發(fā)布時(shí)間：2018-07-10 05:59

  本文選題：不銹鋼 + 堿性拋光液　； 參考：《金剛石與磨料磨具工程》2016年02期

【摘要】：為提高化學(xué)機(jī)械拋光的加工效果,我們研究了pH值、氧化劑種類和氧化劑含量對(duì)材料去除率和表面粗糙度的影響。結(jié)果表明:不同氧化劑的拋光液在各自的最佳pH值時(shí)達(dá)到最大的材料去除率,分別為181nm/min(H_2O_2拋光液,pH=9),177nm/min(Cr_2O_3拋光液,pH=11),172nm/min(Na2Cr_2O_7拋光液,pH=11)和147nm/min(NaClO拋光液,pH=13);拋光液中氧化劑含量、pH值對(duì)拋光后不銹鋼的表面粗糙度影響較小。其中,材料去除率較高的H_2O_2和Cr_2O_3可作為304不銹鋼化學(xué)機(jī)械拋光堿性拋光液的氧化劑。
[Abstract]:In order to improve the processing effect of chemical-mechanical polishing, we studied the effects of pH value, oxidant type and oxidant content on the material removal rate and surface roughness. The results showed that the maximum material removal rate was obtained at the optimum pH value of different oxidants. The results are as follows: 181nm/min (H _ 2O _ 2 polishing solution pH ~ (9) and 177nm 路min ~ (-1) ~ (-1) ~ (17) nm / min) (Na _ 2Cr _ 2O _ 7 polishing solution pH ~ (11) and 147nm/min (NaClO) polishing solution pH ~ (13). The effect of oxidant content and pH value in polishing solution on surface roughness of polished stainless steel is less. Among them, H _ s _ S _ 2O _ 2 and Cr _ S _ 2O _ 3, which have higher material removal rate, can be used as oxidant of alkaline polishing solution for chemical and mechanical polishing of 304 stainless steel.
【作者單位】： 河南科技學(xué)院機(jī)電學(xué)院;駐馬店技師學(xué)院機(jī)械工程系;河南理工大學(xué)機(jī)械與動(dòng)力工程學(xué)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金面上項(xiàng)目(No.51375149)
【分類號(hào)】：TG175.1;TG580.692

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