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基于氧化鋅納米材料的阻變存儲(chǔ)器研究

發(fā)布時(shí)間:2017-09-26 15:24

  本文關(guān)鍵詞:基于氧化鋅納米材料的阻變存儲(chǔ)器研究


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【摘要】:由金屬-氧化物-半導(dǎo)體構(gòu)成的浮動(dòng)?xùn)艠O硅基Flash存儲(chǔ)器,因其高存儲(chǔ)密度和低能耗,成為當(dāng)前最先進(jìn)非易失性存儲(chǔ)器的代表,占據(jù)存儲(chǔ)器市場(chǎng)份額的百分之四十。但Flash存儲(chǔ)器也存在明顯的不足,比如低操作速度、低耐久性、高寫(xiě)入電壓。同時(shí),因物理極限導(dǎo)致的大漏電流,在不久的將來(lái),可能會(huì)使Flash存儲(chǔ)器達(dá)到集成極限。為了克服Flash存儲(chǔ)器的不足,新型非易失性存儲(chǔ)器應(yīng)運(yùn)而生。其中,非易失性阻變存儲(chǔ)器(RRAM)以存儲(chǔ)密度高、操作速度快、穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),將成為主流存儲(chǔ)器的有力競(jìng)爭(zhēng)者。本文介紹了新型非易失性存儲(chǔ)器和非易失性阻變存儲(chǔ)器出現(xiàn)的背景、研究現(xiàn)狀及存在的問(wèn)題;制備了基于ZnO納米線及納米薄膜的阻變存儲(chǔ)器件單元;通過(guò)掃描電子顯微鏡、透射電子顯微鏡、光致熒光、X射線衍射等手段,進(jìn)行表征分析;并對(duì)基于ZnO納米線及納米薄膜的阻變存儲(chǔ)器進(jìn)行了測(cè)試和分析,對(duì)阻變現(xiàn)象和阻變機(jī)理進(jìn)行了研究。本文得到的結(jié)論如下:1.在基于ZnO納米線的Au/ZnO/Au器件中,出現(xiàn)了雙極性的電阻轉(zhuǎn)變,ZnO納米線表面氧空位的移動(dòng)在阻變中起到了重要的作用。在器件性能方面,其阻變電壓較高、循環(huán)穩(wěn)定性和阻態(tài)保持時(shí)間尚不理想,還需要研究改善。2.在基于ZnO納米薄膜的Ti/ZnO/Pt器件中,出現(xiàn)了雙極性的電阻轉(zhuǎn)變,其阻變行為是由ZnO納米薄膜中氧空位的遷移導(dǎo)致。器件具有相對(duì)較高的電阻開(kāi)關(guān)比,而循環(huán)穩(wěn)定性和阻態(tài)保持時(shí)間則需要提高。同時(shí)發(fā)現(xiàn),在薄膜厚度為35nm時(shí)出現(xiàn)阻變行為,90nm時(shí)未發(fā)現(xiàn)阻變行為,可見(jiàn)薄膜厚度對(duì)阻變現(xiàn)象有重要影響。
【關(guān)鍵詞】:非易失性存儲(chǔ)器 非易失性阻變存儲(chǔ)器 ZnO納米材料 阻變現(xiàn)象 阻變機(jī)理
【學(xué)位授予單位】:浙江大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類(lèi)號(hào)】:TB383.1;TP333
【目錄】:
  • 致謝5-6
  • 摘要6-7
  • Abstract7-11
  • 第一章 緒論11-30
  • 1.1 引言11
  • 1.2 半導(dǎo)體存儲(chǔ)器11-13
  • 1.2.1 半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的發(fā)展現(xiàn)狀11-12
  • 1.2.2 半導(dǎo)體存儲(chǔ)器面臨的局限12-13
  • 1.3 新型非易失性存儲(chǔ)器13-16
  • 1.3.1 鐵電存儲(chǔ)器13-14
  • 1.3.2 相變存儲(chǔ)器14
  • 1.3.3 磁阻存儲(chǔ)器14-15
  • 1.3.4 阻變存儲(chǔ)器15-16
  • 1.4 非易失性阻變存儲(chǔ)器16-27
  • 1.4.1 阻變現(xiàn)象16-17
  • 1.4.2 阻變機(jī)理17-22
  • 1.4.3 阻變材料22-23
  • 1.4.4 器件參數(shù)23-27
  • 1.5 ZnO的結(jié)構(gòu)、性質(zhì)以及在阻變存儲(chǔ)器中的應(yīng)用27-28
  • 1.5.1 ZnO的結(jié)構(gòu)、性質(zhì)27-28
  • 1.5.2 ZnO在阻變存儲(chǔ)器中的應(yīng)用28
  • 1.6 本文的選題依據(jù)和研究?jī)?nèi)容28-30
  • 第二章 基于ZnO納米材料的阻變存儲(chǔ)器制備和表征30-37
  • 2.1 實(shí)驗(yàn)材料和儀器設(shè)備30
  • 2.1.1 實(shí)驗(yàn)材料30
  • 2.1.2 儀器設(shè)備30
  • 2.2 基于ZnO納米材料的阻變存儲(chǔ)器制備30-32
  • 2.2.1 基于ZnO納米線的阻變存儲(chǔ)器制備30-31
  • 2.2.2 基于ZnO納米薄膜的阻變存儲(chǔ)器制備31-32
  • 2.3 表征分析32-36
  • 2.3.1 掃描電子顯微鏡32-34
  • 2.3.2 透射電子顯微鏡34
  • 2.3.3 光致熒光34-35
  • 2.3.4 X射線衍射35-36
  • 2.4 本章小結(jié)36-37
  • 第三章 基于ZnO納米材料阻變存儲(chǔ)器的電學(xué)特性測(cè)試和分析37-50
  • 3.1 基于ZnO納米線阻變存儲(chǔ)器的電學(xué)特性測(cè)試和分析37-42
  • 3.1.1 測(cè)試過(guò)程和結(jié)果37-38
  • 3.1.2 測(cè)試結(jié)果分析38-42
  • 3.2 基于ZnO納米薄膜阻變存儲(chǔ)器的電學(xué)特性測(cè)試和分析42-49
  • 3.2.1 測(cè)試過(guò)程和結(jié)果42-44
  • 3.2.2 測(cè)試結(jié)果分析44-49
  • 3.3 本章小結(jié)49-50
  • 第四章 總結(jié)與展望50-51
  • 參考文獻(xiàn)51-55

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本文編號(hào):924265

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