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多弧離子鍍沉積Ti/TiN多層薄膜的摩擦磨損及電化學(xué)性能

發(fā)布時間:2021-07-22 10:17
  軟硬交替多層結(jié)構(gòu)的薄膜因其優(yōu)異的抗摩擦磨損性能和耐腐蝕特性使其在工程領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價值。利用多弧離子鍍在不銹鋼和Si(100)表面沉積了Ti N單層薄膜和3種不同Ti/Ti N調(diào)制比的多層膜,利用X射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、CSM摩擦磨損試驗機和電化學(xué)工作站分別分析了薄膜的結(jié)構(gòu)特征、耐磨損性能和電化學(xué)性能。結(jié)果表明:多層膜層狀結(jié)構(gòu)明顯,Ti N相出現(xiàn)(111)面擇優(yōu)取向;Ti與Ti N沉積時間比為1∶5的樣品具有較低的摩擦因數(shù)(0.26)和磨損率(6.6×10–7 mm3·N–1·m–1);在3.5%Na Cl溶液中,多層膜樣品的腐蝕電流密度較不銹鋼基體降低了兩個數(shù)量級,腐蝕電位較不銹鋼基體明顯提高,表明多層膜可以提高不銹鋼基體的耐腐蝕性。 

【文章來源】:中國表面工程. 2016,29(03)北大核心EICSCD

【文章頁數(shù)】:6 頁

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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本文編號:3296962

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