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電沉積時間和電流對熔鹽電沉積鈦鍍層Ti含量和耐腐蝕性的影響

發(fā)布時間:2018-07-07 18:04

  本文選題:熔鹽電沉積 + 沉積電流。 參考:《熱加工工藝》2017年22期


【摘要】:研究了沉積電流和沉積時間對熔鹽電沉積鈦鍍層Ti含量及其耐腐蝕性的影響。結果表明,在800℃下,當沉積時間1h,沉積電流1.5A的條件下,碳鋼表面沉積層中鈦含量最高,并且鈦沉積層表面形貌均勻、致密。試樣的耐腐蝕性與沉積層中的鈦含量正相關,即當沉積時間為1 h,沉積電流為1.5 A的條件下獲得的試樣耐腐蝕性最佳。另外,沉積層具有較低含量的鈦金屬,能明顯提高碳鋼基體的耐腐蝕性。
[Abstract]:The effects of deposition current and deposition time on Ti content and corrosion resistance of molten salt electrodeposition titanium coating were studied. The results show that at 800 鈩,

本文編號:2105795

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