發(fā)布時(shí)間：2017-10-21 20:31

  本文關(guān)鍵詞：偏壓對(duì)Cr-Si-N涂層的結(jié)構(gòu)與性能的影響

  更多相關(guān)文章： 物理氣相沉積磁控濺射 偏壓 Cr-Si-N涂層 機(jī)械性能 摩擦行為

【摘要】：Cr-Si—N涂層具有較高的硬度,良好的耐磨損抗氧化功能。本文采用磁控濺射沉積方法,以偏壓為變量,在三種基片上制備Cr—Si—N涂層。本研究采用X射線衍射儀和掃描型電子顯微鏡表征偏壓對(duì)Cr—Si-N涂層的結(jié)構(gòu)的影響;采用納米壓痕儀、殘余應(yīng)力儀、摩擦磨損機(jī)等測(cè)試偏壓對(duì)Cr-Si-N涂層的性能的影響。XRD結(jié)果顯示,隨著偏壓增加,晶粒變小,并且衍射峰逐漸向小角度偏移。SEM結(jié)果顯示,隨著偏壓從0增至-50 V,涂層的柱狀晶結(jié)構(gòu)趨于致密化。偏壓為0 V,硬度是12.4GPa,偏壓增至-50 V,硬度增至35.5 GPa,提高了近兩倍。偏壓對(duì)磨損量影響很小,在偏壓為-10 V時(shí),磨損率最小。
【作者單位】： 上海大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;中國(guó)科學(xué)院海洋新材料與應(yīng)用技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室浙江省海洋材料與防護(hù)技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所;
【關(guān)鍵詞】： 物理氣相沉積磁控濺射 偏壓 Cr-Si-N涂層 機(jī)械性能 摩擦行為
【分類號(hào)】：TG174.4
【正文快照】： 目前,硬質(zhì)涂層的研究和應(yīng)用在電子、機(jī)械等 領(lǐng)域受到了廣泛關(guān)注,其中物理氣相沉積得到的納 米尺度硬質(zhì)涂層兼具很多優(yōu)點(diǎn),如硬度高、耐磨性 優(yōu)良且具有較好的耐腐蝕性,這使其在表面防護(hù)等領(lǐng)域具有很高的應(yīng)用價(jià)值[1_2]。近年來(lái),過(guò)渡金屬 氮化物涂層兼具較優(yōu)良的綜合性能,這使其，

本文編號(hào)：1075133