本文關(guān)鍵詞：電磁磨料漿體射流增壓裝置的研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：低壓連續(xù)供料且能保持射流中磨�；旌暇鶆蛞呀�(jīng)成為磨料射流技術(shù)的發(fā)展趨勢。現(xiàn)有的磨料射流系統(tǒng)存在高壓密封件易損壞、無法連續(xù)工作和需停泵裝砂等缺點,無法保證射流的穩(wěn)定性和連續(xù)性。磁流體推進(jìn)技術(shù)具有內(nèi)部無相對運動部件,且無活動部件常出現(xiàn)的密封和磨損等優(yōu)點,因此,課題組根據(jù)現(xiàn)有磨料射流技術(shù)存在的缺陷并結(jié)合磁流體推進(jìn)技術(shù)的優(yōu)勢,提出在不使用高壓泵(或增壓器)的前提下,采用正交電磁場驅(qū)動導(dǎo)電介質(zhì)并形成射流新方法。目前,相關(guān)參數(shù)對電磁場驅(qū)動導(dǎo)電介質(zhì)并形成射流效果的影響尚未開展,需進(jìn)一步研究與探索,由此引出本課題。論文對電磁磨料漿體射流增壓裝置設(shè)計和實驗研究,主要做了以下工作：通過理論分析和研究水射流打擊力理論并結(jié)合流體運動研究水射流的特性,從宏觀和微觀兩個層面詳細(xì)分析電磁磨料漿體射流技術(shù)的基本原理,確定采用正交電磁場驅(qū)動導(dǎo)流介質(zhì)形成射流的可行性,分析并推導(dǎo)出導(dǎo)電介質(zhì)的速度與流體溶液的密度、電導(dǎo)率、電極板兩端的電壓等因素之間關(guān)系,對進(jìn)一步開展實驗和量化實驗效果提供依據(jù)。論文設(shè)計的內(nèi)容主要包括整體裝置關(guān)鍵部件設(shè)計和測量調(diào)節(jié)系統(tǒng)設(shè)計,整體裝置關(guān)鍵部件主要包括臨時存儲箱、供磁體、流道、輔助架及電極板等部件設(shè)計,重點對臨時存儲箱等部件設(shè)計,并確定供磁體和電極板的選型。測量調(diào)節(jié)系統(tǒng)設(shè)計主要包括電參數(shù)測量裝置和調(diào)控裝置兩部分內(nèi)容。論文對電磁磨料漿體射流增壓裝置進(jìn)行不同實驗參數(shù)研究,通過實驗得出：飽和的NaCl溶液(濃度為26%)作為導(dǎo)電介質(zhì),導(dǎo)電介質(zhì)在磁通密度為0.7T,電源電壓為72V,極板間距為0.02m的條件下,能在輸出管內(nèi)形成28mmm液柱,約330Pa,初步確定相關(guān)參數(shù)對在正交電磁場作用下導(dǎo)流介質(zhì)形成射流效果的影響,為進(jìn)一步開展更深層次的研究提供基礎(chǔ)。
【關(guān)鍵詞】：磨料射流 磁流體 電磁場 導(dǎo)電介質(zhì) 實驗
【學(xué)位授予單位】：安徽理工大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號】：TG664
【目錄】：

• 摘要5-6
• Abstract6-13
• 引言13-15
• 1 緒論15-21
• 1.1 課題研究的背景15-16
• 1.2 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀16-18
• 1.3 課題研究背景、來源、主要研究內(nèi)容及意義18-19
• 1.3.1 課題來源18
• 1.3.2 項目研究的目的18-19
• 1.3.3 項目研究的意義19
• 1.4 課題研究內(nèi)容19-20
• 1.5 本章小結(jié)20-21
• 2 電磁磨料漿體射流增壓技術(shù)相關(guān)理論21-41
• 2.1 研究流體運動的方法21-24
• 2.2 流體運動的數(shù)學(xué)描述24-31
• 2.3 連續(xù)非淹沒水射流31-36
• 2.3.1 連續(xù)非淹沒水射流結(jié)構(gòu)與幾何特性31-33
• 2.3.2 非淹沒水射流動力特性33-35
• 2.3.3 速度衰減理論35-36
• 2.4 電磁磨料漿體射流技術(shù)的基本原理36-40
• 2.4.1 基本原理36-37
• 2.4.2 微觀分析37
• 2.4.3 宏觀分析37-40
• 2.5 本章小結(jié)40-41
• 3 電磁磨料漿體射流實驗中的電化學(xué)41-47
• 3.1 電磁磨料漿體射流實驗電解現(xiàn)象41-43
• 3.2 電極的腐蝕43-45
• 3.3 本章小結(jié)45-47
• 4 電磁磨料漿體射流增壓裝置關(guān)鍵部件結(jié)構(gòu)設(shè)計及選型47-59
• 4.1 電磁磨料漿體射流增壓裝置整體結(jié)構(gòu)方案47-48
• 4.2 臨時存儲箱設(shè)計48-52
• 4.2.1 臨時存儲箱的設(shè)計48
• 4.2.2 臨時存儲箱的設(shè)計任務(wù)要求及造型設(shè)計48-49
• 4.2.3 臨時存儲箱的設(shè)計及相關(guān)計算49-52
• 4.3 供磁體設(shè)計52-55
• 4.3.1 設(shè)計方案52-55
• 4.4 其他部件設(shè)計55-58
• 4.4.1 流道設(shè)計方案55-56
• 4.4.2 輔助架及固定架的設(shè)計56-57
• 4.4.3 電極板的設(shè)計57-58
• 4.5 本章小結(jié)58-59
• 5 電磁磨料漿體射流增壓裝置測量調(diào)節(jié)系統(tǒng)的設(shè)計59-69
• 5.1 測量調(diào)節(jié)系統(tǒng)總體方案59
• 5.2 測量調(diào)節(jié)系統(tǒng)電參數(shù)測量方法59-61
• 5.3 電參數(shù)測量關(guān)鍵部件的選擇61-64
• 5.3.1 直流雙顯示數(shù)字電壓電流表的選擇61-64
• 5.4 調(diào)控裝置的工作原理及功能64-68
• 5.5 本章小結(jié)68-69
• 6 電磁磨料漿體射流增壓裝置的實驗研究69-81
• 6.1 實驗裝置的組成69-70
• 6.2 實驗裝置增壓效果測試70-78
• 6.2.1 磁通密度和電壓參數(shù)對實驗裝置增壓效果的探究71-74
• 6.2.2 導(dǎo)電介質(zhì)濃度對實驗裝置增壓效果的探究74-76
• 6.2.3 極板間距對實驗裝置增壓效果的探究76-78
• 6.3 實驗存在及遇到的問題78-79
• 6.4 本章小結(jié)79-81
• 結(jié)論81-83
• 參考文獻(xiàn)83-87
• 致謝87-89
• 作者簡介及讀研期間主要科研成果89-90

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本文編號：506136