本文關鍵詞：深過冷再等溫條件下珠光體相變過程研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：本文采用快速相變儀DIL805以高純氦氣作為冷卻介質,深入研究深過冷再等溫(DUIT:isothermal condition after deep undercooling)條件下珠光體鋼等溫轉變動力學曲線,以珠光體相變動力學特點與微觀組織尺寸為研究目標,采用光學顯微鏡(OM)、掃描電鏡(SEM)及場發(fā)射透射電鏡(TEM)對珠光體組織進行分析研究。探索深過冷溫度及深過冷時間對珠光體深過冷再等溫轉變動力學曲線及微觀組織的影響,實驗結果表明:1).等溫轉變(IT)曲線為平滑C形曲線,高碳盤條鋼的珠光體與貝氏體等溫轉變沒有分開,鼻尖溫度約在560℃,亞共析鋼過冷奧氏體等溫轉變孕育期隨碳及錳含量增加而增加,隨等溫溫度的升高,組織分別是馬氏體、貝氏體、貝氏體+細片珠光體的混合組織及珠光體,在530℃~560℃等溫可獲得較為均勻的索氏體組織,在620℃等溫將出現(xiàn)片層間距較大的珠光體且有明顯的先共析鐵素體。2).深過冷再等溫轉變(DUIT)動力學曲線隨溫度的降低及時間的延長,孕育期增加,TTT曲線右移;轉變開始線趨于高溫等溫轉變且平直,轉變終了線以560℃過渡,高溫轉變時間比低溫轉變時間縮短更為明顯。具體表現(xiàn)在動力學曲線上為轉變終了線鼻尖由560℃增至590℃,且轉變時間也明顯減少。觀察比較深過冷再等溫轉變后與等溫轉變后的微觀組織,索氏體團尺寸隨過冷溫度的降低及過冷時間的延長逐漸變均勻、細化(平均團尺寸由620℃直接等溫的3.41um變?yōu)?80℃-5s-620℃時的2.01um,片層間距則由138.96nm減小至96.46nm),且深過冷溫度降低對片層間距的影響比隨深過冷時間的增加更為明顯。3).體擴散控制下的共晶生長模型與界面擴散控制下的共析生長模型都指出層間距與過冷度成反比,理論形核率方程受過冷度(驅動力)與擴散系數(shù)共同影響,與最新增加驅動力有利于提高形核率與長大率等信息,結合本實驗動力學曲線及微觀組織得出:深過冷增加相變驅動力,有利于提高形核率從而細化團尺寸,提高長大率則有利于細化片間距。4).深過冷再等溫轉變是直接等溫轉變的補充與修正,片層間距除與過冷度成反比外,還受到以某種增大驅動力形式提高長大率而細化片層的影響。
【關鍵詞】：深過冷再等溫轉變 等溫轉變 片層間距 團尺寸 形核率 長大率
【學位授予單位】：貴州大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2016
【分類號】：TG142.1
【目錄】：

• 摘要4-6
• Abstract6-8
• 第一章 緒論8-24
• 1.1 前言8-10
• 1.2 無鉛索氏體化的發(fā)展10-12
• 1.2.1 鉛浴10
• 1.2.2 超快速冷卻技術的發(fā)展10-12
• 1.3 珠光體鋼12-13
• 1.3.1 珠光體鋼及其分類12
• 1.3.2 珠光體鋼的主要用途及發(fā)展趨勢12-13
• 1.4 珠光體13
• 1.4.1 珠光體的定義及分類13
• 1.5 珠光體相變及形核和長大理論13-22
• 1.5.1 珠光體相變驅動力15-16
• 1.5.2 珠光體孕育期本質及其轉變機制的探討16-18
• 1.5.3 珠光體擴散模型機制的探討18
• 1.5.4 影響珠光體轉變動力學的因素18-19
• 1.5.5 珠光體形核機制研究19-21
• 1.5.6 珠光體生長機制的研究21-22
• 1.6 本文主要研究內(nèi)容22-24
• 第二章 實驗材料及方法24-37
• 2.1 實驗材料24-26
• 2.1.1 實驗材料化學成分24-25
• 2.1.2 熱處理試樣尺寸25-26
• 2.2 試驗方法26-30
• 2.2.1 前期深過冷溫度的探索26-27
• 2.2.2 前期深過冷溫度條件下等溫時間的探索27-28
• 2.2.3 熱處理工藝路線的確定28-30
• 2.3 奧氏體化溫度（Ac1）及索氏體相變點（Ar1）的測定30-31
• 2.4 熱膨脹曲線測定及分析31-33
• 2.5 組織結構觀察與測定33-35
• 2.5.1 金相顯微分析33-35
• 2.6 本章小結35-37
• 第三章 等溫轉變動力學曲線37-46
• 3.1 等溫轉變的目的與意義37-38
• 3.2 珠光體等溫轉變動力學38-40
• 3.3 等溫轉變動力學曲線及微觀組織40-44
• 3.3.1 等溫轉變動力學曲線40-41
• 3.3.2 等溫轉變組織41-44
• 3.4 本章小結44-46
• 第四章 深過冷再等溫轉變動力學曲線46-59
• 4.1 等溫轉變與深過冷再等溫轉變動力學曲線46-50
• 4.2 等溫轉變與深過冷再等溫轉變顯微組織50-55
• 4.3 擴散機制孕育期再討論55-56
• 4.4 珠光體形核率56-57
• 4.5 本章小結57-59
• 第五章 局部分解深過冷再等溫轉變工藝59-64
• 5.1 分解深過冷至 400℃再等溫熱處理工藝59-60
• 5.2 分解深過冷至 400℃再等溫組織及性能60-62
• 5.3 本章小結62-64
• 第六章片間距與過冷度關系64-72
• 6.1 體擴散模型64-66
• 6.2 界面擴散模型66-68
• 6.3 深過冷再等溫轉變片層間距68-70
• 6.4 分析討論70-71
• 6.5 本章小結71-72
• 第七章 結論72-74
• 參考文獻74-78
• 致謝78-79

  本文關鍵詞：深過冷再等溫條件下珠光體相變過程研究，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

本文編號：434057