氮?dú)辶髁勘葘?duì)玻璃基TiN薄膜的結(jié)構(gòu)和硬度的影響
發(fā)布時(shí)間：2017-12-20 02:23
本文關(guān)鍵詞：氮?dú)辶髁勘葘?duì)玻璃基TiN薄膜的結(jié)構(gòu)和硬度的影響 出處：《硅酸鹽通報(bào)》2016年12期 論文類型：期刊論文
更多相關(guān)文章： 磁控濺射 玻璃基TiN薄膜 硬度 氮?dú)辶髁勘?/b>
【摘要】：采用直流磁控濺射鍍膜工藝,在不同的氮?dú)辶髁勘葪l件下,制備了玻璃基TiN薄膜。通過(guò)X射線衍射儀(XRD)、場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM、EDS)、納米顯微硬度儀,研究了TiN薄膜的組織結(jié)構(gòu)、物相組成、表面形貌、元素成份、維氏硬度,分析了氮?dú)辶髁勘葘?duì)TiN薄膜結(jié)晶取向、硬度的影響機(jī)理。結(jié)果表明,在低的氮?dú)辶髁勘葪l件下,TiN薄膜以(111)晶面擇優(yōu)取向;隨著氮?dú)辶髁勘仍黾?擇優(yōu)取向由(111)晶面向(200)晶面過(guò)渡;氮?dú)辶髁勘葹?∶2時(shí)薄膜以(200)晶面擇優(yōu)取向;繼續(xù)增加氮?dú)辶髁勘?1∶2~2∶1),TiN薄膜衍射峰強(qiáng)度降低,晶粒尺寸減小;當(dāng)?shù)獨(dú)辶髁勘仍黾拥?∶1時(shí),薄膜開始呈現(xiàn)非晶態(tài)。隨著氮?dú)辶髁勘鹊脑黾?薄膜硬度呈現(xiàn)先增加后減小的趨勢(shì);當(dāng)?shù)獨(dú)辶髁勘葹?∶1時(shí),TiN薄膜以(200)晶面擇優(yōu)取向結(jié)晶,組織致密均勻,晶粒尺寸最小,具有最大的硬度值(825 HV),相比未鍍膜的玻璃基片,硬度值增加了20.44%。
【作者單位】： 武漢理工大學(xué)硅酸鹽建筑材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;江蘇秀強(qiáng)玻璃工藝股份有限公司;
【基金】：湖北省重大科技創(chuàng)新計(jì)劃項(xiàng)目(2013AAA005)
【分類號(hào)】：TB383.2;TG174.4
【正文快照】： 1引言氮化鈦屬于Na Cl型面心立方晶體,它的結(jié)構(gòu)是由金屬鍵和共價(jià)鍵混合而成,同時(shí)具有金屬晶體和共價(jià)晶體的特點(diǎn):高熔點(diǎn)、高硬度、優(yōu)越的耐腐蝕性能、優(yōu)良的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性能[1-3]。Ti N在刀具、模具、裝飾材料、集成電路等方面具有重要的應(yīng)用價(jià)值。Ti N薄膜是第一個(gè)產(chǎn)業(yè)化并廣
【相似文獻(xiàn)】
中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前2條
1 田穎萍;范洪遠(yuǎn);成靖文;;氮?dú)辶髁勘葘?duì)磁控濺射TiN薄膜生長(zhǎng)織構(gòu)的影響[J];表面技術(shù);2012年03期
2 ;[J];;年期
，本文編號(hào)：1310406
本文鏈接：http://sikaile.net/kejilunwen/jiagonggongyi/1310406.html
最近更新
教材專著
