鎂合金具有許多優(yōu)異的性能,并被廣泛應(yīng)用于眾多領(lǐng)域。然而鎂的標(biāo)準(zhǔn)電位低（-2.37V）,且表面無法形成具有自我保護(hù)性的膜層,耐蝕性能差極大地限制了鎂合金的推廣應(yīng)用。因此,開展鎂合金的腐蝕與防護(hù)研究具有重要的理論及實(shí)踐意義。表面處理是提高鎂合金耐蝕性能最直接、最有效的途徑,其中等離子體氧化處理可以在鎂合金表面生成一層陶瓷質(zhì)地的膜層,提高鎂合金的綜合性能。然而鎂合金等離子體氧化膜存在多孔、多裂紋等缺陷,嚴(yán)重影響了膜層對(duì)基體的保護(hù)效果。為此,本文提出并探索了在電解液中添加石墨烯、Y₂O₃等微粒子,并通過工藝控制使其彌散生長(zhǎng)于膜層中制備等離子體氧化膜的方法,提高了鎂合金等離子體氧化膜的表面綜合性能。本文以硅酸鹽體系電解液為基礎(chǔ),分別研究了Y₂O₃粒子和石墨烯添加對(duì)AZ91鎂合金等離子體氧化膜層組織和性能的影響。首先在AZ91鎂合金表面制備Y₂O₃粒子和石墨烯等離子體氧化膜層,然后分別采用膜層測(cè)厚儀和顯微硬度計(jì)測(cè)量膜層的硬度及厚度,并通過掃描電鏡（SEM）,X射線能譜... 

【文章來源】：贛南師范大學(xué)江西省

【文章頁(yè)數(shù)】：61 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

電流隨時(shí)間變化曲線

圖 3-1 電流隨時(shí)間變化曲線變化添加不同粒度 Y2O3粒子的等離子體氧化膜的膜膜前后的硬度可知，AZ91 鎂合金基體的硬度非常子的膜層的硬度值大約為 125HV，相較于 AZ91 左右。而在添加了 1g/L 40nm 和 1μm 的 Y2O3粒的等離子體氧化膜的硬度值略有提高，其中添加度值最大，可以達(dá)到 155HV，約為 AZ91 鎂合金

贛南師范大學(xué)碩士學(xué)位論文添加 Y2O3粒子（圖 3-3a）和添加 1μm 的 Y2O3（圖 3-3 c）粒子的d、e、f 是氧化膜的截面形貌，從圖中可以看到氧化膜由外層和內(nèi)。其中內(nèi)層膜比較薄，膜層致密性好；外層膜厚，但是有十分明顯獻(xiàn)[82-83]中描述的相同。添加 Y2O3粒子（圖 3-3 d）的氧化膜的膜 40nm 的 Y2O3粒子（圖 3-3 e）和添加 1μm 的 Y2O3粒子（圖 3-3，添加 40nm 的 Y2O3粒子的氧化膜的膜層最薄。但是不添加 Y2O截面的孔隙不僅多而且非常大，添加 1μm 的 Y2O3粒子的氧化膜截，但是孔隙相對(duì)較小，添加 40nm 的 Y2O3粒子的氧化膜截面孔隙常致密。因此，添加 1g/L 40nm 的 Y2O3粒子制備的 AZ91 鎂合金膜的膜層具有最優(yōu)的膜層結(jié)構(gòu)。

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號(hào)：3606499