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沉積偏壓對電弧離子鍍CrAlSiON涂層組織結構和性能的影響

發(fā)布時間:2017-12-12 06:14

  本文關鍵詞:沉積偏壓對電弧離子鍍CrAlSiON涂層組織結構和性能的影響


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【摘要】:納米復合涂層因具有超高硬度和優(yōu)異的高溫穩(wěn)定性備受關注,但由于在制備過程中不可避免的會含有氧雜質,導致涂層性能不穩(wěn)定,限制了其廣泛應用。而且目前關于氧含量對涂層性能和結構影響的研究并不是很多。另一方面,沉積粒子的能量對涂層的結構和性能也有很大影響,因此在實際制備過程中,通常通過調節(jié)沉積偏壓來控制沉積粒子的能量。本文采用多弧離子鍍在硬質合金上制備CrAlSiON涂層,通過改變反應氣體中O:和N2的流量比來控制涂層中氧含量。通過SEM、XRD、納米壓痕和劃痕測試等方法系統(tǒng)研究不同氧含量對涂層的顯微結構、力學性能、摩擦磨損性能;利用真空退火測試研究涂層的高溫熱穩(wěn)定性。在此基礎上,通過改變沉積偏壓,研究沉積粒子的能量對涂層組織結構和性能影響的規(guī)律,以及涂層在高溫環(huán)境過程中結構性能的演化機理。1.改變O2/O2+N2比例從0至18%制備CrAlSiON涂層,獲得含氧量0至62.19at.%,成功實現(xiàn)了涂層氧含量的可控。涂層中主要為CrN和A1203晶體,較低含氧時涂層的表面顆粒、孔洞等缺陷較少,表面粗糙度較。浑S著氧含量增加,涂層的硬度逐漸降低,氧含量為48.4at.%時硬度僅為21.43GPa,之后氧含量繼續(xù)增大,硬度值保持在這一水平,涂層的彈性模量與H3/E*2的變化趨勢與此類似;較高含氧時,涂層的結合強度比較低含氧時差,含氧為62.19at.%時臨界載荷為45.48N,而20.22at.%時為68.17N;高溫摩擦磨損實驗中,涂層的主要磨損形式為磨粒磨損和粘著磨損,涂層均被磨穿;隨著退火溫度升高,涂層中因為相分解產生了六方結構的Cr2N相,這導致涂層的硬度、彈性模量、H3/E*2和結合強度等性能逐漸變差。2.通入O2/02+N2比例為2%,改變偏壓從-60V至-200V制備CrAlSiON涂層。涂層中氧含量為22at.%至25at.%,且較高偏壓時制備的涂層比較低偏壓時氧含量稍多,另外較高偏壓制備的涂層表面質量較好,粗糙度較小;隨著偏壓升高,涂層的硬度呈先增大再減小然后保持平穩(wěn)的變化趨勢,-80V時獲得最大硬度為33.69GPa,涂層彈性模量和H3/E*2的變化趨勢與此類似;涂層的結合強度隨著偏壓升高而緩慢增大,臨界載荷由63.58N增大至74.36N;在不同轉速時的常溫摩擦磨損試驗中,磨損率變化均為較低偏壓制備的涂層比較高偏壓制備的涂層小,-80V時制備的涂層獲得最小磨損率;高溫摩擦磨損實驗中,三個溫度下都是較高偏壓制備的涂層磨損更為嚴重,而在-80V和-100V時磨損率最。浑S著退火溫度升高,涂層中因為相分解產生了六方結構的Cr2N相,這導致涂層的硬度、彈性模量、H3/E*2和結合強度等性能逐漸降低。3.通入O2/O2+N2比例為12%,改變偏壓從-60V至-200V制備CrAlSiON涂層。涂層中的氧含量為55at.%至60at.%,隨著偏壓升高,氧含量先增多后減少;涂層中主要為CrN相和A1203相,且在較高偏壓時峰強度有所降低,晶粒尺寸呈增大趨勢;隨著偏壓升高,涂層的硬度、彈性模量、H3/E*2和結合強度呈逐漸增大趨勢;常溫摩擦磨損試驗中,較低偏壓制備的涂層被磨穿,而較高偏壓制備的涂層耐磨性較好,未被磨穿;經過退火處理后,隨著溫度升高,涂層的硬度、彈性模量和H3/E*2呈緩慢增大趨勢,而結合強度則逐漸降低。
【學位授予單位】:廣東工業(yè)大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2016
【分類號】:TG174.4

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1 聶志偉;沉積偏壓對電弧離子鍍CrAlSiON涂層組織結構和性能的影響[D];廣東工業(yè)大學;2016年

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本文編號:1281457

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