發(fā)布時(shí)間：2021-01-03 07:13

　　本文以一種新型國(guó)產(chǎn)Zr-Sn-Nb合金為研究對(duì)象,以金相顯微鏡（OM）、掃描電子顯微鏡（SEM）和透射電子顯微鏡（TEM）為主要手段,結(jié)合各種現(xiàn)代測(cè)試分析技術(shù),對(duì)研究對(duì)象采取不同的淬火以及時(shí)效處理,系統(tǒng)研究了不同淬火工藝、時(shí)效溫度及時(shí)間對(duì)Zr-Sn-Nb合金中顯微組織以及第二相析出及演變規(guī)律的影響,主要結(jié)論如下:不同淬火工藝下樣品的顯微組織有所差別,淬火樣品中板條寬度隨著分級(jí)淬火溫度的降低而增大;隨著淬火過(guò)程中分級(jí)淬火溫度的降低,淬火后微觀組織變化依次為:板條狀馬氏體+針狀馬氏體（1030°C）→板條狀馬氏體+針狀馬氏體+basket-weave魏氏組織（900°C）→Lenticular（800°C、700°C）;在1030°C及900°C淬火后的樣品中觀察到{101（?）1}孿晶。四種狀態(tài)下的樣品淬火后都僅發(fā)現(xiàn)了殘余β相+ω相,β相主要為棒狀和塊狀,ω相呈白色顆粒狀。在殘余β相中存在著Fe元素和Nb元素的偏聚,1030°C下水冷的組織中僅有Fe元素的富集,隨著分級(jí)淬火溫度的降低,Nb元素?cái)U(kuò)散偏聚程度逐步加深,在殘余β相中檢測(cè)到Nb元素的含量也逐漸增加。α和β相、β和ω相之間均存在一... 

【文章來(lái)源】：重慶大學(xué)重慶市 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

實(shí)驗(yàn)流程圖

重慶大學(xué)碩士學(xué)位論文12火工藝下的淬火板條寬度進(jìn)行定量的統(tǒng)計(jì)。統(tǒng)計(jì)方法如下：首先選擇不同狀態(tài)的10000×下的樣品各5張，以減少統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的偏差，確保結(jié)果的可靠性；其次使用Photoshop軟件，在軟件中用垂直于板條的紅線盡可能多地在照片上描畫(huà)出每個(gè)板條的寬度，如圖2.2所示；之后打開(kāi)Imageproplus軟件，將ECC照片拖入，新建與ECC照片上相同的標(biāo)尺，再用該標(biāo)尺來(lái)計(jì)量圖2.2b中所有紅線的長(zhǎng)度，計(jì)量完成后將數(shù)據(jù)導(dǎo)入Excel中，做出每種狀態(tài)樣品的板條寬度分布圖。圖2.2板條寬度測(cè)量方法Fig.2.2Methodusedtomeasuretheα-platewidth2.3.3掃描電鏡（SEM）技術(shù)及樣品制備除了電子通道襯度像之外，掃描電子顯微鏡中的二次電子像也是一種主要的成像手段。二次電子是最常見(jiàn)的成像信號(hào)，一般是從樣品表面5-10nm層內(nèi)在入射電子作用下被發(fā)射出來(lái)，能量在0-50eV之間。二次電子來(lái)自樣品表面，產(chǎn)額也主要由樣品表面形貌所決定，相對(duì)于背散射電子，它對(duì)樣品的原子序數(shù)并不敏感，而是對(duì)樣品表面狀態(tài)十分敏感，因此主要用于表征樣品的表面形貌。在鋯合金中，由于第二相粒子比基體耐腐蝕性能優(yōu)良，對(duì)鋯合金進(jìn)行特定的腐蝕處理后，兩者形貌上區(qū)別較大。因此對(duì)鋯合金中第二相的觀察通常使用二次電子成像技術(shù)。二次電子像的樣品制備流程與金相樣品制備前期流程相同，減少彩色金相中陽(yáng)極覆膜這一步驟，采用相同的工藝進(jìn)行樣品打磨及腐蝕即可得到所需樣品。本課題中使用TESCANMIRA3場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡來(lái)獲取二次電子像，掃描電子顯微鏡的工作參數(shù)與獲取ECC像時(shí)的工作參數(shù)相同。2.3.4透射電鏡（TEM）技術(shù)及樣品制備透射電子顯微鏡（TransmissionElectronMicroscope，簡(jiǎn)稱TEM）是一種把經(jīng)

重慶大學(xué)碩士學(xué)位論文12火工藝下的淬火板條寬度進(jìn)行定量的統(tǒng)計(jì)。統(tǒng)計(jì)方法如下：首先選擇不同狀態(tài)的10000×下的樣品各5張，以減少統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的偏差，確保結(jié)果的可靠性；其次使用Photoshop軟件，在軟件中用垂直于板條的紅線盡可能多地在照片上描畫(huà)出每個(gè)板條的寬度，如圖2.2所示；之后打開(kāi)Imageproplus軟件，將ECC照片拖入，新建與ECC照片上相同的標(biāo)尺，再用該標(biāo)尺來(lái)計(jì)量圖2.2b中所有紅線的長(zhǎng)度，計(jì)量完成后將數(shù)據(jù)導(dǎo)入Excel中，做出每種狀態(tài)樣品的板條寬度分布圖。圖2.2板條寬度測(cè)量方法Fig.2.2Methodusedtomeasuretheα-platewidth2.3.3掃描電鏡（SEM）技術(shù)及樣品制備除了電子通道襯度像之外，掃描電子顯微鏡中的二次電子像也是一種主要的成像手段。二次電子是最常見(jiàn)的成像信號(hào)，一般是從樣品表面5-10nm層內(nèi)在入射電子作用下被發(fā)射出來(lái)，能量在0-50eV之間。二次電子來(lái)自樣品表面，產(chǎn)額也主要由樣品表面形貌所決定，相對(duì)于背散射電子，它對(duì)樣品的原子序數(shù)并不敏感，而是對(duì)樣品表面狀態(tài)十分敏感，因此主要用于表征樣品的表面形貌。在鋯合金中，由于第二相粒子比基體耐腐蝕性能優(yōu)良，對(duì)鋯合金進(jìn)行特定的腐蝕處理后，兩者形貌上區(qū)別較大。因此對(duì)鋯合金中第二相的觀察通常使用二次電子成像技術(shù)。二次電子像的樣品制備流程與金相樣品制備前期流程相同，減少彩色金相中陽(yáng)極覆膜這一步驟，采用相同的工藝進(jìn)行樣品打磨及腐蝕即可得到所需樣品。本課題中使用TESCANMIRA3場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡來(lái)獲取二次電子像，掃描電子顯微鏡的工作參數(shù)與獲取ECC像時(shí)的工作參數(shù)相同。2.3.4透射電鏡（TEM）技術(shù)及樣品制備透射電子顯微鏡（TransmissionElectronMicroscope，簡(jiǎn)稱TEM）是一種把經(jīng)

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]熱加工對(duì)Zr-Sn-Nb鋯合金顯微組織和耐腐蝕性能的影響[J]. 劉文慶,雷鳴,耿迅,李強(qiáng),姚美意,周邦新.  原子能科學(xué)技術(shù). 2007(06)
[2]我國(guó)高性能鋯合金的發(fā)展[J]. 趙文金,周邦新,苗志,彭倩,蔣有榮,蔣宏曼,龐華.  原子能科學(xué)技術(shù). 2005(S1)
[3]鋯合金在核工業(yè)中的應(yīng)用現(xiàn)狀及發(fā)展前景[J]. 劉承新.  稀有金屬快報(bào). 2004(05)
[4]變形及熱處理對(duì)Zr-Sn-Nb合金中β-Zr分解的影響[J]. 李強(qiáng),劉文慶,周邦新.  稀有金屬材料與工程. 2002(05)

博士論文
[1]加工工藝及合金成分對(duì)鋯合金第二相和相變行為的影響[D]. 邱日盛.重慶大學(xué) 2014



本文編號(hào)：2954553