粘結(jié)層預(yù)處理對PS-PVD沉積7YSZ熱障涂層氧化行為的影響
【圖文】:
圖1所示。圖2為采用PS-PVD制備的7YSZ涂層的微觀結(jié)構(gòu)。圖2a為涂層的表面形貌,呈團簇的“菜花”狀結(jié)構(gòu)。圖2b為涂層的斷面結(jié)構(gòu),圖中柱狀晶垂直于基體表面生長,涂層底部柱狀晶寬度窄且較致密,上端柱狀結(jié)構(gòu)寬并在柱狀結(jié)構(gòu)的枝晶間存在大量的孔隙,,從頂端的局部放大圖可以看出,柱狀結(jié)構(gòu)內(nèi)部包含了許多納米級二次柱狀晶,這主要是氣相沉積過程中“二次陰影”所致[18—19],同時觀察到了柱狀枝晶上分布著較多的微納固態(tài)顆粒。圖3為涂層及粉末的XRD衍射圖,由圖3可知,M6700粉末中主要含有單斜相M和四方形T相,噴圖1SulzerMetcoM67007YSZ粉末形貌Fig.1MorphologyoftheSulzerMetcoM67007YSZpowders圖2PS-PVD制備的7YSZ涂層微觀結(jié)構(gòu)Fig.2Microstructuresof7YSZcoatingpreparedbyPS-PVD:a)surface;b)cross-sectional
的“菜花”狀結(jié)構(gòu)。圖2b為涂層的斷面結(jié)構(gòu),圖中柱狀晶垂直于基體表面生長,涂層底部柱狀晶寬度窄且較致密,上端柱狀結(jié)構(gòu)寬并在柱狀結(jié)構(gòu)的枝晶間存在大量的孔隙,從頂端的局部放大圖可以看出,柱狀結(jié)構(gòu)內(nèi)部包含了許多納米級二次柱狀晶,這主要是氣相沉積過程中“二次陰影”所致[18—19],同時觀察到了柱狀枝晶上分布著較多的微納固態(tài)顆粒。圖3為涂層及粉末的XRD衍射圖,由圖3可知,M6700粉末中主要含有單斜相M和四方形T相,噴圖1SulzerMetcoM67007YSZ粉末形貌Fig.1MorphologyoftheSulzerMetcoM67007YSZpowders圖2PS-PVD制備的7YSZ涂層微觀結(jié)構(gòu)Fig.2Microstructuresof7YSZcoatingpreparedbyPS-PVD:a)surface;b)cross-sectional
【作者單位】: 廣東省新材料研究所現(xiàn)代材料表面工程技術(shù)國家工程實驗室廣東省現(xiàn)代表面工程技術(shù)重點實驗室;廣東工業(yè)大學(xué)材料與能源學(xué)院;
【基金】:廣東省自然科學(xué)基金(2016A030312015) 廣東省科技廳對外科技合作項目(2013B050800031);廣東省科技廳工業(yè)高新技術(shù)攻關(guān)引導(dǎo)項目(2013B010102023);廣東省科技廳國際科技合作(2014B050502008)~~
【分類號】:TG174.4
【相似文獻】
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本文編號:2528698
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