本文以AA1060純鋁為基體進(jìn)行等離子體電解氧化處理,研究了氫氧化鈉濃度對(duì)等離子體電解氧化膜層生長(zhǎng)的影響,著重研究了NaOH濃度為1 g/L時(shí)膜層從陽(yáng)極氧化階段到等離子體放電階段的結(jié)構(gòu)演變過(guò)程,探討了硅酸鈉濃度對(duì)膜層的影響。研究表明NaOH濃度能夠影響陽(yáng)極氧化膜層的類型以及等離子體放電行為。當(dāng)NaOH濃度為1 g/L時(shí),在等離子體電解氧化的陽(yáng)極氧化階段能夠獲得孔徑均勻的“多孔”型陽(yáng)極氧化膜層。隨后,陽(yáng)極氧化膜層局部產(chǎn)生裂紋和脫落,電流在這些薄弱區(qū)域發(fā)生集中,膜層優(yōu)先被擊穿,產(chǎn)生等離子體放電。電解液中的磷元素以非晶相的形式偏聚于“多孔”型陽(yáng)極氧化膜層兩界面的中間區(qū)域。隨著氧化時(shí)間的延長(zhǎng),陽(yáng)極氧化膜層內(nèi)表面半球凸起從圓形逐漸過(guò)渡到多邊形,半球的直徑隨著處理時(shí)間的延長(zhǎng)而減小;而由等離子體放電產(chǎn)生的膜層內(nèi)表面的半球凸起直徑先隨處理時(shí)間的延長(zhǎng)而增加,之后維持在某一范圍內(nèi)。結(jié)果還表明無(wú)論是陽(yáng)極氧化膜層上的管狀孔洞,還是等離子體電解氧化膜層上的放電通道,均傾向于出現(xiàn)在已有的陽(yáng)極氧化膜層孔洞以及已有的放電通道周圍。等離子體電解氧化膜層外表面的一個(gè)“薄餅”狀結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)于一個(gè)放電通道,一個(gè)膜層內(nèi)部空腔,以及... 

【文章頁(yè)數(shù)】：67 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
第1章 緒論
    1.1 概述
    1.2 等離子體電解氧化技術(shù)
    1.3 等離子體電解氧化技術(shù)的發(fā)展
    1.4 等離子體電解氧化技術(shù)的影響因素
    1.5 等離子體電解氧化技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)及應(yīng)用
    1.6 等離子體電解氧化技術(shù)的研究現(xiàn)狀
    1.7 本文研究的主要內(nèi)容
第2章 實(shí)驗(yàn)設(shè)備與研究方法
    2.1 選材與預(yù)處理
        2.1.1 基體材料
        2.1.2 電解液
        2.1.3 試樣預(yù)處理
    2.2 實(shí)驗(yàn)裝置及參數(shù)
    2.3 實(shí)驗(yàn)方法及檢測(cè)手段
        2.3.1 膜層制備
        2.3.2 膜層剝離
        2.3.3 實(shí)驗(yàn)電壓采集
        2.3.4 膜層界面與斷面形貌觀察及元素分析
        2.3.5 膜層物相鑒定
        2.3.6 膜層耐蝕性測(cè)試
    2.4 本章小結(jié)
第3章 等離子體電解氧化膜層結(jié)構(gòu)演變研究
    3.1 氫氧化鈉濃度對(duì)等離子體電解氧化的影響
        3.1.1 氫氧化鈉濃度對(duì)電壓-時(shí)間曲線的影響
        3.1.2 氫氧化鈉濃度對(duì)PEO膜層形貌的影響
    3.2 NaOH濃度為1 g/L電解液中PEO膜層結(jié)構(gòu)演變及耐蝕性分析
        3.2.1 E/C界面及C/S界面形貌的觀察
        3.2.2 剝離斷面及拋光斷面形貌的觀察
        3.2.3 剝離斷面與C/S界面的關(guān)系
        3.2.4 PEO膜層物相分析
        3.2.5 不同處理狀態(tài)下試樣耐蝕性分析
        3.2.6 PEO膜層生長(zhǎng)機(jī)理
    3.3 本章小結(jié)
第4章 Na_2SiO_3·9H_2O濃度對(duì)PEO膜層結(jié)構(gòu)和耐蝕性的影響
    4.1 PEO過(guò)程中電壓-時(shí)間曲線
    4.2 PEO膜層初期形貌
    4.3 相同厚度PEO膜層的表征
        4.3.1 相同厚度PEO膜層形貌觀察
        4.3.2 相同厚度PEO膜層物相分析
        4.3.3 相同厚度PEO膜層耐蝕性分析
    4.4 本章小結(jié)
結(jié)論
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士學(xué)位期間承擔(dān)的科研任務(wù)與主要成果
致謝



本文編號(hào)：3719511