本文關(guān)鍵詞：Ni-AlN納米復(fù)合鍍層的制備及耐蝕性能研究

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【摘要】：采用電沉積的方法在低碳鋼表面成功制備了Ni-AlN納米復(fù)合鍍層,通過稱量法計算出沉積速率,采用X-射線衍射、掃描電鏡和電化學(xué)測量技術(shù)探究了鍍液中不同AlN濃度對鍍層的組織結(jié)構(gòu)、微觀形貌和耐蝕性能的影響。結(jié)果表明,在電沉積過程中,沉積速率隨鍍液中AlN濃度的增大呈先增大后減小的趨勢;鍍液中AlN的加入,使鍍層表面產(chǎn)生了米粒狀的多晶單元,提高了鍍層的耐蝕性能,隨著鍍液中AlN濃度的增加耐蝕性能先提高后降低。當(dāng)鍍液中納米AlN質(zhì)量濃度為1 g/L時,復(fù)合鍍層中的AlN質(zhì)量分?jǐn)?shù)約為4.5%,表面致密性最好,與純Ni鍍層相比,腐蝕電流密度降低了2個數(shù)量級,耐蝕性能最佳。
【作者單位】： 上海電力學(xué)院上海市電力材料防護(hù)與新材料重點實驗室;
【分類號】：TG174.4;TQ153
【正文快照】： 引言納米復(fù)合鍍層的制備是在鍍液中加入一種或幾種不溶性納米固體顆粒,如Al N、Ti N、Si C或Si O2等[1-4],使納米固體顆粒與金屬離子共沉積的過程[5]。金屬復(fù)合鍍層在傳統(tǒng)工業(yè)(汽車、化工及儀器儀表等)和新興技術(shù)工業(yè)領(lǐng)域(電子、信息技術(shù)及材料科學(xué)等)取得了一些應(yīng)用[6]。在過

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本文編號：1150501