離子濺射新型類金剛石Ta-C涂層的性能及應用研究
【學位授予單位】:上海應用技術大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2018
【分類號】:TG174.4
【圖文】:
圖 1.1 類金剛石的三元相圖Fig1.1 Ternary phase diagrams of diamond-like carbon石涂層的制備方法和機理石涂層具有和金剛石性能許多相似之處,如高硬度、高彈性模量、抗熱震性等特點,具有廣闊的應用前景。對類金剛石涂層制備技術
圖 1.2 離子束沉積裝置示意圖Fig1.2 Schematic diagram of ion beam deposition device法(如圖 1.3 所示):放電使碳電離產生高純碳等離離化率高、離子純度高、能產生幾乎所有金屬的等以沉積獲得平滑致密并且與基體結合良好的涂層,
濺射沉積法示意圖
【參考文獻】
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本文編號:2802251
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