Zr-4合金在300℃去離子水中腐蝕初期氧化膜的研究
發(fā)布時(shí)間:2018-04-14 10:03
本文選題:Zr- + 腐蝕 ; 參考:《稀有金屬材料與工程》2017年06期
【摘要】:將Zr-4板材制成Φ3 mm透射電鏡薄試樣,放入高壓釜在300℃/8 MPa去離子水中短時(shí)腐蝕,用光學(xué)顯微鏡、掃描探針顯微鏡和透射電子顯微鏡研究了氧化膜形成初期的晶體結(jié)構(gòu)、與基體晶粒取向間的關(guān)系、氧化鋯晶體中的缺陷和應(yīng)變分布。結(jié)果表明:光學(xué)顯微鏡下不同取向的金屬晶粒表面上氧化膜的厚度不同,呈現(xiàn)出不同的顏色;氧化膜主要由單斜結(jié)構(gòu)的柱狀晶組成,還有少量的四方和立方氧化鋯,同時(shí)還觀察到一種a=0.88 nm的bcc結(jié)構(gòu)氧化鋯;不同晶體結(jié)構(gòu)的初生氧化鋯與α-Zr基體之間存在一種半共格的取向關(guān)系:(10 11)_(α-Zr)//(020)_(m-ZrO_2)//(002)_(t-ZrO_2)//(020)_(c-ZrO_2),某些晶體方向受到了3%~7%壓縮;氧化鋯晶體中存在大量位錯(cuò),并存在不均勻的拉/壓應(yīng)變,大小在 4.8%至3.5%之間。
[Abstract]:The thin specimen of 桅 3 mm transmission electron microscope (TEM) was made of Zr-4 sheet, and was placed in autoclave for short time corrosion in deionized water at 300 鈩,
本文編號(hào):1748804
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