本文關(guān)鍵詞：基于遺傳算法優(yōu)化神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的鎂合金化學(xué)機(jī)械拋光材料去除模型

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【摘要】：鎂合金化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)的材料去除與其工藝參數(shù)具有高度非線性的特點(diǎn),難以采用精確的數(shù)學(xué)模型來描述。以遺傳算法(GA)優(yōu)化神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)(NN)建模為基礎(chǔ),利用正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)獲取鎂合金CMP材料去除樣本數(shù)據(jù)和測試數(shù)據(jù),建立鎂合金CMP材料去除模型。該模型以拋光壓力、拋光盤轉(zhuǎn)速、拋光液流量和拋光時(shí)間為輸入?yún)?shù),以材料去除速率為輸出目標(biāo)。結(jié)果表明:GA-NN協(xié)同模型能夠構(gòu)建鎂合金CMP工藝參數(shù)與材料去除速率的基本關(guān)系;其擬合度波動(dòng)范圍為93.22%~97.97%,大大高于NN模型的擬合度波動(dòng)范圍71.56%~93.56%,因而具有更優(yōu)的預(yù)測能力,基本滿足工程實(shí)際的需求。
【作者單位】： 蘇州大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院蘇州納米科技協(xié)同創(chuàng)新中心;江南大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院;
【基金】：國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51005102) 中國博士后基金項(xiàng)目(2015M571801) 江蘇省博士后基金項(xiàng)目(1402121C) 清華大學(xué)摩擦學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開放基金項(xiàng)目(SKLTKF10B04) 教育部留學(xué)回國啟動(dòng)基金項(xiàng)目(20111139)
【分類號】：TG175;TG580.692
【正文快照】： 鎂合金因具有密度低、比強(qiáng)度高和比模度高等優(yōu)點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于航天航空、汽車及電子通訊等領(lǐng)域。然而,鎂合金軟且硬度低,在產(chǎn)品光整過程中很容易產(chǎn)生劃痕和磨損等表面缺陷,傳統(tǒng)手工或機(jī)械拋光難以滿足實(shí)際生產(chǎn)更為苛刻的光整要求。化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)作為目前唯一的全局平坦化

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7 王U，

本文編號：1227002