ta-C薄膜具有許多優(yōu)良的性能,集石墨與金剛石眾多優(yōu)點于一身,如耐磨損性能好、硬度高、化學穩(wěn)定性好、以及良好的生物相容性,應用領域廣泛。ta-C與基體高速鋼之間有著較大的結構成分差異,在沉積薄膜時會積累很大的內(nèi)應力,膜基結合力下降,且ta-C電阻率大,導致沉積速率低。本研究為了提高薄膜附著力,設計了Cr/CrC過渡層結構,為增大靶材離化率提高沉積速率,使用了課題組自研的高脈沖電源進行沉積薄膜,該電源脈沖峰值電流最高可達1000A。通過調(diào)節(jié)脈沖頻率、脈沖寬度、氣壓和氮氣流量等參數(shù)研究了石墨靶材放電特性和等離子體光譜特性。在不同偏壓、氣壓和峰值電流下制備了ta-C薄膜,在ta-C中進行N摻雜,可以降低內(nèi)應力,提高附著力,增加耐腐蝕性能,本文在不同氮氣流量下制備了ta-C:N薄膜并研究了其結構與性能。放電及光譜研究表明,在純氬氣條件下,脈寬一定,隨著頻率的增大,峰值電流減小,基體偏流減小,C（1+）/Ar（1+）不斷減小;頻率一定,隨著脈寬的增大,峰值電流減小,基體偏流減小,C（1+）/Ar（1+）先減小后增加;隨著氣壓的增大,基體偏流逐漸減小,C（1+）/Ar（1+）不斷減小。在氮氣氬氣混... 

【文章來源】：哈爾濱工業(yè)大學黑龍江省 211工程院校 985工程院校

【文章頁數(shù)】：118 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

真空陰極弧激發(fā)粒子示意圖

大顆粒產(chǎn)生及運輸示意圖

碳原子sp3，sp2，sp1雜化軌域[1]

【參考文獻】：
期刊論文
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博士論文
[1]真空陰極電弧離子鍍層中宏觀顆粒去除技術研究[D]. 戴華.上海交通大學 2009



本文編號：3595259