本文關(guān)鍵詞：強(qiáng)流脈沖電子束能量密度對(duì)TiAlN涂層微觀組織和硬度的影響

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【摘要】：采用不同能量密度的電子束對(duì)硬質(zhì)合金刀具Ti Al N涂層進(jìn)行轟擊處理,研究了電子束能量密度對(duì)Ti Al N涂層表面改性后的微觀組織和硬度的影響。利用掃描電鏡(SEM)、能譜分析(EDS)、X射線衍射儀(XRD)分別對(duì)Ti Al N涂層進(jìn)行表面形貌觀察、元素分析和物相分析,并對(duì)涂層表面進(jìn)行粗糙度和顯微硬度測(cè)試。結(jié)果表明,隨著能量密度的增加,涂層表面更趨于致密。在相同的能量密度1.75 J·cm~(-2)下,采用相對(duì)較低的陰極加速電壓7 k V和較高電流強(qiáng)度130 A轟擊時(shí),涂層表面粗糙度最低達(dá)0.15μm。經(jīng)電子束轟擊后的Ti Al N相衍射峰相對(duì)強(qiáng)度有所提高;涂層相衍射峰不同程度地向高角度偏移,并且同樣能量密度條件下加速電壓越高,偏移角度越大;同時(shí)涂層相衍射峰有一定寬化趨勢(shì)。表明電子束轟擊后Ti Al N涂層產(chǎn)生較大的壓應(yīng)力和熱應(yīng)力,使晶粒細(xì)化,并且在一定的熱應(yīng)力驅(qū)動(dòng)下有利于原子擴(kuò)散,形成較寬的過(guò)渡層,從而提高涂層和基體間結(jié)合力。顯微硬度隨著能量密度的增加呈上升趨勢(shì),而相同的能量密度條件,加速電壓的提高有助于涂層表面硬化。
【作者單位】： 沈陽(yáng)理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;東北大學(xué)材料電磁過(guò)程研究教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 電子束 能量密度 Ti Al N涂層 粗糙度 顯微硬度
【基金】：國(guó)家科技重大專項(xiàng)項(xiàng)目(2012ZX04003-061)資助
【分類號(hào)】：TG174.4
【正文快照】： Ti Al N涂層刀具作為新型涂層刀具,具有較高的硬度、較好的抗氧化性和耐磨性,廣泛應(yīng)用在切削加工領(lǐng)域[1]。目前,Ti Al N涂層的制備方法主要以物理氣相沉積(PVD)方法為主,并且很多研究學(xué)者對(duì)Ti Al N涂層形成過(guò)程、微觀結(jié)構(gòu)和性能進(jìn)行了研究[2-3]。研究發(fā)現(xiàn),利用PVD方法沉積的涂

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本文編號(hào)：797564