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復合高功率脈沖磁控濺射技術的研究進展

發(fā)布時間:2017-11-11 05:04

  本文關鍵詞:復合高功率脈沖磁控濺射技術的研究進展


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【摘要】:高功率脈沖磁控濺射技術(HIPIMS)是一門新興的高離化率磁控濺射技術。概述了HIPIMS的技術優(yōu)勢,包括高膜層致密度和平滑度、高膜基界面結合強度以及復雜形狀工件表面膜層厚度均勻性好等。同時歸納了HIPIMS存在的問題,包括沉積速率及低濺射率金屬靶材離化率低等。在此基礎上,重點綜述了近年來復合HIPIMS技術的研究進展,其中復合其他物理氣相沉積技術的HIPIMS,包括復合直流磁控濺射增強HIPIMS、復合射頻磁控濺射增強HIPIMS、復合中頻磁控濺射增強HIPIMS、復合等離子體源離子注入與沉積增強HIPIMS等;增加輔助設備或裝置的HIPIMS,包括增加感應耦合等離子體裝置增強HIPIMS、增加電子回旋共振裝置增強HIPIMS,以及增加外部磁場增強HIPIMS等。針對各種形式的復合HIPIMS技術,分別從復合HIPIMS技術的放電行為、離子輸運特性,及制備膜層的結構與性能等方面進行了歸納。最后展望了復合HIPIMS技術的發(fā)展方向。
【作者單位】: 東北林業(yè)大學工程技術學院;東北林業(yè)大學林業(yè)工程博士后流動站;河南牧業(yè)經(jīng)濟學院包裝與印刷工程學院;
【基金】:中央高;究蒲袠I(yè)務費專項資金項目資助(2572015CB07) 黑龍江省科學基金項目資助(QC2016053) 中國博士后科學基金項目資助(2016M590273) 黑龍江省教育廳科學技術研究項目資助(12523008)~~
【分類號】:TG174.444
【正文快照】: Received:2016-03-23;Revised:2016-05-30基金項目資助(2016M590273);黑龍江省教育廳科學技術研究項目資助(12523008)Fund:Supported by the Fundamental Research Funds for the Central Universities(2572015CB07);The Science Foundation of HeilongjiangProvince of China

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本文編號:1169907

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