本文關(guān)鍵詞：TiAlN薄膜摻雜Cr、Ni對其耐腐蝕性的影響　出處：《材料熱處理學報》2016年12期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：在4Cr13不銹鋼表面采用多弧離子鍍沉積TiAlN薄膜,采用磁控濺射法和多弧離子鍍在4Cr13表面分別沉積摻雜Cr和Cr、Ni的TiAlN薄膜,采用電化學工作站對其進行電化學腐蝕性能測試。結(jié)果表明:在1 mol/L的H_2SO_4溶液中,同時摻雜Cr、Ni的TiAlN薄膜的耐腐蝕性是TiAlN薄膜的4.1倍,是摻雜Cr的TiAlN薄膜的1.3倍;在3%的NaOH溶液中,同時摻雜Cr、Ni的TiAlN薄膜的耐腐蝕性是TiAlN薄膜的3倍,是摻雜Cr的TiAlN薄膜的2倍;在3.5%的Na Cl溶液中,同時摻雜Cr、Ni的TiAlN薄膜的耐腐蝕性是TiAlN薄膜的11.4倍,是摻雜Cr的TiAlN薄膜的1.3倍。
[Abstract]:TiAlN thin films were deposited on 4Cr13 stainless steel by multi-arc ion plating. Doping Cr and Cr on 4Cr13 surface were deposited by magnetron sputtering and multi-arc ion plating respectively. The electrochemical corrosion properties of Ni TiAlN thin films were tested by electrochemical workstation. The results showed that Cr was doped in 1 mol/L H _ 2SO _ 4 solution at the same time. The corrosion resistance of Ni TiAlN film is 4.1 times of that of TiAlN film and 1.3 times of that of Cr doped TiAlN film. In 3% NaOH solution, the corrosion resistance of TiAlN films doped with Cr-Ni is 3 times as much as that of TiAlN films and twice as high as that of TiAlN films doped with Cr. In 3.5% NaCl solution, the corrosion resistance of TiAlN films doped with Cr-Ni is 11.4 times that of TiAlN films. It is 1. 3 times as much as Cr doped TiAlN thin film.
【作者單位】： 桂林電子科技大學材料科學與工程學院;
【基金】：國家自然科學基金資助項目(51264007) 桂電-桂林電科院研究生資助項目(20141103-09-Z) 廣西信息材料重點實驗室重點項目(1210908-214-Z) 廣西自然科學基金資助項目(2015GXNSFBA139214) 桂林電子科技大學研究生教育創(chuàng)新計劃資助項目(YJCXB201501)
【分類號】：TG174.4
【正文快照】： Ti N涂層以其特有的性能(高硬度、高耐磨性和低摩擦系數(shù)等)[1-5]在工業(yè)生產(chǎn)中獲得了廣泛的應(yīng)用。Ti N是一種高硬度、耐磨蝕、應(yīng)用廣泛的涂層材料,是目前各種薄膜中研究最為成熟應(yīng)用最為廣泛的一種超硬膜。Ti Al N超硬薄膜是在Ti N基礎(chǔ)上發(fā)展而來的又一種高性能薄膜。Ti Al N薄

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3 王君;陳江濤;張廣安;苗彬彬;張飛;閆鵬勛;;TiAlN三元涂層結(jié)構(gòu)及性能研究[A];第六屆全國表面工程學術(shù)會議論文集[C];2006年

4 莫繼良;朱e，

本文編號：1413816