本文關鍵詞：氮氬流量比對玻璃基TiN薄膜的結(jié)構(gòu)和硬度的影響　出處：《硅酸鹽通報》2016年12期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：采用直流磁控濺射鍍膜工藝,在不同的氮氬流量比條件下,制備了玻璃基TiN薄膜。通過X射線衍射儀(XRD)、場發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM、EDS)、納米顯微硬度儀,研究了TiN薄膜的組織結(jié)構(gòu)、物相組成、表面形貌、元素成份、維氏硬度,分析了氮氬流量比對TiN薄膜結(jié)晶取向、硬度的影響機理。結(jié)果表明,在低的氮氬流量比條件下,TiN薄膜以(111)晶面擇優(yōu)取向;隨著氮氬流量比增加,擇優(yōu)取向由(111)晶面向(200)晶面過渡;氮氬流量比為1∶2時薄膜以(200)晶面擇優(yōu)取向;繼續(xù)增加氮氬流量比(1∶2~2∶1),TiN薄膜衍射峰強度降低,晶粒尺寸減小;當?shù)獨辶髁勘仍黾拥?∶1時,薄膜開始呈現(xiàn)非晶態(tài)。隨著氮氬流量比的增加,薄膜硬度呈現(xiàn)先增加后減小的趨勢;當?shù)獨辶髁勘葹?∶1時,TiN薄膜以(200)晶面擇優(yōu)取向結(jié)晶,組織致密均勻,晶粒尺寸最小,具有最大的硬度值(825 HV),相比未鍍膜的玻璃基片,硬度值增加了20.44%。
【作者單位】： 武漢理工大學硅酸鹽建筑材料國家重點實驗室;江蘇秀強玻璃工藝股份有限公司;
【基金】：湖北省重大科技創(chuàng)新計劃項目(2013AAA005)
【分類號】：TB383.2;TG174.4
【正文快照】： 1引言氮化鈦屬于Na Cl型面心立方晶體,它的結(jié)構(gòu)是由金屬鍵和共價鍵混合而成,同時具有金屬晶體和共價晶體的特點:高熔點、高硬度、優(yōu)越的耐腐蝕性能、優(yōu)良的導電性和導熱性能[1-3]。Ti N在刀具、模具、裝飾材料、集成電路等方面具有重要的應用價值。Ti N薄膜是第一個產(chǎn)業(yè)化并廣

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1 田穎萍;范洪遠;成靖文;;氮氬流量比對磁控濺射TiN薄膜生長織構(gòu)的影響[J];表面技術;2012年03期

2 ;[J];;年期

，

本文編號：1310406