Ni(P)-Cu納米復合鍍層對無鉛焊點界面結構及剪切性能的研究
發(fā)布時間:2020-12-29 15:22
在電子封裝領域中,焊點的可靠性是決定元器件服役時間長短的重要因素,通常使用焊點界面IMC的結構以及焊點的抗剪強度來衡量焊點的可靠性。傳統(tǒng)的Sn基釬料與Cu基板往往會快速反應形成過厚的脆性IMC層,降低焊點的可靠性。目前采用在釬料與基板之間插入一層Ni(P)鍍層抑制界面IMC的生長。然而Ni(P)鍍層中的P會使得界面反應變得復雜,在焊點時效過程中的Ni(P)鍍層會形成脆性的Ni3P層和Ni2SnP層,當這兩層化合物形成后將造成焊點界面脆化和界面IMC層剝落,降低焊點可靠性。本實驗中嘗試在Ni(P)鍍層中添加納米Cu顆粒形成Ni(P)-Cu納米復合鍍層,將這種納米復合鍍層與Sn58Bi無鉛釬料進行釬焊及恒溫固態(tài)時效,探究這種納米復合鍍層對焊點界面IMC生長情況以及焊點拉伸剪切強度的影響。為了得出在與Sn58Bi釬料進行釬焊反應時厚度最為恰當?shù)腘i(P)鍍層厚度,通過控制施鍍時間,得到鍍有不同厚度Ni(P)鍍層的Cu基板,并與Sn58Bi釬料進行釬焊及時效。結果發(fā)現(xiàn)在基板表面粗糙度與潤濕性正相關,均與鍍層厚度呈現(xiàn)類似于二次函數(shù)關系,當鍍層厚度為0.5μm時基板表面粗糙度最低,釬料在基板表面的...
【文章來源】:南昌大學江西省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:61 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1?Sn-Bi二元合金相圖??Fig.?1?Sn-Bi?binary?phase?diagram??
?第二章實驗材料、研究方法及實驗過程???貌,只需使用無水乙醇漂洗后吹干,不進行其它處理。下板(即尺寸為50x10x2??mm3的Cu板)將用于觀察焊點斷口界面結構,使用電火花線切割機床切割焊接??部分,并進行鑲嵌、拋光、淺腐蝕,具體過程如上所述。??■、:j??(a)???^?4?、:??/?.^5x5x2?mm2?■??/摩…制?^??5〇xl〇x2?\/??圖2?(a):拉伸試驗焊點結構;(b):拉伸試驗剪切夾具??Fig.2?(a):?Tensile?test?solder?joint?structure;?(b):?Tensile?test?shear?fixture.??2.3試驗分析設備??(1)鍍層的分析??本實驗中使用原子力顯微鏡(AFM)測定鍍層表面粗糙度,使用X射線衍??射儀(XRD)測定鍍層晶體結構及晶體取向,同時使用X射線光電子能譜儀(XPS)??測定鍍層表面是否存在雜質。??使用電子掃描顯微鏡(SEM)觀察鍍層表面形貌,使用配套的能譜儀(EDS)??測定鍍層中各元素含量。??(2)焊點的分析??使用SEM觀察焊點界面結構及微觀形貌,并使用配套的EDS測定IMC組??成并確定是何種相。??2.4焊點IMC厚度的計算??由于焊點界面TMC的厚度會影響焊點的可靠性,因此需要記錄各個焊點??IMC的厚度,以總結IMC在時效過程中的增長規(guī)律。本實驗中,由于在焊接期??間界面反應劇烈,界面IMC的平整度較差,為減小實驗誤差,采用計算IMC等??效厚度的方式測定IMC厚度。具體方法為使用Photoshop軟件調(diào)整電鏡照片使??IMC層清晰,記錄IMC層像素點并使用如下公式計
基板與無鉛釬料之間插入一層N。ǎ校╁儗幼鳛閿U散阻隔層,??而Ni(P)鍍層的厚度會對焊點界面結構及微觀形貌產(chǎn)生明顯的影響。本章通過控??制施鍍時間獲得具有不同厚度的Ni(P)的奸焊基板,與Sn58Bi釬料在180°C釬焊??后并在115°C條件下恒溫時效至240h,通過觀察焊點界面結構及微觀形貌,總??結不同厚度的Ni(P)鍍層對焊點時效過程中界面IMC演化規(guī)律的影響,確定在與??Sn58Bi釬料釬焊時最適宜的Ni(P)鍍層厚度。??3.1不同厚度Ni(P)鍍層表面潤濕性分析??圖3.1(a-d)展示了當Ni(P)鍍層厚度不同時,Sn58Bi釬料在基板表面的潤濕??情況?梢悦黠@發(fā)現(xiàn)Sn58BMf料在純Cu基板上潤濕面積較大,潤濕性能良好,??熔融焊料均勻的鋪展在基板表面,當Ni(P)鍍層厚度增加至時,Sn58Bi??釬料在基板表面的潤濕面積基本不變。而隨著鍍層厚度增長至〇_5?pm時,熔融??焊料在基板上聚縮為球狀,潤濕面積明顯減小,這說明Sn58BMf料在此基板上??潤濕性能較差。鍍層的厚度繼續(xù)增加至1.5?|im時,焊料在基板表面的潤濕面積??反而增加,潤濕性能得到提升。??.?...?.…?;:.一廠一??(a)?(b)?(。)?(d)??圓隱??KEirfiin??圖3_1?Sn58Bi焊料在不同厚度的Ni(P)鍍層表面潤濕圖片:(a)?0阿,(b)?0.1?pm,?(c)?0.5評,(d)??1.5?|im.??Fig.?3.1?Welting?pictures?of?Sn58Bi?solder?on?the?Ni(P)?plating?with?different?thic
【參考文獻】:
期刊論文
[1]基板稀土微合金化對Sn3Ag0.5Cu/Cu釬焊界面反應的影響[J]. 徐濤,胡小武,江雄心. 電子元件與材料. 2016(02)
[2]化學鍍鎳施鍍過程穩(wěn)定性分析[J]. 陳月華,劉永永,江德鳳,袁禮華. 表面技術. 2013(02)
[3]Cu6Sn5和Ni3Sn4結構性能的第一原理計算[J]. 王宏偉,孫實春,徐振清,張瓏. 焊接學報. 2012(09)
[4]稀土元素對無鉛釬料組織和性能的影響[J]. 張亮,韓繼光,何成文,郭永環(huán),薛松柏,皋利利,葉煥. 中國有色金屬學報. 2012(06)
[5]添加Ag元素對鋁軟釬焊用Sn-1.5Zn系釬料性能的影響[J]. 劉亮岐,徐金華,陳勝,馬鑫,張新平. 材料工程. 2010(10)
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[8]微電子封裝無鉛釬焊的可靠性研究[J]. 梁凱,姚高尚,簡虎,熊臘森. 電焊機. 2006(05)
[9]微電子封裝無鉛釬焊的可靠性研究[J]. 梁凱,姚高尚,簡虎,熊臘森. 電子質量. 2006(04)
[10]共晶SnBi/Cu焊點界面處Bi的偏析[J]. 劉春忠,張偉,隋曼齡,尚建庫. 金屬學報. 2005(08)
博士論文
[1]電子封裝互連無鉛釬料及其界面問題研究[D]. 于大全.大連理工大學 2004
碩士論文
[1]封裝結構界面熱斷裂力學分析[D]. 國峰楠.哈爾濱工業(yè)大學 2010
[2]添加元素對Sn基無鉛釬料工藝性能及接頭區(qū)界面行為的影響[D]. 胡志田.合肥工業(yè)大學 2006
本文編號:2945864
【文章來源】:南昌大學江西省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:61 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1?Sn-Bi二元合金相圖??Fig.?1?Sn-Bi?binary?phase?diagram??
?第二章實驗材料、研究方法及實驗過程???貌,只需使用無水乙醇漂洗后吹干,不進行其它處理。下板(即尺寸為50x10x2??mm3的Cu板)將用于觀察焊點斷口界面結構,使用電火花線切割機床切割焊接??部分,并進行鑲嵌、拋光、淺腐蝕,具體過程如上所述。??■、:j??(a)???^?4?、:??/?.^5x5x2?mm2?■??/摩…制?^??5〇xl〇x2?\/??圖2?(a):拉伸試驗焊點結構;(b):拉伸試驗剪切夾具??Fig.2?(a):?Tensile?test?solder?joint?structure;?(b):?Tensile?test?shear?fixture.??2.3試驗分析設備??(1)鍍層的分析??本實驗中使用原子力顯微鏡(AFM)測定鍍層表面粗糙度,使用X射線衍??射儀(XRD)測定鍍層晶體結構及晶體取向,同時使用X射線光電子能譜儀(XPS)??測定鍍層表面是否存在雜質。??使用電子掃描顯微鏡(SEM)觀察鍍層表面形貌,使用配套的能譜儀(EDS)??測定鍍層中各元素含量。??(2)焊點的分析??使用SEM觀察焊點界面結構及微觀形貌,并使用配套的EDS測定IMC組??成并確定是何種相。??2.4焊點IMC厚度的計算??由于焊點界面TMC的厚度會影響焊點的可靠性,因此需要記錄各個焊點??IMC的厚度,以總結IMC在時效過程中的增長規(guī)律。本實驗中,由于在焊接期??間界面反應劇烈,界面IMC的平整度較差,為減小實驗誤差,采用計算IMC等??效厚度的方式測定IMC厚度。具體方法為使用Photoshop軟件調(diào)整電鏡照片使??IMC層清晰,記錄IMC層像素點并使用如下公式計
基板與無鉛釬料之間插入一層N。ǎ校╁儗幼鳛閿U散阻隔層,??而Ni(P)鍍層的厚度會對焊點界面結構及微觀形貌產(chǎn)生明顯的影響。本章通過控??制施鍍時間獲得具有不同厚度的Ni(P)的奸焊基板,與Sn58Bi釬料在180°C釬焊??后并在115°C條件下恒溫時效至240h,通過觀察焊點界面結構及微觀形貌,總??結不同厚度的Ni(P)鍍層對焊點時效過程中界面IMC演化規(guī)律的影響,確定在與??Sn58Bi釬料釬焊時最適宜的Ni(P)鍍層厚度。??3.1不同厚度Ni(P)鍍層表面潤濕性分析??圖3.1(a-d)展示了當Ni(P)鍍層厚度不同時,Sn58Bi釬料在基板表面的潤濕??情況?梢悦黠@發(fā)現(xiàn)Sn58BMf料在純Cu基板上潤濕面積較大,潤濕性能良好,??熔融焊料均勻的鋪展在基板表面,當Ni(P)鍍層厚度增加至時,Sn58Bi??釬料在基板表面的潤濕面積基本不變。而隨著鍍層厚度增長至〇_5?pm時,熔融??焊料在基板上聚縮為球狀,潤濕面積明顯減小,這說明Sn58BMf料在此基板上??潤濕性能較差。鍍層的厚度繼續(xù)增加至1.5?|im時,焊料在基板表面的潤濕面積??反而增加,潤濕性能得到提升。??.?...?.…?;:.一廠一??(a)?(b)?(。)?(d)??圓隱??KEirfiin??圖3_1?Sn58Bi焊料在不同厚度的Ni(P)鍍層表面潤濕圖片:(a)?0阿,(b)?0.1?pm,?(c)?0.5評,(d)??1.5?|im.??Fig.?3.1?Welting?pictures?of?Sn58Bi?solder?on?the?Ni(P)?plating?with?different?thic
【參考文獻】:
期刊論文
[1]基板稀土微合金化對Sn3Ag0.5Cu/Cu釬焊界面反應的影響[J]. 徐濤,胡小武,江雄心. 電子元件與材料. 2016(02)
[2]化學鍍鎳施鍍過程穩(wěn)定性分析[J]. 陳月華,劉永永,江德鳳,袁禮華. 表面技術. 2013(02)
[3]Cu6Sn5和Ni3Sn4結構性能的第一原理計算[J]. 王宏偉,孫實春,徐振清,張瓏. 焊接學報. 2012(09)
[4]稀土元素對無鉛釬料組織和性能的影響[J]. 張亮,韓繼光,何成文,郭永環(huán),薛松柏,皋利利,葉煥. 中國有色金屬學報. 2012(06)
[5]添加Ag元素對鋁軟釬焊用Sn-1.5Zn系釬料性能的影響[J]. 劉亮岐,徐金華,陳勝,馬鑫,張新平. 材料工程. 2010(10)
[6]鋁合金表面Ni-Cu-P化學鍍層的性能研究[J]. 張安柱,佟富強. 蘇州大學學報(自然科學版). 2010(01)
[7]磷含量對Sn-2.5Ag-2.0Ni/Ni(P)釬焊接頭組織及剪切強度的影響[J]. 吳茂,何新波,孟菲菲,曲選輝. 材料熱處理學報. 2009(04)
[8]微電子封裝無鉛釬焊的可靠性研究[J]. 梁凱,姚高尚,簡虎,熊臘森. 電焊機. 2006(05)
[9]微電子封裝無鉛釬焊的可靠性研究[J]. 梁凱,姚高尚,簡虎,熊臘森. 電子質量. 2006(04)
[10]共晶SnBi/Cu焊點界面處Bi的偏析[J]. 劉春忠,張偉,隋曼齡,尚建庫. 金屬學報. 2005(08)
博士論文
[1]電子封裝互連無鉛釬料及其界面問題研究[D]. 于大全.大連理工大學 2004
碩士論文
[1]封裝結構界面熱斷裂力學分析[D]. 國峰楠.哈爾濱工業(yè)大學 2010
[2]添加元素對Sn基無鉛釬料工藝性能及接頭區(qū)界面行為的影響[D]. 胡志田.合肥工業(yè)大學 2006
本文編號:2945864
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