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雜質(zhì)磷對單晶硅微結(jié)構(gòu)疲勞特性的影響

發(fā)布時間:2018-02-12 08:01

  本文關(guān)鍵詞: MEMS 單晶硅 摻磷 疲勞可靠性 彎曲測試結(jié)構(gòu) 片外彎曲測試裝置 疲勞壽命模型 出處:《國防科學(xué)技術(shù)大學(xué)》2012年碩士論文 論文類型:學(xué)位論文


【摘要】:硅是微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS: Microelectromechanical Systems)中最常用的功能結(jié)構(gòu)材料之一,,其疲勞特性在硅基MEMS可靠性中有著重要地位。通過疲勞試驗數(shù)據(jù)和現(xiàn)象來認(rèn)知硅疲勞是目前普遍采用的方法,但由于影響硅疲勞的因素繁多,因此效果并不理想。盡管對硅疲勞特性的研究已有二十載,在測試手段、疲勞壽命建模、疲勞機(jī)理等方面取得了一些進(jìn)展,但沒能給出廣為接受的硅疲勞理論。本文著眼于提高單晶硅微結(jié)構(gòu)的疲勞可靠性,著重研究了單因素——摻磷(一種常用的電活性雜質(zhì))——對單晶硅疲勞特性的影響。主要研究內(nèi)容及結(jié)論如下: 1.針對各向異性濕法體硅工藝的特點,設(shè)計了一種既新穎又經(jīng)濟(jì)的試樣結(jié)構(gòu),利用有限元分析確定結(jié)構(gòu)的尺寸;設(shè)計掩膜版和工藝流程,制備了六組不同摻磷濃度的試樣;設(shè)計了一種簡易的片外彎曲測試系統(tǒng),通過調(diào)整和改進(jìn),整個系統(tǒng)的測試性能可滿足使用要求。 2.研究了雜質(zhì)磷對單晶硅微梁彎曲強(qiáng)度的影響。由強(qiáng)度測試數(shù)據(jù)可知,摻磷對單晶硅微梁的彎曲強(qiáng)度有明顯的增強(qiáng)作用。其作用機(jī)理為:雜質(zhì)磷能提高部分原子鍵的斷裂難度和產(chǎn)生新表面的能量。 3.研究了雜質(zhì)磷對單晶硅微梁彎曲疲勞特性的影響。首先根據(jù)強(qiáng)度信息確定疲勞加載應(yīng)力,進(jìn)行疲勞測試;然后建立疲勞斷裂概率模型;最后由疲勞測試數(shù)據(jù)和疲勞模型擬合得到材料常數(shù)C和n,通過對C和n隨摻磷濃度變化趨勢的分析得知,摻磷對單晶硅的疲勞特性有比較明顯的改善。其機(jī)理是:雜質(zhì)磷能提高單晶硅阻礙裂紋萌生和擴(kuò)展的能力。 經(jīng)上述研究,本文發(fā)現(xiàn)了摻磷對單晶硅強(qiáng)度及疲勞特性的影響規(guī)律,這對硅基MEMS的相關(guān)可靠性設(shè)計有一定的參考價值。
[Abstract]:Silicon is one of the most commonly used functional structural materials in MEMS (Microelectromechanical Systems), and its fatigue characteristics play an important role in the reliability of silicon-based MEMS. But because there are many factors that affect the fatigue of silicon, the effect is not satisfactory. Although the research on the fatigue characteristics of silicon has been 20 years, some progress has been made in testing methods, fatigue life modeling, fatigue mechanism, etc. However, the widely accepted theory of silicon fatigue has not been given. The purpose of this paper is to improve the fatigue reliability of monocrystalline silicon microstructures. The effect of single factor -doped phosphorus (a commonly used electrically active impurity) on the fatigue properties of monocrystalline silicon is studied. The main contents and conclusions are as follows:. 1. According to the characteristics of anisotropic wet bulk silicon process, a new and economical sample structure is designed, the size of the structure is determined by finite element analysis, and six groups of samples with different phosphorus concentration are prepared by designing mask plate and technological process. A simple out-of-chip bending testing system is designed. Through adjustment and improvement, the testing performance of the whole system can meet the requirements of application. 2. The influence of impurity phosphorus on the bending strength of monocrystalline silicon microbeam is studied. Phosphorus doping can obviously enhance the bending strength of monocrystalline silicon microbeams. The mechanism is that phosphorus impurity can increase the fracture difficulty of some atomic bonds and produce the energy of new surface. 3. The influence of phosphorus impurity on the bending fatigue characteristics of single crystal silicon microbeam is studied. Firstly, the fatigue loading stress is determined according to the strength information, and then the fatigue fracture probability model is established. Finally, the material constants C and n were obtained by fitting the fatigue test data and fatigue model, and the change trend of C and n with the concentration of phosphorus was analyzed. The mechanism is that phosphorus impurity can improve the ability of single crystal silicon to prevent crack initiation and propagation. Based on the above studies, the influence of phosphorus doping on the strength and fatigue characteristics of monocrystalline silicon has been found, which has a certain reference value for the reliability design of silicon-based MEMS.
【學(xué)位授予單位】:國防科學(xué)技術(shù)大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2012
【分類號】:TH-39;TB34

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本文編號:1505155

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