本文關鍵詞：磁控濺射用難熔金屬靶材制作、應用與發(fā)展

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【摘要】：隨著磁控濺射技術應用日益廣泛,難熔金屬靶材需求不斷增大。就難熔金屬靶材應用、制備及發(fā)展進行總結和探討,分析了制作過程中致密度、純度、晶粒尺寸及結晶取向對靶材性能的影響,并對難熔金屬靶材的發(fā)展趨勢進行展望。
【作者單位】： 北京有色金屬研究總院;邢臺軋輥機電工程有限公司;
【關鍵詞】： 磁控濺射 高純難熔金屬 靶材
【分類號】：TB383.2;TG14
【正文快照】： 近年來,通過表面改性技術制備薄膜材料的方法主要有化學氣相沉積(chemical vapor deposition,CVD)、溶膠-凝膠法(sol-gel)和物理氣相沉積(physical vapor deposition,PVD)等,其中PVD制備過程所需要的濺射靶材市場需求量日趨增多。據統(tǒng)計,全球靶材市場需求量每年以20%的速度增

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