相控陣技術(shù)一經(jīng)出現(xiàn)就由于其優(yōu)良的性能得到了廣泛的關(guān)注和應(yīng)用。在雷達(dá)中,通過(guò)電掃描,相控陣能夠從一個(gè)目標(biāo)瞬間轉(zhuǎn)換到另一個(gè)目標(biāo),增強(qiáng)了捕獲或跟蹤多個(gè)目標(biāo)的概率。將相控陣用于雷達(dá)干擾系統(tǒng)時(shí),也可以得到與雷達(dá)同樣的靈活性。干擾機(jī)可以將其干擾功率分配到多個(gè)威脅,也可以立即從一個(gè)威脅轉(zhuǎn)移到另一個(gè)威脅。本文通過(guò)分析相控陣的工作原理,在跟蹤國(guó)內(nèi)外干擾技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展方向的基礎(chǔ)上,通過(guò)理論分析和實(shí)驗(yàn)室仿真,結(jié)合具體的工程應(yīng)用,對(duì)基于相控陣的干擾技術(shù)進(jìn)行了深入研究,提出了固態(tài)大功率相控陣干擾技術(shù)的工程化設(shè)計(jì)和實(shí)施方案,初步解決了目前對(duì)多目標(biāo)多方位干擾技術(shù)的工程實(shí)現(xiàn)問(wèn)題。實(shí)際設(shè)計(jì)的干擾機(jī)工作在P波段,采用有源相控陣的方式,天線陣為10行4列的平面陣排布,天線單元采用對(duì)數(shù)周期偶極子天線,每個(gè)天線單元后接一個(gè)大功率固態(tài)功放。發(fā)射功率通過(guò)空間合成的形式輸出,最大可達(dá)兆瓦量級(jí)。發(fā)射波束為方位同時(shí)雙波束,可同時(shí)對(duì)兩個(gè)方向的目標(biāo)進(jìn)行干擾。每個(gè)波束可在方位面±45°范圍內(nèi)進(jìn)行掃描。通過(guò)系統(tǒng)測(cè)試及外場(chǎng)試驗(yàn),系統(tǒng)性能滿足總體使用要求。 

【文章來(lái)源】：復(fù)旦大學(xué)上海市 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

天線單元仿真模型

注：該天線承受功率>300W (CW)o該天線弟元主體部分由銅管燥接而成，輸出接頭為N型。實(shí)物照片如圖3-7所示： \ \ ： .!i.-.ijfciiihi -.—*<1—*.- j.^..Jli..ui-i. .. 1 ■ . ■ I. __- ■ J j圖3-7對(duì)數(shù)周期偶極子天線實(shí)物照片3.2.1.4天線單元性能的測(cè)試天線單元選定以后，我們對(duì)其方向圖、波瓣寬度、增益及駐波等重要指標(biāo)進(jìn)行了實(shí)際測(cè)試，以確定其在滿足系統(tǒng)使用要求的前提下的組陣形式。首先對(duì)天線單元的方向圖進(jìn)行測(cè)試，為了保證測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性，測(cè)試是在微波暗室，通過(guò)一套自動(dòng)測(cè)試系統(tǒng)進(jìn)行。天線方向圖曲線分H面和E面，即方位面和俯仰面。測(cè)試結(jié)果如圖3-8所示。28

圖3-9天線駐波測(cè)試框圖測(cè)試結(jié)果如圖3-10所示。,Hie"“Trace/Ch#nItesponse""”Mdcter/Analysts Utility"“Help ‘Trace 1 Scaie Per Dmsmsh fs^CNXK) mOnits [3PliAjAiiWRU站UMI 」I ‘ II . I 痛議^i ； :: I ~1 ‘ j F I 1.3S5C ji ! . ? i ‘5.50 ！ 1 1 f i I ； ； ；5.00 [? 丨 丨 i ； i ‘4 .50 I \ ！ 丨 ！ ^ 4.00 I f \ ！ ！ 1 1 i： ； ！ I！ ‘ ； ‘ Ii .1 . .■ t …， ^ 1" —- ！ ? - T “ ■‘卜一…? ！;： I ； ！zoo ； ““"”^ ！ ii ； i1 ； ； ： it 廣 丁 ] "~r i ：1.如?！ i ； ) 1 L: L. i i i 1 '>Chl：Start fi MHz— Stop f2 Mm?<^ CHI 1 ￠01004 C t'POft 塗 .處. ?圖3-10天線單元駐波測(cè)試曲線圖3-10中曲線說(shuō)明，在整個(gè)測(cè)試頻段內(nèi)，天線駐波均小于1.5，與設(shè)計(jì)值非常吻八口 03.2.2天線陣列設(shè)計(jì)有了天線單元的性能指標(biāo)數(shù)據(jù)以后，相當(dāng)于單元因子己經(jīng)確定，下面就要結(jié)合總體指標(biāo)要求，考慮陣因子，即陣面組陣形式及饋電等。31

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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[2]某相控陣?yán)走_(dá)液冷流量分配系統(tǒng)研究[J]. 關(guān)宏山.  電子機(jī)械工程. 2011(04)
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