異步軋制硅鋼表面納米結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性與滲硅行為
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【摘要】:對3%無取向硅鋼進(jìn)行異步軋制以實(shí)現(xiàn)表面納米化,分別在真空和滲硅條件下進(jìn)行不同參數(shù)的熱處理,研究顯微組織、物相和成分的演變.結(jié)果表明:經(jīng)過速比為1.31,軋制道次為20,總壓下量為91%的異步軋制后,板材表面形成了尺寸為10~20 nm,取向呈隨機(jī)分布的納米晶;在真空下升溫,表面納米晶的再結(jié)晶溫度明顯提高;在滲硅劑(Si粉+1%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))鹵化物)中升溫,表面納米晶的再結(jié)晶溫度因外部Si原子沿著缺陷的快速擴(kuò)散而進(jìn)一步提高,使得納米晶界面能夠在更高的溫度下(750℃)發(fā)揮擴(kuò)散通道作用,促進(jìn)Si原子的擴(kuò)散,并在顯著地降低保溫時間和(作為催化劑的)鹵化物含量的同時獲得致密的滲Si層.
【作者單位】: 東北大學(xué)研究院;東北大學(xué)材料電磁過程研究教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】: 硅鋼 異步軋制 表面納米化 熱穩(wěn)定性 滲硅
【基金】:國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃資助項(xiàng)目2012AA03A505~~
【分類號】:TG335;TG161;TG142.1
【正文快照】: Manuscript received 2015-04-21,in revised form 2015-10-27(750℃),that can accelerate the diffusion of Si atoms,therefore dense compound layer can be obtained withinshorter duration and with lower fraction of halide(acts as activator).在化學(xué)熱處理中,當(dāng)非
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,本文編號:727481
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