本文關(guān)鍵詞： 伏安特性 TiN薄膜 熱發(fā)射 離化率　出處：《稀有金屬材料與工程》2017年05期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：針對(duì)濺射離子鍍離化率低及多弧離子鍍易產(chǎn)生微米級(jí)熔滴噴濺這一長(zhǎng)期制約離子鍍技術(shù)發(fā)展的難題,依據(jù)金屬靶材內(nèi)部電子在通過(guò)電阻值較大的組織缺陷處會(huì)導(dǎo)致該區(qū)域溫度上升的焦耳熱效應(yīng)和金屬表面高溫下電子熱發(fā)射等物理學(xué)現(xiàn)象,建立以離子碰撞和靶材熱發(fā)射為脫靶機(jī)制的新型微弧離子鍍技術(shù)。通過(guò)氬離子的轟擊動(dòng)能和金屬靶材內(nèi)電流的焦耳熱效應(yīng)共同促使靶面缺陷處溫度迅速上升,增加了該區(qū)域內(nèi)電子和原子的動(dòng)能使其能夠克服表面勢(shì)壘從靶材表面大量逸出。等離子區(qū)內(nèi)靶材原子和電子數(shù)量的增加提高了鍍料粒子的碰撞離化率,且靶面未出現(xiàn)明顯電弧避免了靶材表面的熔融噴濺,從而獲得高離化率和高密度的鍍料粒子。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:微弧離子鍍技術(shù)制備的TiN薄膜具有致密的結(jié)構(gòu)、良好的表面質(zhì)量、較高的顯微硬度、較強(qiáng)的膜基結(jié)合力和良好的抗腐蝕性能。
[Abstract]:A novel micro - arc ion plating technique is established by means of ion collision and electron thermal emission at high temperature . The results show that the TiN film prepared by micro - arc ion plating technology has a compact structure , good surface quality , higher microhardness , stronger film - based bonding force and good corrosion resistance .

【作者單位】： 西安理工大學(xué);南京工業(yè)大學(xué);
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(51271144)
【分類號(hào)】：TG174.4
【正文快照】： 隨著社會(huì)經(jīng)濟(jì)與科學(xué)技術(shù)的迅速發(fā)展,人們對(duì)各融易產(chǎn)生微米級(jí)大顆粒噴濺降低薄膜表面質(zhì)量[6],因類產(chǎn)品抵御外界不良環(huán)境的能力和長(zhǎng)期運(yùn)行的可靠此多弧離子鍍技術(shù)的發(fā)展受到了嚴(yán)重制約。而具有低性、穩(wěn)定性等提出了更高的要求。為了使現(xiàn)有產(chǎn)品或溫沉積環(huán)境、易實(shí)現(xiàn)多組分共沉積

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1 林穗賢;于兆勤;郭鐘寧;潘湛昌;;電火花線切割加工工作液電解質(zhì)對(duì)伏安特性與絲損的影響[J];電加工與模具;2010年03期

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本文編號(hào)：1445759