本文關(guān)鍵詞：復(fù)合高功率脈沖磁控濺射技術(shù)的研究進(jìn)展

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【摘要】：高功率脈沖磁控濺射技術(shù)(HIPIMS)是一門(mén)新興的高離化率磁控濺射技術(shù)。概述了HIPIMS的技術(shù)優(yōu)勢(shì),包括高膜層致密度和平滑度、高膜基界面結(jié)合強(qiáng)度以及復(fù)雜形狀工件表面膜層厚度均勻性好等。同時(shí)歸納了HIPIMS存在的問(wèn)題,包括沉積速率及低濺射率金屬靶材離化率低等。在此基礎(chǔ)上,重點(diǎn)綜述了近年來(lái)復(fù)合HIPIMS技術(shù)的研究進(jìn)展,其中復(fù)合其他物理氣相沉積技術(shù)的HIPIMS,包括復(fù)合直流磁控濺射增強(qiáng)HIPIMS、復(fù)合射頻磁控濺射增強(qiáng)HIPIMS、復(fù)合中頻磁控濺射增強(qiáng)HIPIMS、復(fù)合等離子體源離子注入與沉積增強(qiáng)HIPIMS等;增加輔助設(shè)備或裝置的HIPIMS,包括增加感應(yīng)耦合等離子體裝置增強(qiáng)HIPIMS、增加電子回旋共振裝置增強(qiáng)HIPIMS,以及增加外部磁場(chǎng)增強(qiáng)HIPIMS等。針對(duì)各種形式的復(fù)合HIPIMS技術(shù),分別從復(fù)合HIPIMS技術(shù)的放電行為、離子輸運(yùn)特性,及制備膜層的結(jié)構(gòu)與性能等方面進(jìn)行了歸納。最后展望了復(fù)合HIPIMS技術(shù)的發(fā)展方向。
【作者單位】： 東北林業(yè)大學(xué)工程技術(shù)學(xué)院;東北林業(yè)大學(xué)林業(yè)工程博士后流動(dòng)站;河南牧業(yè)經(jīng)濟(jì)學(xué)院包裝與印刷工程學(xué)院;
【基金】：中央高校基本科研業(yè)務(wù)費(fèi)專項(xiàng)資金項(xiàng)目資助(2572015CB07) 黑龍江省科學(xué)基金項(xiàng)目資助(QC2016053) 中國(guó)博士后科學(xué)基金項(xiàng)目資助(2016M590273) 黑龍江省教育廳科學(xué)技術(shù)研究項(xiàng)目資助(12523008)~~
【分類號(hào)】：TG174.444
【正文快照】： Received:2016-03-23;Revised:2016-05-30基金項(xiàng)目資助(2016M590273);黑龍江省教育廳科學(xué)技術(shù)研究項(xiàng)目資助(12523008)Fund:Supported by the Fundamental Research Funds for the Central Universities(2572015CB07);The Science Foundation of HeilongjiangProvince of China

【參考文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前5條

1 沈自才;牟永強(qiáng);吳宜勇;;電子輻照Kapton/Al薄膜力學(xué)性能退化規(guī)律與機(jī)理研究[J];裝備環(huán)境工程;2015年03期

2 李婷;黃河山;徐學(xué)鋒;潘言;劉晉浩;;射流拋光試驗(yàn)平臺(tái)柔性加減速控制算法應(yīng)用研究[J];包裝工程;2015年11期

3 吳志立;朱小鵬;雷明凱;;高功率脈沖磁控濺射沉積原理與工藝研究進(jìn)展[J];中國(guó)表面工程;2012年05期

4 ;Microstructure and Mechanical Properties of Multilayer Ti(C,N) Films by Closed-field Unbalanced Magnetron Sputtering Ion Plating[J];Journal of Materials Science & Technology;2010年02期

5 吳忠振;朱宗濤;鞏春志;田修波;楊士勤;李希平;;高功率脈沖磁控濺射技術(shù)的發(fā)展與研究[J];真空;2009年03期

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前3條

1 畢明康;磁場(chǎng)增強(qiáng)高功率脈沖磁控濺射放電特性及TiAlN薄膜制備研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2014年

2 馬永樂(lè);高功率調(diào)制脈沖磁控濺射沉積納米Cu薄膜工藝研究[D];大連交通大學(xué);2012年

3 牟曉東;高功率脈沖非平衡磁控濺射法制備CrN_x膜和Cu膜及其沉積特性的研究[D];大連理工大學(xué);2011年

【共引文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 李春偉;苗紅濤;徐淑艷;張群利;;復(fù)合高功率脈沖磁控濺射技術(shù)的研究進(jìn)展[J];表面技術(shù);2016年06期

2 褚聰;戴勇;沈明;葛滿;葉見(jiàn)領(lǐng);袁巧玲;;基于Fluent仿真的強(qiáng)約束磨粒射流拋光特性[J];表面技術(shù);2016年06期

3 王曉華;王彩峰;;調(diào)壓鑄造系統(tǒng)變參數(shù)模糊控制計(jì)算機(jī)動(dòng)態(tài)仿真[J];自動(dòng)化與儀器儀表;2016年05期

4 沈自才;高鴻;牟永強(qiáng);白羽;丁義剛;劉業(yè)楠;王志浩;;空間近紫外輻照聚酰亞胺薄膜力學(xué)性能演化機(jī)理[J];真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào);2016年04期

5 沈自才;郭亮;馬子良;白羽;丁義剛;劉業(yè)楠;王志浩;;聚酰亞胺薄膜在γ射線輻照下的力學(xué)性能退化研究[J];航天器環(huán)境工程;2016年01期

6 吳志立;李玉閣;吳彼;雷明凱;;高功率調(diào)制脈沖磁控濺射沉積TiAlSiN納米復(fù)合涂層結(jié)構(gòu)調(diào)控與性能研究[J];無(wú)機(jī)材料學(xué)報(bào);2015年12期

7 暴一品;李劉合;劉峻曦;張驍;;高功率脈沖磁控濺射研究進(jìn)展[J];原子核物理評(píng)論;2015年S1期

8 沈自才;牟永強(qiáng);白羽;丁義剛;劉業(yè)楠;王志浩;;紫外輻射環(huán)境下均苯型聚酰亞胺薄膜力學(xué)性能研究[J];真空與低溫;2015年05期

9 鮮廣;趙海波;范洪遠(yuǎn);王輝;王均;杜昊;;石墨靶和鈦靶共濺射制備的TiCN薄膜的結(jié)構(gòu)和性能[J];真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào);2015年05期

10 吳俊杰;廖平;李慕勤;吳明忠;張德秋;孫薇薇;;Cr/CrN/Cu-TiN膜的成分與性能研究[J];真空;2015年02期

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前2條

1 丁安邦;中頻反應(yīng)磁控濺射制備二氧化硅薄膜及其結(jié)構(gòu)與光學(xué)性能的研究[D];大連理工大學(xué);2013年

2 臧海蓉;基于HPPUMS技術(shù)在不銹鋼襯底上制備CrN_x薄膜及其性能研究[D];大連理工大學(xué);2012年

【二級(jí)參考文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 李學(xué)忠;劉曉;;基于Pro/E和MasterCAM的飲料瓶模具設(shè)計(jì)與數(shù)控加工[J];包裝工程;2014年17期

2 鄭仲謙;王興飛;李松;李迪;;基于加減速時(shí)間控制的S形速度規(guī)劃新算法研究[J];機(jī)電工程;2014年04期

3 韓俊昭;任錕;潘駿;劉思路;尤靈敏;沈琦琦;;玻璃成形拋光相對(duì)線速度基本恒定控制算法研究[J];中國(guó)機(jī)械工程;2013年24期

4 沈自才;鄭慧奇;趙雪;馮偉泉;劉宇明;趙春晴;丁義剛;;遠(yuǎn)紫外輻射下Kapton/Al薄膜材料的力學(xué)性能研究[J];航天器環(huán)境工程;2010年05期

5 李建偉;林滸;孫玉娥;;基于S曲線加減速的NURBS實(shí)時(shí)插補(bǔ)前瞻控制方法[J];組合機(jī)床與自動(dòng)化加工技術(shù);2009年11期

6 李智國(guó);李萍萍;劉繼展;李偉;;不同加減速控制算法的能耗分析與比較[J];農(nóng)業(yè)機(jī)械學(xué)報(bào);2009年08期

7 于金剛;林滸;張曉輝;黃艷;蓋榮麗;;一種新型的Jerk連續(xù)加減速控制方法研究[J];組合機(jī)床與自動(dòng)化加工技術(shù);2009年08期

8 吳忠振;朱宗濤;鞏春志;田修波;楊士勤;李希平;;高功率脈沖磁控濺射技術(shù)的發(fā)展與研究[J];真空;2009年03期

9 王勇;寇金寶;高翔;劉洪南;王騰飛;;UG/CAM加工模板在包裝容器數(shù)控銑削中的應(yīng)用[J];包裝工程;2008年12期

10 曹珍恩;鞏春志;田修波;楊士勤;;直流磁控濺射電源研制及輸出特性研究[J];真空;2008年02期

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前5條

1 王澤明;高功率脈沖磁控濺射注入與沉積技術(shù)研究及CrN薄膜制備[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年

2 段偉贊;高功率復(fù)合脈沖磁控濺射放電特性及氮化物薄膜制備[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年

3 李希平;高功率復(fù)合脈沖磁控濺射等離子體特性及TiN薄膜制備[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2008年

4 林永清;分離靶真空電弧離子鍍制備TiAlN膜層及其性能研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2007年

5 陳蓓蓓;（Ti，Al）N薄膜力學(xué)性能及微觀組織結(jié)構(gòu)的研究[D];上海交通大學(xué);2007年

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前6條

1 王啟民;張小波;張世宏;王成勇;伍尚華;;高功率脈沖磁控濺射技術(shù)沉積硬質(zhì)涂層研究進(jìn)展[J];廣東工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào);2013年04期

2 江興流,王天民;高功率脈沖離子束注入初步研究[J];核技術(shù);1986年08期

3 江興流，，何宇亮，陳思富，李國(guó)華;高功率脈沖電子束制備納米硅薄膜及其發(fā)光特性研究[J];儀器儀表學(xué)報(bào);1996年S1期

4 孫卉;;環(huán)境保護(hù)中脈沖功率的應(yīng)用[J];民營(yíng)科技;2012年04期

5 樊艷峰;劉金合;羅曉娜;徐韋鋒;;活性劑對(duì)低功率脈沖激光焊接不銹鋼的影響[J];熱加工工藝;2008年23期

6 ;[J];;年期

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前5條

1 張建功;王曉明;史文祥;唐宇;管磊;;污染治理的有力武器:高功率脈沖電源[A];全面建設(shè)小康社會(huì)：中國(guó)科技工作者的歷史責(zé)任——中國(guó)科協(xié)2003年學(xué)術(shù)年會(huì)論文集（下）[C];2003年

2 鄧建軍;;高功率脈沖技術(shù)國(guó)內(nèi)外進(jìn)展[A];第三屆全國(guó)加速器技術(shù)學(xué)術(shù)交流會(huì)論文摘要集[C];2007年

3 田修波;吳忠振;鞏春志;楊士勤;;高功率脈沖磁控濺射技術(shù)——靈活的薄膜技術(shù)[A];TFC’09全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2009年

4 周羽生;郭芳;戴陶珍;李敬東;唐躍進(jìn);;超導(dǎo)電感儲(chǔ)能高功率脈沖技術(shù)及其仿真研究[A];2004年材料科學(xué)與工程新進(jìn)展[C];2004年

5 周羽生;郭芳;戴陶珍;李敬東;唐躍進(jìn);;超導(dǎo)電感儲(chǔ)能高功率脈沖技術(shù)及其仿真研究[A];2004年中國(guó)材料研討會(huì)論文摘要集[C];2004年

中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前2條

1 陳明華;基于鎂合金焊接的小功率脈沖激光誘導(dǎo)增強(qiáng)電弧放電機(jī)制研究[D];大連理工大學(xué);2014年

2 劉靜;高功率脈沖在光纖中的傳輸與放大研究[D];中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué);2013年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 李欣;高功率脈沖破碎巖混材料關(guān)鍵技術(shù)及優(yōu)化設(shè)計(jì)[D];沈陽(yáng)理工大學(xué);2015年

2 薛剛;高功率脈沖電源自動(dòng)控制系統(tǒng)體系結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)[D];南京理工大學(xué);2009年

3 張輝;爆磁壓縮高功率脈沖形成及功率提升技術(shù)研究[D];南京理工大學(xué);2007年

4 羅海林;一種新型高功率脈沖電源的研制[D];武漢大學(xué);2004年

5 潘通;基于DSP的高功率脈沖電源充電控制算法研究及實(shí)現(xiàn)[D];廣西工學(xué)院;2011年

6 劉暢;固態(tài)開(kāi)關(guān)串聯(lián)型納秒級(jí)上升時(shí)間功率脈沖發(fā)生技術(shù)的研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2006年

7 孫兆沖;晶閘管Marx功率脈沖電源的研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2007年

8 關(guān)磊;高功率脈沖放電等離子體電導(dǎo)率的初步研究[D];南京理工大學(xué);2006年

9 劉璐;基于LC諧振充電和POS的功率脈沖電源研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2008年

10 陳智慧;FDTD分析高功率脈沖對(duì)微波電路的影響[D];西安電子科技大學(xué);2005年

本文編號(hào)：1169907