本文關(guān)鍵詞：硅溶膠化學(xué)機(jī)械拋光液的研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：21世紀(jì)國力的競爭歸根到底為先進(jìn)制造能力的競爭，在信息時(shí)代的今天，主要表現(xiàn)為對電子產(chǎn)業(yè)先進(jìn)制造能力的競爭。目前，電子產(chǎn)品的先進(jìn)制造業(yè)的快速發(fā)展方向?yàn)楦呔取⒏咝阅�、高集成度以及可靠�?因此，對加工工件表面的局部平整度和整體平整度都提出了前所未有的高要求（要求達(dá)到亞納米量級的表面粗糙度），但是國際上普遍認(rèn)為，，加工工件特征尺寸在0.35μm以下時(shí)，必須進(jìn)行全局平坦化，而化學(xué)機(jī)械拋光不但集中了化學(xué)拋光和機(jī)械拋光的綜合優(yōu)點(diǎn)，也是目前唯一可以提供整體平面化的表面精加工技術(shù)就是超精密化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)。本文主要研究硅溶膠化學(xué)機(jī)械拋光液。 首先對化學(xué)機(jī)械拋光液的配方進(jìn)行了設(shè)計(jì)，確定其組分及其在拋光過程中的作用；其次，用檸檬酸、磷酸、草酸、兩種有機(jī)胺作為拋光液pH值調(diào)節(jié)劑，研究不同種類的PH值調(diào)節(jié)劑配制不同大小的pH值拋光液在不同拋光時(shí)間內(nèi)對鋁合金表面拋光質(zhì)量的影響；然后，通過改變拋光液中氧化劑的含量研究氧化劑濃度對鋁合金表面拋光質(zhì)量的影響，并對鋁合金表面形貌進(jìn)行了分析；除此以外還研究了拋光液中硅溶膠固含量對鋁合金表面拋光質(zhì)量的影響；最后研究了pH值和不同種類的表面活性劑對拋光液穩(wěn)定性能的影響。 通過對鋁合金表面的粗糙度、光澤度、金相顯微結(jié)構(gòu)、表面形貌、表面元素分析以及不同時(shí)間拋光液的透光率等測試，研究表明，拋光液的pH值、氧化劑濃度、硅溶膠濃度等嚴(yán)重影響著鋁合金表面的拋光質(zhì)量。其中，在拋光液中加入堿性pH值調(diào)節(jié)劑有機(jī)胺A，調(diào)節(jié)拋光液pH值為9.5拋光90分鐘時(shí)拋光效果最好。在此基礎(chǔ)上，氧化劑含量為0.06%，拋光液中共硅溶膠固含量為42%時(shí)對鋁合金表面拋光質(zhì)量最好。拋光液pH值偏離硅溶膠pH值越小，拋光液穩(wěn)定性越好，并且使用非離子表面活性劑時(shí)拋光液穩(wěn)定性較好。
【關(guān)鍵詞】：化學(xué)機(jī)械拋光液 pH值 氧化劑 固含量 穩(wěn)定性
【學(xué)位授予單位】：河南工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2013
【分類號】：TG175
【目錄】：

• 摘要5-6
• Abstract6-7
• 目錄7-9
• 第一章 緒論9-17
• 1.1 引言9-10
• 1.2 CMP 技術(shù)的發(fā)展10-11
• 1.3 化學(xué)機(jī)械拋光液的應(yīng)用現(xiàn)狀11-14
• 1.3.1 SiO_2 膠體拋光液11-12
• 1.3.2 氧化鈰拋光液12-13
• 1.3.3 氧化鋁拋光液13-14
• 1.3.4 納米金剛石拋光液14
• 1.4 化學(xué)機(jī)械拋光液的研究前景14-15
• 1.5 本文選題的意義和主要研究工作15-17
• 1.5.1 研究背景和意義15
• 1.5.2 本文主要研究內(nèi)容15-17
• 第二章 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容和性能檢測17-23
• 2.1 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)17-19
• 2.1.1 拋光液的組成及其作用17-19
• 2.2 實(shí)驗(yàn)所用原料19-20
• 2.3 拋光液配方設(shè)計(jì)20
• 2.4 實(shí)驗(yàn)流程20
• 2.5 使用設(shè)備及其性能測試20-23
• 2.5.1 拋光液穩(wěn)定性檢測21
• 2.5.2 粗糙度檢測21
• 2.5.3 光澤度檢測21-22
• 2.5.4 金相分析22
• 2.5.5 掃描電子顯微鏡22-23
• 第三章 PH 值對拋光效果的影響23-36
• 3.1 不同酸對鋁合金表面粗糙度的影響23-26
• 3.2 不同有機(jī)堿對鋁合金表面粗糙度的影響26-29
• 3.3 不同酸對鋁合金表面光澤度的影響29-31
• 3.4 不同有機(jī)堿對鋁合金表面光澤度的影響31-32
• 3.5 PH 值對拋光效果的影響32-34
• 3.6 本章小結(jié)34-36
• 第四章 氧化劑對拋光效果的影響36-44
• 4.1 氧化劑對鋁合金表面拋光質(zhì)量的影響36-39
• 4.2 CMP 過程材料單分子層去除機(jī)理39-41
• 4.3 鋁合金表面形貌分析41-43
• 4.4 本章小結(jié)43-44
• 第五章 硅溶膠濃度對拋光效果的影響44-50
• 5.1 不同硅溶膠固含量對鋁合金表面拋光質(zhì)量的影響44-46
• 5.2 鋁合金表面凹陷的形成和去除機(jī)理46-49
• 5.3 本章小結(jié)49-50
• 第六章 拋光液的穩(wěn)定性50-54
• 6.1 PH 值對拋光液穩(wěn)定性的影響50-51
• 6.2 表面活性劑對拋光液穩(wěn)定性的影響51-53
• 6.3 本章小結(jié)53-54
• 第七章 結(jié)論54-55
• 7.1 結(jié)論54
• 7.2 創(chuàng)新點(diǎn)54-55
• 參考文獻(xiàn)55-58
• 致謝58-59
• 個(gè)人簡歷59

【參考文獻(xiàn)】

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  本文關(guān)鍵詞：硅溶膠化學(xué)機(jī)械拋光液的研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

本文編號：488218