鎂合金作為21世紀最輕的輕金屬材料,其優(yōu)異的性能使其廣泛應用于汽車工業(yè)、航空航天以及電子產(chǎn)品等許多領域。然而,鎂合金表面易腐蝕、性能差等缺點卻制約了其廣泛應用。當前對該領域的研究著重于從鎂合金表面改性角度設計新型膜層結(jié)構(gòu)和材料組分,使其能夠提高鎂合金的耐腐蝕性能、增大鎂合金的耐摩擦磨損性能,開發(fā)出使用壽命長的防腐蝕涂層。目前的研究方向主要包括:（1）設計并開發(fā)制備簡單、成本低廉具有優(yōu)異性能的新型鎂合金腐蝕防護涂層材料;（2）探索并研究材料組成及膜層結(jié)構(gòu)對鎂合金腐蝕防護性能的影響規(guī)律;（3）使用材料基因組計劃的理念,采用模擬預測的方法,加快新型高性能膜層的開發(fā)速度。本研究采用微弧氧化技術與磁控濺射方法制備了MAO/DLC復合膜層,用于鎂合金腐蝕防護。討論了微弧氧化電解質(zhì)溶液配比、氧化電流密度、氧化時間等工藝參數(shù)對所形成MAO膜層性能的影響。并對磁控濺射靶功率、濺射沉積時間以及乙炔、氬氣流量等磁控濺射工藝參數(shù)對所制備DLC薄膜性能的影響進行了研究。最后在最優(yōu)化的工藝參數(shù)下制備出了性能良好的MAO/DLC復合膜層。采用表面輪廓儀、雙束聚焦掃面電子顯微鏡、拉曼光譜、劃痕儀、化學工作站等儀器設備... 

【文章來源】：重慶大學重慶市 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

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【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

復合薄膜的掃描圖片：（a）截面圖（b）表面形貌圖

圖 1.2 (Ti:N)-DLC 薄膜的（a）透射圖（b）選區(qū)電子衍射圖Table 1.2 The TEM and SAEDP of (Ti:N)-DLC coatingWang[55]等利用 PVD 與原子層沉積相結(jié)合的方法在 Mg–10Li–0.5Zn 合金表面沉積 Al/Al2O3薄膜，預濺射的 Al 層具有晶體結(jié)構(gòu)，原子層沉積的 Al2O3層是無定形的。雙層薄膜的制備提高了鎂合金的耐腐蝕性能，在 3.5% NaCl 中的腐蝕電流密度達到 7×10 6A/cm2，相比于基板（1.9×10 3A/cm2）降低了三個數(shù)量級。Wu[56]等采用離子注入與直流磁控濺射相結(jié)合的方法在 AZ31 鎂合金表面制備了 Ti 薄膜。首先，鎂合金經(jīng)預處理后進行氮離子注入，合金表面形成 AlN 和 MgN有利于膜基結(jié)合力的提高，其次在氮離子處理后的合金表面直流磁控濺射 Ti 層。實驗結(jié)果表明，氮離子的注入使鎂合金的腐蝕電流密度由 2.38×10-5A cm-2降低到1.01×10-5A cm-2，此外，兩次處理后的鎂合金腐蝕電位正移 195 mV。1.3.5 物理氣相沉積在鎂合金防護中的應用展望常用的物理氣相沉積法具備沉積膜層致密、均勻，環(huán)境友好等特點，但是，沉積速率慢，生產(chǎn)周期長等限制了其應用。因此，為了優(yōu)化鎂合金表面的防護薄

重慶大學碩士學位論文數(shù)。④ 通過 X 射線衍射（XRD），能量色散 X 射線光譜儀（EDX），掃描電子鏡（SEM）、拉曼光譜等檢測手段分析薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、表面成分、表面形貌分析討論其對鎂合金基底耐腐蝕性的影響。.5.3 技術路線① MAO/DLC 復合膜的制備及耐腐蝕性研究實驗。實驗研究路線如圖 1.3：

【參考文獻】：
期刊論文
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