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Al-Si合金微弧氧化陶瓷層生長特性及膜層性能研究

發(fā)布時間:2020-09-03 18:48
   鋁硅合金因具有優(yōu)良的機械性能、物理性能及加工性能而被作為主要的汽車發(fā)動機材料,但長期的應(yīng)用環(huán)境需要其表面具有較強的耐腐蝕性能。利用微弧氧化技術(shù)在合金表面制備出一層表面光滑致密的陶瓷層,可以有效提升其在使用環(huán)境中的耐腐蝕性能,增長其服役壽命,但基體中的硅卻制約著微弧氧化工藝的進一步發(fā)展。本論文選取1060純鋁、ZL101、ZL102合金三種硅含量不同的基體,通過對比膜層生長速率、厚度、粗糙度、截面形貌、硬度及耐腐蝕性能,探究硅在鋁合金微弧氧化的作用機制;為進一步確定共晶硅尺寸對微弧氧化反應(yīng)的影響,利用Na對ZL101合金進行變質(zhì)處理,細化基體中的共晶硅相,通過生長參數(shù)及性能對比分析共晶硅相尺寸的影響機制;為尋找簡單有效提高ZL102合金膜層質(zhì)量的工藝方法,分別選取機械打磨、酸液刻蝕、預(yù)噴砂處理三種方法對其進行預(yù)處理,利用SEM、EDS分析預(yù)處理后表面形貌及元素含量的變化,依次對比生長速度及膜層質(zhì)量,評價預(yù)處理工藝對提高膜層性能的可能性。研究表明:微弧氧化膜的生長速率及膜層質(zhì)量均會隨合金基體中硅含量的增加而不斷降低。10 min時,純鋁試樣平均厚度值約為8.33μm,平均粗糙度值為0.93μm;ZL102合金的厚度平均值降低為6.75μm,粗糙度平均值減少至0.80μm。陽極氧化階段,基體表面富Si區(qū)與富Al區(qū)分別發(fā)生了不同的氧化反應(yīng),Al基體上主要形成Al2O3薄膜,共晶硅上形成粗糙的Si-O化合物,起弧放電優(yōu)先發(fā)生在有Al2O3薄膜生成的位置;經(jīng)Na變質(zhì)后的ZL101合金,反應(yīng)20 min內(nèi)膜層生長速率始終高于原合金,表面放電孔洞更加均勻。相組成的變化不大,但膜層的硬度及耐腐蝕性能均有所提升。分別利用機械打磨、酸洗、噴砂的預(yù)處理方式對ZL102合金進行預(yù)處理,在硅酸鹽電解液中進行微弧氧化。實驗結(jié)果表明:預(yù)處理工藝對ZL102合金微弧氧化成膜有較大影響,成膜速率依次為酸洗試樣機械打磨試樣噴砂試樣:利用氫氟酸及硝酸的混合溶液(體積比2:1)對ZL102合金酸洗60s,可使表層Si元素含量下降至2.02%左右;電化學(xué)曲線及阻抗測試均表明噴砂處理后膜層能夠有效保護基體免受腐蝕。
【學(xué)位單位】:西安理工大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位年份】:2018
【中圖分類】:TG174.453

【參考文獻】

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本文編號:2811824

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