增壓泵極限真空測(cè)試裝置如圖3一6所示,分子/增壓泵型號(hào)為MB20OB。圖3一6分子/增壓泵極限真空測(cè)試測(cè)試罩經(jīng)超高真空清洗后,放入高真空除氣爐中950℃除氣一個(gè)小時(shí),使材料內(nèi)部H:含量降低2個(gè)數(shù)量級(jí)以上,從而有效地降低測(cè)試系統(tǒng)的本底負(fù)載。測(cè)試罩直接與分子/增壓泵連接,前級(jí)泵采用LEYBOLD公司的 TRIVAC30C直聯(lián)旋片泵,抽速SUs。全壓力低真空測(cè)量采用 LEYBOLDDM12真空計(jì),配用TTR301熱電阻規(guī)管
2.70x10一5】 6.50x10一5 1.80x10礴】 5.00x10一3(2)殘余氣體質(zhì)譜圖3一7和3一8為烘烤前后系統(tǒng)的殘余氣體棒圖。圖3一7分子/增壓泵烘烤前殘余氣體棒圖圖3一8分子/增壓泵烘烤后殘余氣體棒圖烘烤前總壓強(qiáng)為 3x10一5砒 ar(3x10一,Pa),其中HZo分壓和eo(NZ)分壓最高,然后依次是02、eoZ、HZ、搶、He,碳?xì)浠衔?exHy)為 5X10一,汕ar(sxlo一7Pa)。烘烤后總壓強(qiáng)為sxlo一7mbar(sxlo一SPa),其中,HZO分壓最高,接近總壓強(qiáng)
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]真空獲得技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)與對(duì)策[J]. 姜燮昌. 真空. 2007(02)
[2]柱弧離子鍍制備Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC黑色硬質(zhì)膜[J]. 馬勝歌,姜翠寧. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2006(04)
[3]大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二)[J]. 龔建華,張永勝,柳俊文. 真空. 2006(03)
[4]大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(一)[J]. 龔建華,柳俊文,張永勝. 真空. 2006(02)
[5]分子/增壓泵的結(jié)構(gòu)、性能及其應(yīng)用[J]. 儲(chǔ)繼國(guó). 真空. 2006(01)
[6]氣離濺射離子鍍制氮化鈦[J]. 董騏,羅蓉平,張守忠,杜建,鐘鋼,田凱,文學(xué)春,劉祥武. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2005(01)
[7]渦輪分子泵參數(shù)化設(shè)計(jì)軟件[J]. 鐘亮,王曉冬,巴德純. 真空. 2004(02)
[8]鍍膜工藝與鍍膜系統(tǒng)配置[J]. 伊恩·史蒂文森,弗蘭克·澤蒙,戴爾·莫頓,馮學(xué)麗. 真空科學(xué)與技術(shù). 2003(06)
[9]真空浸漬工藝的研究與應(yīng)用[J]. 段永濤,張德翱. 真空. 2003(04)
[10]烷/炔氣低溫沉積TiC黑膜的研究[J]. 張海軍. 真空. 2001(06)
碩士論文
[1]多重牽引分子泵的的性能測(cè)試及其應(yīng)用[D]. 王雅婷.合肥工業(yè)大學(xué) 2003
本文編號(hào):3585395
【文章來(lái)源】:合肥工業(yè)大學(xué)安徽省 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁(yè)數(shù)】:65 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖2一11分子/增壓泵與渦輪分子泵轉(zhuǎn)子對(duì)比示意圖
火 火 火 火 火 火 火火、 ~~~P(Pa)圖3一5分子蹭壓泵抽速測(cè)試曲線 3.2.2 3.2.2分子/增壓泵極限真空測(cè)試測(cè)試裝置分子/增壓泵極限真空測(cè)試裝置如圖3一6所示,分子/增壓泵型號(hào)為MB20OB。圖3一6分子/增壓泵極限真空測(cè)試測(cè)試罩經(jīng)超高真空清洗后,放入高真空除氣爐中950℃除氣一個(gè)小時(shí),使材料內(nèi)部H:含量降低2個(gè)數(shù)量級(jí)以上,從而有效地降低測(cè)試系統(tǒng)的本底負(fù)載。測(cè)試罩直接與分子/增壓泵連接,前級(jí)泵采用LEYBOLD公司的 TRIVAC30C直聯(lián)旋片泵,抽速SUs。全壓力低真空測(cè)量采用 LEYBOLDDM12真空計(jì),配用TTR301熱電阻規(guī)管
2.70x10一5】 6.50x10一5 1.80x10礴】 5.00x10一3(2)殘余氣體質(zhì)譜圖3一7和3一8為烘烤前后系統(tǒng)的殘余氣體棒圖。圖3一7分子/增壓泵烘烤前殘余氣體棒圖圖3一8分子/增壓泵烘烤后殘余氣體棒圖烘烤前總壓強(qiáng)為 3x10一5砒 ar(3x10一,Pa),其中HZo分壓和eo(NZ)分壓最高,然后依次是02、eoZ、HZ、搶、He,碳?xì)浠衔?exHy)為 5X10一,汕ar(sxlo一7Pa)。烘烤后總壓強(qiáng)為sxlo一7mbar(sxlo一SPa),其中,HZO分壓最高,接近總壓強(qiáng)
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]真空獲得技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)與對(duì)策[J]. 姜燮昌. 真空. 2007(02)
[2]柱弧離子鍍制備Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC黑色硬質(zhì)膜[J]. 馬勝歌,姜翠寧. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2006(04)
[3]大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(二)[J]. 龔建華,張永勝,柳俊文. 真空. 2006(03)
[4]大平面玻璃基片磁控濺射真空鍍膜簡(jiǎn)介(一)[J]. 龔建華,柳俊文,張永勝. 真空. 2006(02)
[5]分子/增壓泵的結(jié)構(gòu)、性能及其應(yīng)用[J]. 儲(chǔ)繼國(guó). 真空. 2006(01)
[6]氣離濺射離子鍍制氮化鈦[J]. 董騏,羅蓉平,張守忠,杜建,鐘鋼,田凱,文學(xué)春,劉祥武. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2005(01)
[7]渦輪分子泵參數(shù)化設(shè)計(jì)軟件[J]. 鐘亮,王曉冬,巴德純. 真空. 2004(02)
[8]鍍膜工藝與鍍膜系統(tǒng)配置[J]. 伊恩·史蒂文森,弗蘭克·澤蒙,戴爾·莫頓,馮學(xué)麗. 真空科學(xué)與技術(shù). 2003(06)
[9]真空浸漬工藝的研究與應(yīng)用[J]. 段永濤,張德翱. 真空. 2003(04)
[10]烷/炔氣低溫沉積TiC黑膜的研究[J]. 張海軍. 真空. 2001(06)
碩士論文
[1]多重牽引分子泵的的性能測(cè)試及其應(yīng)用[D]. 王雅婷.合肥工業(yè)大學(xué) 2003
本文編號(hào):3585395
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