通過等離子噴涂技術(shù)將YAG:Ce熒光涂層沉積在鈦合金表面,沉積的涂層具有較為致密的結(jié)構(gòu)和良好的發(fā)光性能。研究腐蝕環(huán)境下涂層熒光強(qiáng)度的變化規(guī)律,有助于相關(guān)環(huán)境中熒光監(jiān)測(cè)技術(shù)的發(fā)展。已有的等離子噴涂YAG:Ce涂層在酸性腐蝕環(huán)境中腐蝕作用導(dǎo)致涂層結(jié)合強(qiáng)度下降過快,限制了涂層的使用壽命。本文通過等離子焰流對(duì)基體預(yù)熱,研究了基體溫度對(duì)單個(gè)YAG:Ce粒子扁平化規(guī)律,及涂層微觀結(jié)構(gòu)、相成分和熒光強(qiáng)度的影響。在此基礎(chǔ)上,制備不同基體溫度的YAG:Ce涂層,并研究了涂層在硫酸溶液中腐蝕不同時(shí)間后涂層的微觀結(jié)構(gòu)和熒光強(qiáng)度的變化。研究發(fā)現(xiàn)當(dāng)基體溫度為室溫條件時(shí),沉積的單個(gè)熔融粒子與基體碰撞后發(fā)生嚴(yán)重的濺射現(xiàn)象;當(dāng)基體溫度超過120℃時(shí),部分扁平粒子呈現(xiàn)出規(guī)則的圓盤形狀,隨著基體溫度的繼續(xù)升高,圓盤狀扁平粒子所占的比例逐漸增加。在不同基體溫度下沉積的涂層相成分主要為YAG相,涂層的結(jié)晶度隨基體溫度升高而增加,相反,涂層的孔隙率趨于下降。在不同基體溫度條件下沉積的涂層具有良好的熒光強(qiáng)度,涂層的熒光強(qiáng)度與涂層厚度有關(guān)。不同基體溫度沉積的YAG:Ce涂層在1.5mol/L硫酸溶液腐蝕150小時(shí)的過程中,涂層的孔...

【文章頁數(shù)】：69 頁

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
abstract
第1章 緒論
    1.1 課題背景與意義
    1.2 石化行業(yè)腐蝕狀況分析
        1.2.1 腐蝕介質(zhì)
        1.2.2 腐蝕形態(tài)
    1.3 腐蝕監(jiān)測(cè)技術(shù)
        1.3.1 腐蝕監(jiān)測(cè)的意義
        1.3.2 腐蝕監(jiān)測(cè)技術(shù)介紹
        1.3.3 國內(nèi)外典型金屬腐蝕探針研究進(jìn)展
    1.4 熒光監(jiān)測(cè)技術(shù)
        1.4.1 空間分辨熒光分析技術(shù)
        1.4.2 熒光探針技術(shù)
        1.4.3 X射線熒光測(cè)量技術(shù)
        1.4.4 熒光腐蝕檢測(cè)技術(shù)
    1.5 YAG:Ce熒光材料
    1.6 本文研究目的及內(nèi)容
        1.6.1 研究目的
        1.6.2 研究?jī)?nèi)容
第2章 基體溫度對(duì)等離子噴涂YAG:Ce粉末熔滴粒子扁平化的影響
    2.1 引言
    2.2 實(shí)驗(yàn)原料與主要設(shè)備
        2.2.1 實(shí)驗(yàn)原料
        2.2.2 主要實(shí)驗(yàn)儀器
    2.3 粉末的表征
        2.3.1 YAG:Ce粉末的SEM形貌分析
        2.3.2 YAG:Ce粉末的相結(jié)構(gòu)分析
        2.3.3 YAG:Ce粉末的熒光強(qiáng)度分析
    2.4 熔融粒子的微觀形貌
    2.5 本章小結(jié)
第3章 不同基體溫度的Ce摻雜YAG涂層的制備
    3.1 引言
    3.2 實(shí)驗(yàn)材料與方法
        3.2.1 實(shí)驗(yàn)材料
        3.2.2 實(shí)驗(yàn)方法
    3.3 噴涂態(tài)涂層表征
        3.3.1 涂層的形貌分析
        3.3.2 涂層的相成分分析
        3.3.3 涂層的熒光強(qiáng)度分析
    3.4 本章小結(jié)
第4章 不同基體溫度的YAG:Ce涂層在酸性腐蝕條件下性能的研究
    4.1 引言
    4.2 實(shí)驗(yàn)方法
    4.3 涂層表征
        4.3.1 涂層的形貌分析
        4.3.2 涂層的相成分分析
        4.3.3 涂層的熒光強(qiáng)度分析
        4.3.4 用于腐蝕監(jiān)測(cè)的YAG:Ce涂層
    4.4 本章小結(jié)
第5章 總結(jié)與展望
    5.1 總結(jié)
    5.2 展望
參考文獻(xiàn)
致謝
附錄 在讀期間科研成果



本文編號(hào)：3887583