本文關(guān)鍵詞：鋁合金表面微弧氧化工藝條件研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】： 本論文在分析大量國內(nèi)外文獻的基礎(chǔ)上，，對微弧氧化技術(shù)研究現(xiàn)狀、 應(yīng)用前景和應(yīng)用領(lǐng)域進行了綜述，并對微弧氧化技術(shù)所涉及的理論基礎(chǔ)知 識進行了概括。 重點是實驗研究部分，在該部分中主要研究了微弧氧化的電流密度、 氧化時間、溶液體系的成分、不同基體材料等對在鋁合金表面微弧氧化制 備陶瓷膜層的影響，通過實驗找出了能制得性能優(yōu)異的陶瓷膜層的條件。 初步探討了鋁合金試樣表面陶瓷化成膜的機理，對不同實驗條件下制備的 陶瓷膜的形貌、結(jié)構(gòu)、硬度和厚度等性能進行了測試分析，研究了影響陶 瓷膜層性能（厚度、硬度、附著強度、耐磨性、耐腐蝕性等）的主要因素。 實驗研究和理論分析表明：電流密度40～60A/dm~2，微弧氧化時間 60～90min，一定的工作電壓輸出是能發(fā)生微弧氧化的較好條件。其中電 流密度、工作電壓是決定能否發(fā)生微弧氧化的關(guān)鍵因素；在一定的氧化時 間范圍內(nèi)，氧化時間的長短是決定微弧氧化膜層厚度的根本因素；而溶液 體系的成分、基體材料的組成等雖對微弧陶瓷膜層有一定的影響，但影響 不是很大。 微弧氧化制備的陶瓷膜層主要由α—A1_2O_3和γ—Al_2O_3組成，具有孔 隙率低、擊穿電壓高、硬度高、耐磨性好、耐腐蝕能力強、抗熱震性和抗 熱沖擊性好等優(yōu)異性能。 由于微弧氧化技術(shù)能在鋁材表面原位生長陶瓷膜層，從而它把第二代 工程材料（鋁合金材料）與第三代工程材料（陶瓷材料）的優(yōu)點結(jié)合了在 一起，使得微弧氧化技術(shù)能夠滿足許多尖端技術(shù)的需要，在軍工、航空、 航天、機械、紡織、汽車、醫(yī)療、電子和裝飾等許多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前 景。
【關(guān)鍵詞】：微弧氧化 鋁合金 陶瓷層
【學(xué)位授予單位】：昆明理工大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2001
【分類號】：TG175.3
【目錄】：

• 第一章 緒論42-53
• 1．1 微弧氧化的發(fā)展與現(xiàn)狀42-51
• 1．1．1 工藝機理研究發(fā)展42-45
• 1．1．2 膜層的制備方法45-48
• 1．1．3 影響制備的因素48-49
• 1．1．4 膜層結(jié)構(gòu)與性能及其應(yīng)用領(lǐng)域49-51
• 1．1．5 小 結(jié)51
• 1．2 本課題的提出及其研究的意義51-52
• 1．3 本課題研究的內(nèi)容52-53
• 第二章 理論基礎(chǔ)53-70
• 2．1 鋁及其鋁合金和氧化鋁53-57
• 2．1．1 工業(yè)純鋁53
• 2．1．2 鋁合金53-57
• 2．1．3 氧化鋁57
• 2．2 陶瓷57-62
• 2．2．1 陶瓷概述57-59
• 2．2．2 陶瓷的顯微結(jié)構(gòu)59-60
• 2．2．3 特種陶瓷60-62
• 2．3 等離子體62-63
• 2．3．1 等離子體的概念62
• 2．3．2 氧等離子體62-63
• 2．4 陽極氧化反應(yīng)63-66
• 2．4．1 陽極氧化過程與電壓的對應(yīng)關(guān)系63-64
• 2．4．2 陽極析氧反應(yīng)的過程64-65
• 2．4．3 陽極析氧反應(yīng)的機理65-66
• 2．5 膠體的運動性質(zhì)66-67
• 2．6 固態(tài)電介質(zhì)的擊穿67-69
• 2．6．1 固態(tài)電介質(zhì)的擊穿及其分類67-68
• 2．6．2 固態(tài)電介質(zhì)擊穿的特性68
• 2．6．3 陽極阻擋層的電擊穿68-69
• 2．7 小結(jié)69-70
• 第三章 實驗研究70-103
• 3．1 實驗設(shè)備70-71
• 3．1．1 微弧氧化電源70
• 3．1．2 電解槽70-71
• 3．1．3 攪拌系統(tǒng)71
• 3．1．4 其它設(shè)備或儀器71
• 3．2 實驗基本操作步驟71-72
• 3．3 微弧氧化工藝條件研究72-103
• 3．3．1 電流密度研究72-77
• 3．3．1．1 實驗方法72-73
• 3．3．1．2 實驗結(jié)果與討論73-77
• 3．3．2 微弧氧化時間研究77-81
• 3．3．2．1 實驗方法77
• 3．3．2．2 實驗結(jié)果與討論77-81
• 3．3．3 溶液體系的研究81-87
• 3．3．3．1 實驗方法81-82
• 3．3．3．2 實驗結(jié)果與討論82-87
• 3．3．4 不同基體材料的研究87-95
• 3．3．4．1 實驗方法87
• 3．3．4．2 實驗結(jié)果與討論87-95
• 3．3．5 微弧氧化機理的推測95-101
• 3．3．6 小結(jié)101-103
• 第四章 結(jié)論103-107
• 4．1 影響制備陶瓷層的因素103-104
• 4．2 微弧氧化陶瓷膜層104-105
• 4．3 微弧氧化的機理105-107
• 參考文獻107-112
• 致謝112

【引證文獻】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前3條

1 祝曉文;韓建民;崔世海;王金華;;鋁、鎂合金微弧氧化技術(shù)研究進展[J];材料科學(xué)與工藝;2006年04期

2 賀永勝,趙志龍,劉一洋,劉林;鋁合金微弧氧化熱力學(xué)機理及影響因素的分析[J];電鍍與環(huán)保;2005年06期

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中國博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前2條

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9 崔麗華;鑄造鋁合金微弧氧化工藝及其優(yōu)化[D];長安大學(xué);2009年

10 李康;鎂鋰合金微弧氧化陶瓷膜的制備及耐腐蝕性能[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2008年

  本文關(guān)鍵詞：鋁合金表面微弧氧化工藝條件研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

本文編號：491492