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DD98M納米晶AlSi滲復(fù)合涂層的制備及抗高溫腐蝕性能研究

發(fā)布時(shí)間:2022-07-20 17:57
  在單晶高溫合金表面施加同成份的納米晶涂層可避免由于涂層與基體互擴(kuò)散導(dǎo)致的有害脆性相的形成,并顯著提高合金基體的抗高溫氧化性能,但納米晶涂層的抗熱腐蝕性能有待提高。為此,本文對(duì)納米晶涂層進(jìn)行了滲AlSi改性,制備了一種新型納米晶復(fù)合涂層,研究了納米晶復(fù)合涂層的氧化及熱腐蝕行為。論文中的主要研究結(jié)果如下:采用磁控濺射技術(shù),在DD98M單晶高溫合金上沉積了厚度約為25微米的同成份的納米晶涂層,然后,在其上采用多弧離子鍍技術(shù)沉積了厚度約為5-15微米的AlSi涂層。對(duì)沉積態(tài)納米晶+AlSi復(fù)合涂層進(jìn)行真空熱擴(kuò)散處理,研究了真空退火溫度和時(shí)間、AlSi層厚度和Si含量對(duì)涂層組織結(jié)構(gòu)的影響。沉積態(tài)納米晶+AlSi復(fù)合涂層分別在750℃、870℃和1080℃真空退火后,涂層均形成三層結(jié)構(gòu):外層疏松多孔,為Ni2Al3相(750℃退火)或β-NiAl相(870℃和1080℃退火);中間層為β-NiAl相,其中分布著帶狀富Cr、Si的相,內(nèi)層為γ′-Ni3Al相,彌散分布著不同數(shù)量的富W、Ta等元素的沉淀相。AlSi層Si含量和厚度對(duì)納米... 

【文章頁(yè)數(shù)】:86 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

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幾種高溫涂層抗高溫氧化和熱腐蝕性能比較

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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本文編號(hào):3664475

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