離子濺射新型類金剛石Ta-C涂層的性能及應(yīng)用研究
【學(xué)位授予單位】:上海應(yīng)用技術(shù)大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TG174.4
【圖文】:
圖 1.1 類金剛石的三元相圖Fig1.1 Ternary phase diagrams of diamond-like carbon石涂層的制備方法和機理石涂層具有和金剛石性能許多相似之處,如高硬度、高彈性模量、抗熱震性等特點,具有廣闊的應(yīng)用前景。對類金剛石涂層制備技術(shù)
圖 1.2 離子束沉積裝置示意圖Fig1.2 Schematic diagram of ion beam deposition device法(如圖 1.3 所示):放電使碳電離產(chǎn)生高純碳等離離化率高、離子純度高、能產(chǎn)生幾乎所有金屬的等以沉積獲得平滑致密并且與基體結(jié)合良好的涂層,
濺射沉積法示意圖
【參考文獻】
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本文編號:2802251
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