本文選題：電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法 + 不銹鋼��； 參考：《分析試驗室》2017年02期

【摘要】：使用HNO3,HF,HCl O4溶解不銹鋼樣品,以Ni 231.6 nm,Cr 267.7 nm作為分析譜線,以干擾系數(shù)法校正Fe對Ni和Cr的光譜干擾,建立了ICP-AES法測定不銹鋼中高含量Ni和Cr的方法。通過測定不同鐵基體濃度下Ni和Cr的發(fā)射強度,考察鐵基體對Ni和Cr的光譜干擾。實驗結(jié)果表明:鐵基體對Ni和Cr均存在光譜干擾,將實驗方法用于不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)樣品中Ni和Cr的測定,經(jīng)光譜干擾校正后,結(jié)果與參考值吻合,測定結(jié)果的絕對誤差在0.35%~0.63%間,相對標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD,n=6)在0.68%~1.1%間。
[Abstract]:A method for the determination of high content of Ni and Cr in stainless steel by ICP-AES method was established by using HNO _ 3H _ 2O _ 4 HCl O _ 4 as dissolved stainless steel sample, Ni 231.6 nm Cr 267.7 nm as the analytical spectral line and interference coefficient method to correct the spectral interference of Fe to Ni and Cr. The spectral interference of Ni and Cr was investigated by measuring the emission intensity of Ni and Cr at different concentrations of iron matrix. The experimental results show that the iron matrix has spectral interference on both Ni and Cr. The method has been applied to the determination of Ni and Cr in stainless steel standard samples. After correction of the spectral interference, the results are in good agreement with the reference values. The absolute error of the determination results is between 0.35% and 0.63%. The relative standard deviation was between 0.68% and 1.1%.
【作者單位】： 國家輕金屬質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心;
【分類號】：TG115.33

【參考文獻】

相關(guān)期刊論文 前3條

1 王金磚;張玉潔;伏榮進;劉彬;劉琨;;校準(zhǔn)曲線和觀測方式對電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定不銹鋼中鎳、鉻和錳的影響[J];冶金分析;2015年01期

2 張桂竹;李國華;;電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定高溫合金和耐熱不銹鋼中鈮時釩、鈦、鉻的光譜干擾及校正[J];冶金分析;2013年08期

3 劉虹,楊勝喜;ICP-AES法測定不銹鋼中多種元素[J];冶金分析;2002年06期

【共引文獻】

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1 胡璇;石磊;;ICP-AES法測定不銹鋼中高含量鎳和鉻的光譜干擾和校正[J];分析試驗室;2017年02期

2 楊麗;張庸;;電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定鎳基釬料中硼[J];分析測試技術(shù)與儀器;2016年02期

3 胡建春;趙t;張瑞霖;;電解重量法和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法在測定氧化鎳中鎳鈷銅鋅鐵錳中的應(yīng)用[J];冶金分析;2015年11期

4 高頌;龐曉輝;劉喜山;趙海q，

本文編號：1962660