為了滿足人們對硬盤驅(qū)動器存儲容量的需求,將磁盤的存儲密度提高到100Gbit/in2,磁頭和磁性媒介之間的空間（HMS）不可避免地要進一步的減少。但HMS的減少意味著飛行高度的降低,在極低的飛行高度下,磁盤表面形貌會影響磁頭飛行的穩(wěn)定性,而由于磁頭讀取數(shù)據(jù)的工作特性,在讀取數(shù)據(jù)的啟停階段,磁頭與磁盤的接觸碰撞的不可避免。因此研究磁盤表面形貌對磁頭磁盤界面空氣軸承潤滑性能的影響以及磁盤界面在接觸過程中的應(yīng)力應(yīng)變狀態(tài)和摩擦學(xué)性能,對提高磁頭/磁盤界面工作性能具有重要的參考意義。本文在連續(xù)性方程和N-S方程的基礎(chǔ)上,利用F-K模型對磁頭/磁盤界面稀薄氣體的雷諾方程進行修正。在修正雷諾方程的基礎(chǔ)上引入了磁盤表面粗糙度,在不同的粗糙度模式下建立了平板型和雙軌型磁頭滑塊模型。利用有限元法對磁頭滑塊承載面的壓力分布進行了求解,對比分析了不同的粗糙模式以及飛高、波數(shù)對空氣軸承性能的影響,并比較了磁頭滑塊形貌對壓力分布的影響。建立了磁頭滑塊和磁盤接觸碰撞的簡化模型。在準靜態(tài)的條件下,對剛性半球與磁盤多層體半彈性空間的接觸滑動進行了仿真分析。對比分析了純擠壓和滑動接觸下磁盤多層體von Mises應(yīng)力、拉... 

【文章來源】：哈爾濱工業(yè)大學(xué)黑龍江省 211工程院校 985工程院校

【文章頁數(shù)】：80 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

平板模型承載面三維壓力分布

糙度模式 c)縱向粗圖 2-5 平板模型承載面三維壓力等值線)，b)，c)圖可知，兩種模式下的粗糙度對磁頭域是大致相同的，主要集中在空氣軸承出氣口有了明顯的波動，而高壓區(qū)的的壓力分布受磁

的變化趨勢和平板型是相同的。對比圖 2-6 和 2-力和承載力要比平板型滑塊的小很多，分別為818%。說明雙軌型磁頭有助于減小承載力，避免(2-22)計算可得：未考慮磁盤粗糙度時傾覆力矩為糙度模式下的傾覆力矩分別為 0.00359 N·m 和 0.0。


本文編號：3066255