H13鋼表面磁控濺射Al 2 O 3 薄膜工藝及性能研究
發(fā)布時(shí)間:2023-04-03 03:43
隨著機(jī)械制造業(yè)向半自動(dòng)化、全自動(dòng)化方向迅猛發(fā)展,特別是各種車(chē)床、數(shù)控機(jī)床、磨床、銑床等廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)生活中,而這些機(jī)械加工的核心零部件就是刀具。所以刀具的使用壽命對(duì)機(jī)器的正常工作和運(yùn)行起著主導(dǎo)作用。這就要求其應(yīng)具備良好的摩擦磨損性能以及優(yōu)良的切削性能,滿(mǎn)足工業(yè)化需求,節(jié)約生產(chǎn)成本。如何有效延長(zhǎng)刀具的使用壽命、增強(qiáng)切削性能成為現(xiàn)代制造業(yè)的研究熱門(mén)。本文選用H13鋼刀具作為試驗(yàn)研究對(duì)象,使用射頻磁控濺射法在基底表面沉積Al2O3薄膜。首先利用單因素分析法探索本底真空度、靶功率、工作氣壓、O2流量對(duì)Al2O3薄膜沉積速率及性能的作用,縮小各因素的工藝范圍。其次為了獲得Al2O3薄膜制備路徑的最佳工藝參數(shù),使用正交試驗(yàn)法,研究三因素三水平對(duì)薄膜性能的影響。再用極差法探討其對(duì)沉積速率的影響順序及各因素各水平的變化對(duì)試驗(yàn)指標(biāo)影響程度。通過(guò)綜合平衡法分析得到最佳優(yōu)化路徑后,使用掃描電鏡觀察涂層表面形貌并進(jìn)行能譜分析,檢驗(yàn)最優(yōu)工藝參數(shù)合理性。最后利用...
【文章頁(yè)數(shù)】:82 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
abstract
第一章 緒論
1.1 引言
1.2 Al2O3 薄膜的概述
1.2.1 Al2O3 材料的特性
1.2.2 Al2O3 薄膜的應(yīng)用
1.3 Al2O3 薄膜的研究現(xiàn)狀與發(fā)展
1.3.1 Al2O3 薄膜的國(guó)外研究現(xiàn)狀
1.3.2 Al2O3 薄膜的國(guó)內(nèi)研究現(xiàn)狀
1.4 Al2O3 薄膜的制備方法
1.4.1 物理氣相沉積(PVD)技術(shù)
1.4.2 化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)
1.5 薄膜的檢測(cè)技術(shù)
1.5.1 結(jié)構(gòu)分析
1.5.2 薄膜硬度測(cè)量
1.6 刀具切削要求及基底材料特性
1.7 本文的目的意義、結(jié)構(gòu)及研究?jī)?nèi)容
1.7.1 研究工作的目的和意義
1.7.2 本文的結(jié)構(gòu)及主要研究?jī)?nèi)容
第二章 磁控濺射試驗(yàn)設(shè)備和Al2O3 涂層制備要求
2.1 Al2O3 薄膜濺射原理
2.2 試驗(yàn)設(shè)備及材料
2.3 薄膜沉積過(guò)程的形成原理
2.4 磁控濺射試驗(yàn)設(shè)備系統(tǒng)簡(jiǎn)介
2.4.1 射頻磁控濺射系統(tǒng)
2.4.2 磁控濺射制備Al2O3 薄膜的操作步驟
2.5 基底的清洗方法
2.6 Al2O3 薄膜的制備要求
2.7 本章小結(jié)
第三章 制備Al2O3 薄膜及設(shè)計(jì)正交試驗(yàn)
3.1 正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)法
3.2 磁控濺射Al2O3 薄膜的正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)
3.3 薄膜性能的表征
3.3.1 膜厚的測(cè)定
3.3.2 表面粗糙度的測(cè)定
3.3.3 硬度的測(cè)定
3.3.4 表面形貌與顯微結(jié)構(gòu)分析
3.3.5 物相及晶粒度檢測(cè)
3.4 本章小結(jié)
第四章 工藝參數(shù)對(duì)沉積Al2O3 薄膜性能的影響
4.1 本底真空度與Al2O3 涂層沉積速率的關(guān)系
4.2 靶功率與Al2O3 薄膜性能的關(guān)系
4.2.1 靶功率與Al2O3 涂層表面粗糙度的關(guān)系
4.2.2 靶功率與Al2O3 涂層沉積速率的關(guān)系
4.3 氧氣流量與Al2O3 薄膜性能的關(guān)系
4.3.1 O2 流量與Al2O3 涂層表面粗糙度的關(guān)系
4.3.2 O2 流量與Al2O3 涂層沉積速率的關(guān)系
4.4 工作氣壓與Al2O3 薄膜性能的關(guān)系
4.4.1 工作氣壓與Al2O3 涂層表面粗糙度的關(guān)系
4.4.2 工作氣壓與Al2O3 涂層沉積速率的關(guān)系
4.5 本章小結(jié)
第五章 Al2O3 薄膜正交試驗(yàn)的結(jié)果分析及性能檢測(cè)
5.1 射頻磁控濺射Al2O3 涂層的正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)與分析
5.1.1 制備正交試驗(yàn)方案及結(jié)果表征
5.1.2 正交試驗(yàn)結(jié)果的極差分析
5.2 目標(biāo)參數(shù)選擇與薄膜制備
5.3 最佳工藝參數(shù)下沉積Al2O3 薄膜SEM觀測(cè)與能譜分析
5.4 退火溫度對(duì)Al2O3 涂層微觀結(jié)構(gòu)和性能的影響
5.4.1 不同退火溫度下膜厚對(duì)Al2O3 涂層結(jié)構(gòu)的影響
5.4.2 不同退火溫度下膜厚對(duì)Al2O3 薄膜顯微硬度的影響
5.4.3 同一膜厚下退火溫度對(duì)Al2O3 涂層性能的影響
5.4.4 同一膜厚下退火溫度對(duì)Al2O3 涂層的SEM分析
5.5 本章小結(jié)
第六章 結(jié)論與展望
6.1 結(jié)論
6.2 展望
致謝
參考文獻(xiàn)
攻讀學(xué)位期間取得的研究成果
本文編號(hào):3780585
【文章頁(yè)數(shù)】:82 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
abstract
第一章 緒論
1.1 引言
1.2 Al2O3 薄膜的概述
1.2.1 Al2O3 材料的特性
1.2.2 Al2O3 薄膜的應(yīng)用
1.3 Al2O3 薄膜的研究現(xiàn)狀與發(fā)展
1.3.1 Al2O3 薄膜的國(guó)外研究現(xiàn)狀
1.3.2 Al2O3 薄膜的國(guó)內(nèi)研究現(xiàn)狀
1.4 Al2O3 薄膜的制備方法
1.4.1 物理氣相沉積(PVD)技術(shù)
1.4.2 化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)
1.5 薄膜的檢測(cè)技術(shù)
1.5.1 結(jié)構(gòu)分析
1.5.2 薄膜硬度測(cè)量
1.6 刀具切削要求及基底材料特性
1.7 本文的目的意義、結(jié)構(gòu)及研究?jī)?nèi)容
1.7.1 研究工作的目的和意義
1.7.2 本文的結(jié)構(gòu)及主要研究?jī)?nèi)容
第二章 磁控濺射試驗(yàn)設(shè)備和Al2O3 涂層制備要求
2.1 Al2O3 薄膜濺射原理
2.2 試驗(yàn)設(shè)備及材料
2.3 薄膜沉積過(guò)程的形成原理
2.4 磁控濺射試驗(yàn)設(shè)備系統(tǒng)簡(jiǎn)介
2.4.1 射頻磁控濺射系統(tǒng)
2.4.2 磁控濺射制備Al2O3 薄膜的操作步驟
2.5 基底的清洗方法
2.6 Al2O3 薄膜的制備要求
2.7 本章小結(jié)
第三章 制備Al2O3 薄膜及設(shè)計(jì)正交試驗(yàn)
3.1 正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)法
3.2 磁控濺射Al2O3 薄膜的正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)
3.3 薄膜性能的表征
3.3.1 膜厚的測(cè)定
3.3.2 表面粗糙度的測(cè)定
3.3.3 硬度的測(cè)定
3.3.4 表面形貌與顯微結(jié)構(gòu)分析
3.3.5 物相及晶粒度檢測(cè)
3.4 本章小結(jié)
第四章 工藝參數(shù)對(duì)沉積Al2O3 薄膜性能的影響
4.1 本底真空度與Al2O3 涂層沉積速率的關(guān)系
4.2 靶功率與Al2O3 薄膜性能的關(guān)系
4.2.1 靶功率與Al2O3 涂層表面粗糙度的關(guān)系
4.2.2 靶功率與Al2O3 涂層沉積速率的關(guān)系
4.3 氧氣流量與Al2O3 薄膜性能的關(guān)系
4.3.1 O2 流量與Al2O3 涂層表面粗糙度的關(guān)系
4.3.2 O2 流量與Al2O3 涂層沉積速率的關(guān)系
4.4 工作氣壓與Al2O3 薄膜性能的關(guān)系
4.4.1 工作氣壓與Al2O3 涂層表面粗糙度的關(guān)系
4.4.2 工作氣壓與Al2O3 涂層沉積速率的關(guān)系
4.5 本章小結(jié)
第五章 Al2O3 薄膜正交試驗(yàn)的結(jié)果分析及性能檢測(cè)
5.1 射頻磁控濺射Al2O3 涂層的正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)與分析
5.1.1 制備正交試驗(yàn)方案及結(jié)果表征
5.1.2 正交試驗(yàn)結(jié)果的極差分析
5.2 目標(biāo)參數(shù)選擇與薄膜制備
5.3 最佳工藝參數(shù)下沉積Al2O3 薄膜SEM觀測(cè)與能譜分析
5.4 退火溫度對(duì)Al2O3 涂層微觀結(jié)構(gòu)和性能的影響
5.4.1 不同退火溫度下膜厚對(duì)Al2O3 涂層結(jié)構(gòu)的影響
5.4.2 不同退火溫度下膜厚對(duì)Al2O3 薄膜顯微硬度的影響
5.4.3 同一膜厚下退火溫度對(duì)Al2O3 涂層性能的影響
5.4.4 同一膜厚下退火溫度對(duì)Al2O3 涂層的SEM分析
5.5 本章小結(jié)
第六章 結(jié)論與展望
6.1 結(jié)論
6.2 展望
致謝
參考文獻(xiàn)
攻讀學(xué)位期間取得的研究成果
本文編號(hào):3780585
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