本文選題：TA純鈦 + 陽極氧化�。� 參考：《稀有金屬材料與工程》2017年05期

【摘要】：選擇酒石酸鈉環(huán)保電解液,用恒電勢法在不同濃度條件(1,5,15,30和50 g/L)下制備TA2純鈦陽極氧化膜。采用原子力顯微鏡分析膜層的微觀三維形貌,使用電化學工作站研究試樣在3.5%NaCl溶液低電位下的極化曲線和電化學交流阻抗譜,探討微觀三維形貌對耐腐蝕性能的影響。結果表明:15 g/L濃度時,氧化膜層細小均勻,生長完整,粗糙度較低,具有寬廣的鈍化區(qū),最大的極化電阻值,較小的致鈍電流值和自腐蝕電流值,耐腐蝕性能最佳。
[Abstract]:TA2 pure titanium anodic oxide films were prepared with sodium tartrate environmentally friendly electrolyte under different concentration conditions (1 ~ 5g / L ~ 1530 and 50 g / L) by potentiostatic method.Atomic force microscope (AFM) was used to analyze the micro 3D morphology of the film. The polarization curve and electrochemical impedance spectroscopy (EIS) of the sample at low potential in 3.5%NaCl solution were studied by electrochemical workstation. The effect of micro 3D morphology on corrosion resistance was discussed.The results show that when the concentration of 1: 15 g / L is 15 g / L, the oxide film is fine and uniform, complete in growth, low in roughness, with wide passivation zone, maximum polarization resistance, small insensitive current value and self-corrosive current value, and the best corrosion resistance.
【作者單位】： 昆明理工大學;
【基金】：國家自然科學基金(51165016)
【分類號】：TG174.451

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本文編號：1762562