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多弧離子鍍制備TiN/TiAlN多層薄膜性能研究

發(fā)布時(shí)間:2024-04-15 23:44
  采用多弧離子鍍技術(shù)選取鈦靶電流分別為60A、70A、80A和基體偏壓分別為-240V、-300V、-360V在高速鋼基體上制備Ti N/Ti Al N多層薄膜。使用劃痕儀、顯微硬度計(jì)、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)和馬弗爐對膜層的膜基結(jié)合力、顯微硬度、摩擦磨損性能和熱震性能進(jìn)行檢測。結(jié)果表明:在鈦靶電流為70A和基體偏壓為-240V時(shí)膜基結(jié)合力最高,同時(shí)顯微硬度也較高;在基體偏壓為-300V的條件下,鈦靶電流為70A時(shí)的摩擦系數(shù)最小,其耐磨性能良好;基體偏壓為-240V時(shí)的抗熱震性能良好。

【文章頁數(shù)】:4 頁


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