多硫化鈉法表征純銅帶表面清潔度
本文選題:多硫化鈉 + 純銅帶; 參考:《中南大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)》2017年07期
【摘要】:利用多硫化鈉(Na_2S_x)溶液與純銅帶反應(yīng),采用光學(xué)顯微鏡(OM)、掃描電鏡(SEM)、X線衍射儀(XRD)和X線光電子能譜儀(XPS)對(duì)反應(yīng)后表面層的形貌、物相和元素進(jìn)行分析,考察硫指數(shù)x和反應(yīng)時(shí)間對(duì)表面層形貌的影響,并對(duì)多硫化鈉法表征純銅帶表面清潔度的可行性進(jìn)行探討。研究結(jié)果表明:與多硫化鈉反應(yīng)后,純銅帶的表面層主要由黑色或灰黑色Cu_2S組成的析出層,Cu_2S的形貌不隨時(shí)間而變化,保持均勻、光滑的顆粒狀。隨硫指數(shù)的增加和反應(yīng)時(shí)間的延長(zhǎng),純銅帶的表面層形貌變化規(guī)律一致,均為Cu_2S析出層逐漸加厚,Cu_2S小顆粒聚集形成短棒或大顆粒,然后析出層出現(xiàn)開(kāi)裂,最后是裂紋的擴(kuò)展和脫落。多硫化鈉法可以用于定量表征純銅帶的表面清潔度,反應(yīng)后純銅帶表面黑色區(qū)域面積占整個(gè)純銅帶表面面積的百分比即為純銅帶的表面清潔度。
[Abstract]:The morphology, phase and element of the surface layer of the reaction were analyzed by means of the reaction of Na2SSTX) solution with pure copper tape, optical microscope, scanning electron microscopy (SEM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPSS). The effects of sulfur index x and reaction time on the surface morphology of copper strip were investigated and the feasibility of surface cleanliness characterization of pure copper strip by sodium polysulfide method was discussed. The results show that, after reaction with sodium polysulfide, the surface layer of pure copper belt is mainly composed of black or gray black Cu2S precipitates. The morphology of Cu2S does not change with time, and the surface layer of pure copper belt remains uniform and smooth granular. With the increase of sulfur index and the prolongation of reaction time, the morphology of the surface layer of pure copper strip is the same. The surface layer of pure copper strip is gradually thickened to form a short rod or large particle, and then the precipitated layer cracks, and the surface layer of the pure copper strip changes with the increase of sulfur index and the prolongation of reaction time. Finally, the crack propagation and shedding. The method of sodium polysulfide can be used to quantitatively characterize the surface cleanliness of pure copper strip. The percentage of the area of black area of pure copper strip to the whole surface area of pure copper strip is the surface cleanliness of pure copper strip.
【作者單位】: 北京科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;北京科技大學(xué)現(xiàn)代交通金屬材料與加工技術(shù)北京實(shí)驗(yàn)室;
【基金】:國(guó)家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃(973計(jì)劃)項(xiàng)目(2016YFB0301301) 新金屬材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室自主研究項(xiàng)目(2014Z-05)~~
【分類(lèi)號(hào)】:TG146.11
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,本文編號(hào):1995462
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