發(fā)布時(shí)間：2018-03-16 22:40

  本文選題：化學(xué)機(jī)械拋光　切入點(diǎn)：硬質(zhì)合金刀片　出處：《表面技術(shù)》2017年12期 　論文類(lèi)型：期刊論文

【摘要】：目的研究不同種類(lèi)的拋光墊對(duì)硬質(zhì)合金刀片表面化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical Polishing/Planarization,CMP)加工過(guò)程的影響,為實(shí)現(xiàn)硬質(zhì)合金刀片高效精密CMP加工提供有效參考。方法利用Nanopoli-100智能拋光機(jī),通過(guò)自制的Al2O3拋光液,分別采用9種不同種類(lèi)的拋光墊對(duì)牌號(hào)為YG8的硬質(zhì)合金刀片進(jìn)行CMP實(shí)驗(yàn),將0~40、40~80、80~120 min三個(gè)加工階段獲得的材料去除率和表面粗糙度進(jìn)行對(duì)比,同時(shí)觀(guān)察最佳的表面形貌,分析拋光墊特性對(duì)CMP加工效果的影響。結(jié)果在拋光轉(zhuǎn)速60 r/min,拋光壓力177.8 k Pa的實(shí)驗(yàn)條件下,9種不同類(lèi)型的拋光墊中僅有5種適合用于YG8硬質(zhì)合金CMP加工。而且拋光墊的表面粗糙度在YG8刀片CMP加工過(guò)程中的影響最為顯著,拋光墊表面粗糙度越高,CMP加工的材料去除率越高。此外,拋光墊的使用時(shí)間對(duì)CMP過(guò)程也有影響,拋光墊使用時(shí)間越長(zhǎng),CMP的材料去除率越小。結(jié)論 YG8硬質(zhì)合金刀片經(jīng)5種不同類(lèi)型拋光墊CMP加工后,其表面的燒傷、裂紋等缺陷均得到了極大改善。當(dāng)使用細(xì)帆布加工40 min時(shí),材料去除率最高,為47.105 nm/min;當(dāng)使用細(xì)帆布加工80min時(shí),表面粗糙度最低,為0.039μm。
[Abstract]:Objective to study the effect of different kinds of polishing pads on the machining process of chemical Mechanical polishing chemical mechanical polishing (CMA) on the surface of cemented carbide inserts, and to provide an effective reference for the realization of high efficiency and precision CMP machining of cemented carbide inserts. Methods Nanopoli-100 intelligent polishing machine was used. Through Al2O3 polishing liquid, 9 different kinds of polishing pad were used to carry out CMP experiment on cemented carbide blade with YG8 grade, and the material removal rate and surface roughness obtained in three processing stages of 0 ~ (40) C ~ (40) C _ (40) C _ (40) C _ (40) C _ (40) C _ (40) C _ (80) C _ (120) min were compared. At the same time, the best surface morphology was observed, The effect of polishing pad characteristics on the processing effect of CMP was analyzed. Results under the experimental conditions of polishing speed 60 r / min and polishing pressure 177.8 KPA, only 5 of 9 different types of polishing pads were suitable for CMP processing of YG8 cemented carbide. The surface roughness of the light pad has the most significant effect on the CMP process of the YG8 blade. The higher the surface roughness of the polishing pad is, the higher the material removal rate is. In addition, the use time of the polishing pad also affects the CMP process. The longer the polishing pad is used, the smaller the material removal rate is. Conclusion the surface burn, crack and other defects of YG8 cemented carbide blade treated with five different types of polishing pad CMP have been greatly improved. When the fine canvas is used to process for 40 min, the surface defects such as burn and crack are greatly improved. The material removal rate was the highest (47.105 nm / min), and the surface roughness was the lowest (0.039 渭 m) when the fine canvas was used for 80 min.
【作者單位】： 湘潭大學(xué);湖南大學(xué);
【基金】：湖南省自然科學(xué)基金項(xiàng)目(2017JJ4055) 湖南省科技廳科技計(jì)劃重點(diǎn)研發(fā)項(xiàng)目(2016GK2014)~~
【分類(lèi)號(hào)】：TG175

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本文編號(hào)：1621970