采用多靶射頻磁控濺射方法,在Si（100）襯底上制備不同調(diào)制周期（Λ分別為54 nm、30 nm、18 nm）MoS₂/類金剛石（DLC）多層薄膜.利用掃描電子顯微鏡、拉曼光譜儀、X射線衍射儀、透射電子顯微鏡、納米壓痕儀研究多層膜的形貌、微觀結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能受調(diào)制周期的影響規(guī)律;利用球-盤摩擦試驗(yàn)機(jī)考察薄膜在大氣環(huán)境下的潤(rùn)滑性能.結(jié)果表明:采用交替沉積MoS₂/DLC多層膜可有效抑制濺射MoS₂中柱狀結(jié)構(gòu)生長(zhǎng),制備的薄膜結(jié)構(gòu)致密;多層膜硬度隨調(diào)制周期的增加而增大.透射斷面分析表明:多層膜層間界面不平整但周期性結(jié)構(gòu)清晰且致密,其調(diào)制周期厚度與試驗(yàn)設(shè)定值基本一致.與純MoS₂薄膜相比,調(diào)制周期為54 nm的薄膜具有較好的法向承載及彈性恢復(fù)能力,其硬度最高,達(dá)7.15 GPa;法向載荷為5 N時(shí),該薄膜在大氣環(huán)境（相對(duì)濕度約30%）下具有最低的摩擦系數(shù)（0.09）和最低的磨損率[1.34×10^–7 mm³/（N·m）]. 

【文章來(lái)源】：摩擦學(xué)學(xué)報(bào). 2017,37(01)北大核心

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【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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