發(fā)布時間：2018-03-05 20:01

  本文選題：CrNi　切入點(diǎn)：真空電弧離子鍍　出處：《稀有金屬材料與工程》2017年02期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：采用真空電弧離子鍍技術(shù)在1Cr17Ni2不銹鋼基體表面沉積Ti/TiN/Zr/ZrN多層膜,并對膜的形貌、相結(jié)構(gòu)、結(jié)合力以及極化曲線和交流阻抗等電化學(xué)性能進(jìn)行分析和測試。結(jié)果表明:制備的Ti/TiN/Zr/ZrN膜界面清晰、結(jié)構(gòu)致密、晶粒細(xì)小,膜層厚度約為2~3μm,膜層的主要物相為TiN和ZrN兩相,以及少量的金屬Ti和Zr;膜層與基體結(jié)合良好,結(jié)合力大于70 N,顯微硬度(HV_(0.025))高達(dá)29 000 MPa,Ti/TiN/Zr/ZrN多層膜與1Cr17Ni2基材相比,具有更高的極化電位和極化電阻,更低的腐蝕電流密度,更大容抗弧。
[Abstract]:Ti/TiN/Zr/ZrN multilayer films were deposited on 1Cr17Ni2 stainless steel substrate by vacuum arc ion plating, and the morphology and phase structure of the films were analyzed. The electrochemical properties, such as adhesion, polarization curve and AC impedance, were analyzed and tested. The results showed that the interface of the prepared Ti/TiN/Zr/ZrN films was clear, the structure was compact, the grains were fine, the thickness of the films was about 2 渭 m, and the main phases of the films were TiN and ZrN phases. As well as a small amount of metal Ti and Zr.The film has good bonding with the substrate, the adhesion is greater than 70 N, and the microhardness is high as high as 29 000 MPa Ti / Ti / Zr / ZrN multilayer film, which has higher polarization potential and polarization resistance and lower corrosion current density than the 1Cr17Ni2 substrate, and has a higher polarization potential and lower corrosion current density than that of the 1Cr17Ni2 substrate, and has a higher polarization potential and a lower corrosion current density than that of the 1Cr17Ni2 substrate. Greater capacitance against arc.
【作者單位】： 南昌航空大學(xué);
【基金】：國家科技支撐計(jì)劃項(xiàng)目(2012BAE02B01) 江西省銅鎢新材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室(2011-TW-08)
【分類號】：TG174.4

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本文編號：1571671