非平衡磁控濺射離子鍍制備TiAlN薄膜及其性能研究
【圖文】:
圖 1.1 濺射現(xiàn)象Fig.1.1 sputtering phenomena入射離子能量過高時(shí),會(huì)直接進(jìn)入靶材表面內(nèi),產(chǎn)生一系列的物作用于內(nèi)部原子發(fā)生多次級(jí)聯(lián)碰撞,如圖 1.2 所示,使得內(nèi)部組[10]
Fig.1.1 sputtering phenomena射離子能量過高時(shí),會(huì)直接進(jìn)入靶材表面內(nèi),產(chǎn)生一系列用于內(nèi)部原子發(fā)生多次級(jí)聯(lián)碰撞,如圖 1.2 所示,,使得內(nèi)體結(jié)構(gòu)組織發(fā)生變化[10]。
【學(xué)位授予單位】:西華大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2017
【分類號(hào)】:TG174.4
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):2532858
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