奧氏體不銹鋼在H 2 S環(huán)境下的腐蝕行為與鈍化膜演化研究
發(fā)布時(shí)間:2021-11-04 01:00
奧氏體不銹鋼具有良好的耐腐蝕性能,是石油工業(yè)中最為常見的耐蝕結(jié)構(gòu)材料。隨著能源需求的增大,石油天然氣的開采環(huán)境越來越惡劣,不銹鋼材料在服役過程中也面臨挑戰(zhàn),研究不銹鋼材料的腐蝕問題兼具理論和現(xiàn)實(shí)意義。本文利用腐蝕電化學(xué)測(cè)試、高溫高壓腐蝕模擬實(shí)驗(yàn),結(jié)合X-射線光電子能譜(XPS)、俄歇電子能譜(AES)以及飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜(ToF-SIMS)等表面分析方法,研究了 316L奧氏體不銹鋼在典型服役環(huán)境下的腐蝕電化學(xué)行為以及鈍化膜性能衰減機(jī)制。分別討論了 H2S、溫度、Cl-濃度、外加電位、pH值等環(huán)境介質(zhì)因素的影響,明確了 H2S對(duì)不銹鋼鈍化膜的損傷機(jī)理,建立了材料宏觀耐蝕性與鈍化膜微觀結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系,分析并討論了環(huán)境因素對(duì)鈍化膜成分和結(jié)構(gòu)的影響規(guī)律。獲得的主要結(jié)論如下:(1)H2S對(duì)不銹鋼的腐蝕過程具有顯著的促進(jìn)作用。在含H2S的環(huán)境下,不銹鋼的點(diǎn)蝕電位低,維鈍電流密度大。H2S的主要腐蝕機(jī)理在于其能夠顯著改變鈍化膜成分,抑制氧化物、促進(jìn)硫化物的生成,鈍化膜成分的改變是導(dǎo)致不銹鋼耐蝕性發(fā)生不可逆降低的原因。含硫的鈍化膜中缺陷增多、施主和受主濃度高、穩(wěn)定性差,因此不銹鋼在H2S環(huán)境中耐...
【文章來源】:北京科技大學(xué)北京市 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:158 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖2-1金屬表面上鈍化膜雙層結(jié)構(gòu)生成示意圖??Fig.?2-1?Schematic?of?bilayer?passive?film?on?metal?surface??
在這層極薄氧化物膜上的電場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)可達(dá)106?l〇7V/cm,因此可以認(rèn)??為金屬表面氧化物的形成和鈍化膜的生長(zhǎng)是依靠金屬陽離子在膜內(nèi)高電場(chǎng)作??用下由金屬/膜界面向膜/介質(zhì)界面遷移來實(shí)現(xiàn),如圖2-3所示。金屬離子穿??過膜層的基本條件是離子本身具有足夠高的能量來克服活化勢(shì)壘,而存在于??極薄氧化物膜間的高電場(chǎng),為離子在電場(chǎng)方向上的遷移提供了便利。其中金??屬原子從金屬基體進(jìn)入鈍化膜,進(jìn)而氧化成為陽離子的反應(yīng)是整個(gè)過程的限??制性環(huán)節(jié)。??M/F?p/S??,n,erfaCe?High?ElecticField?lnterface??,飛、???KW?106 ̄107?V/cm?I???^?;??:?:?????圖2-3局場(chǎng)模型意圖??Fig.?2-3?Schematic?diagram?of?the?HFM?model??位置交換模型認(rèn)為在不銹鋼表面的氧化膜生長(zhǎng)是通過陰離子,如o離子,??吸附在不銹鋼表面,與金屬陽離子M形成M-0對(duì),然后M-0對(duì)發(fā)生旋轉(zhuǎn)導(dǎo)??致所謂“位置交換”來完成
Fig.?2-4?Schematic?diagram?of?the?PEM?model??形核增長(zhǎng)模型認(rèn)為當(dāng)一個(gè)新相(鈍化膜)在金屬表面形成時(shí),最開始是??在金屬表面離散形核,然后橫向生長(zhǎng)至布滿整個(gè)表面。新相的形核和生長(zhǎng)由??所施加的電壓控制。??點(diǎn)缺陷模型是目前在學(xué)術(shù)界接受度最高的一種理論。模型中對(duì)鈍化膜的??認(rèn)識(shí)包括以下內(nèi)容:(1)鈍化膜是一種含有大量缺陷的半導(dǎo)體,其中的空位??(包括金屬空位、氧空位和金屬夾雜)作為摻雜物;(2)金屬基體/膜界面和??膜層/溶液界面處于電化學(xué)平衡;(3)通過膜/溶液界面的電位隨著外加電位和??溶液pH呈線性變化;(4)鈍化膜的電場(chǎng)強(qiáng)度恒定,與鈍化膜厚度無關(guān)。鈍??化膜的生長(zhǎng)和破裂過程就是點(diǎn)缺陷在靜電場(chǎng)作用下發(fā)生遷移的過程,所以,??鈍化膜生長(zhǎng)的動(dòng)力是膜中缺陷的密度和擴(kuò)散率。在介質(zhì)環(huán)境中的不銹鋼鈍化??膜處于溶解與生成的動(dòng)態(tài)過程之中,鈍化膜中空位的形成與消失均在界面處??發(fā)生。在陽極極化條件下,氧空位從金屬/內(nèi)層膜界面向外層膜方向遷移,而??金屬離子從外層膜/內(nèi)層膜界面向內(nèi)層膜方向遷移。這些空位的遷移最終可能??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]SO42-對(duì)含Cl-溶液中316L奧氏體不銹鋼鈍化行為及點(diǎn)蝕行為的影響[J]. 唐嫻,張雷,王竹,張子如,薛俊鵬,路民旭. 工程科學(xué)學(xué)報(bào). 2018(03)
[2]Investigation of the deterioration of passive films in H2S-containing solutions[J]. Zhu Wang,Lei Zhang,Xian Tang,Zhao-yang Cui,Jun-peng Xue,Min-xu Lu. International Journal of Minerals Metallurgy and Materials. 2017(08)
[3]316L不銹鋼在不同pH值硼酸溶液中的電化學(xué)行為研究[J]. 王彥亮,陳旭,王際東,宋博,范東升,何川. 中國(guó)腐蝕與防護(hù)學(xué)報(bào). 2017(02)
[4]超級(jí)13Cr管材在低H2S高CO2環(huán)境中的開裂敏感性研究[J]. 陶杉,徐燕東,杜春朝. 表面技術(shù). 2016(07)
[5]非金屬夾雜物對(duì)439M鐵素體不銹鋼耐點(diǎn)蝕性能的影響[J]. 覃懷鵬,陳海濤,郎宇平,陳清明. 熱加工工藝. 2016(10)
[6]2205雙相不銹鋼在CO2-H2S-Cl--H2O環(huán)境中的電化學(xué)腐蝕行為[J]. 尹志福,朱世東,南蓓蓓,呂雷,張永強(qiáng). 材料保護(hù). 2016(03)
[7]316L不銹鋼TIG焊接接頭在H2S溶液中的鈍化性能[J]. 盧向雨,姚勝,唐俊榮,趙劉明,馮興國(guó). 表面技術(shù). 2015(12)
[8]pH值對(duì)304不銹鋼在3.5%NaCl溶液中點(diǎn)蝕過程的影響[J]. 葉超,杜楠,田文明,趙晴,朱麗. 中國(guó)腐蝕與防護(hù)學(xué)報(bào). 2015(01)
[9]Effects of Sulphate-reducing Bacteria on Corrosion Behaviour of 2205 Duplex Stainless Steel[J]. Cheng-hao LIANG,Hua WANG,Nai-bao HUANG. Journal of Iron and Steel Research(International). 2014(04)
[10]超級(jí)13Cr不銹鋼腐蝕行為研究進(jìn)展[J]. 朱世東,李金靈,馬海霞,尹志福,王維波. 腐蝕科學(xué)與防護(hù)技術(shù). 2014(02)
本文編號(hào):3474688
【文章來源】:北京科技大學(xué)北京市 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:158 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖2-1金屬表面上鈍化膜雙層結(jié)構(gòu)生成示意圖??Fig.?2-1?Schematic?of?bilayer?passive?film?on?metal?surface??
在這層極薄氧化物膜上的電場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)可達(dá)106?l〇7V/cm,因此可以認(rèn)??為金屬表面氧化物的形成和鈍化膜的生長(zhǎng)是依靠金屬陽離子在膜內(nèi)高電場(chǎng)作??用下由金屬/膜界面向膜/介質(zhì)界面遷移來實(shí)現(xiàn),如圖2-3所示。金屬離子穿??過膜層的基本條件是離子本身具有足夠高的能量來克服活化勢(shì)壘,而存在于??極薄氧化物膜間的高電場(chǎng),為離子在電場(chǎng)方向上的遷移提供了便利。其中金??屬原子從金屬基體進(jìn)入鈍化膜,進(jìn)而氧化成為陽離子的反應(yīng)是整個(gè)過程的限??制性環(huán)節(jié)。??M/F?p/S??,n,erfaCe?High?ElecticField?lnterface??,飛、???KW?106 ̄107?V/cm?I???^?;??:?:?????圖2-3局場(chǎng)模型意圖??Fig.?2-3?Schematic?diagram?of?the?HFM?model??位置交換模型認(rèn)為在不銹鋼表面的氧化膜生長(zhǎng)是通過陰離子,如o離子,??吸附在不銹鋼表面,與金屬陽離子M形成M-0對(duì),然后M-0對(duì)發(fā)生旋轉(zhuǎn)導(dǎo)??致所謂“位置交換”來完成
Fig.?2-4?Schematic?diagram?of?the?PEM?model??形核增長(zhǎng)模型認(rèn)為當(dāng)一個(gè)新相(鈍化膜)在金屬表面形成時(shí),最開始是??在金屬表面離散形核,然后橫向生長(zhǎng)至布滿整個(gè)表面。新相的形核和生長(zhǎng)由??所施加的電壓控制。??點(diǎn)缺陷模型是目前在學(xué)術(shù)界接受度最高的一種理論。模型中對(duì)鈍化膜的??認(rèn)識(shí)包括以下內(nèi)容:(1)鈍化膜是一種含有大量缺陷的半導(dǎo)體,其中的空位??(包括金屬空位、氧空位和金屬夾雜)作為摻雜物;(2)金屬基體/膜界面和??膜層/溶液界面處于電化學(xué)平衡;(3)通過膜/溶液界面的電位隨著外加電位和??溶液pH呈線性變化;(4)鈍化膜的電場(chǎng)強(qiáng)度恒定,與鈍化膜厚度無關(guān)。鈍??化膜的生長(zhǎng)和破裂過程就是點(diǎn)缺陷在靜電場(chǎng)作用下發(fā)生遷移的過程,所以,??鈍化膜生長(zhǎng)的動(dòng)力是膜中缺陷的密度和擴(kuò)散率。在介質(zhì)環(huán)境中的不銹鋼鈍化??膜處于溶解與生成的動(dòng)態(tài)過程之中,鈍化膜中空位的形成與消失均在界面處??發(fā)生。在陽極極化條件下,氧空位從金屬/內(nèi)層膜界面向外層膜方向遷移,而??金屬離子從外層膜/內(nèi)層膜界面向內(nèi)層膜方向遷移。這些空位的遷移最終可能??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]SO42-對(duì)含Cl-溶液中316L奧氏體不銹鋼鈍化行為及點(diǎn)蝕行為的影響[J]. 唐嫻,張雷,王竹,張子如,薛俊鵬,路民旭. 工程科學(xué)學(xué)報(bào). 2018(03)
[2]Investigation of the deterioration of passive films in H2S-containing solutions[J]. Zhu Wang,Lei Zhang,Xian Tang,Zhao-yang Cui,Jun-peng Xue,Min-xu Lu. International Journal of Minerals Metallurgy and Materials. 2017(08)
[3]316L不銹鋼在不同pH值硼酸溶液中的電化學(xué)行為研究[J]. 王彥亮,陳旭,王際東,宋博,范東升,何川. 中國(guó)腐蝕與防護(hù)學(xué)報(bào). 2017(02)
[4]超級(jí)13Cr管材在低H2S高CO2環(huán)境中的開裂敏感性研究[J]. 陶杉,徐燕東,杜春朝. 表面技術(shù). 2016(07)
[5]非金屬夾雜物對(duì)439M鐵素體不銹鋼耐點(diǎn)蝕性能的影響[J]. 覃懷鵬,陳海濤,郎宇平,陳清明. 熱加工工藝. 2016(10)
[6]2205雙相不銹鋼在CO2-H2S-Cl--H2O環(huán)境中的電化學(xué)腐蝕行為[J]. 尹志福,朱世東,南蓓蓓,呂雷,張永強(qiáng). 材料保護(hù). 2016(03)
[7]316L不銹鋼TIG焊接接頭在H2S溶液中的鈍化性能[J]. 盧向雨,姚勝,唐俊榮,趙劉明,馮興國(guó). 表面技術(shù). 2015(12)
[8]pH值對(duì)304不銹鋼在3.5%NaCl溶液中點(diǎn)蝕過程的影響[J]. 葉超,杜楠,田文明,趙晴,朱麗. 中國(guó)腐蝕與防護(hù)學(xué)報(bào). 2015(01)
[9]Effects of Sulphate-reducing Bacteria on Corrosion Behaviour of 2205 Duplex Stainless Steel[J]. Cheng-hao LIANG,Hua WANG,Nai-bao HUANG. Journal of Iron and Steel Research(International). 2014(04)
[10]超級(jí)13Cr不銹鋼腐蝕行為研究進(jìn)展[J]. 朱世東,李金靈,馬海霞,尹志福,王維波. 腐蝕科學(xué)與防護(hù)技術(shù). 2014(02)
本文編號(hào):3474688
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