硅基表面微納結(jié)構(gòu)的制備及光學(xué)特性研究
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【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.2理想的多孔硅結(jié)構(gòu)以及多孔硅光陷阱示意圖
的微觀結(jié)構(gòu)微觀結(jié)構(gòu)包括很多方面,比如:孔的深度、孔徑的大形貌、孔隙體積與硅在自然狀態(tài)下總體積的百分比等微觀結(jié)構(gòu)的有SEM、TEM、ECAFM、熒光分光光度,不同的制備工藝如:電解密度、電解時(shí)間、電解液形貌也將會(huì)不一樣。大孔(macropores)一般通常是由大于50納米,中....
圖1.3單槽電化學(xué)腐蝕法示意圖[59]
安徽工程大學(xué)碩士學(xué)位論文位置的支架剛好能夠?qū)⒄麄(gè)電槽液分離成兩個(gè)獨(dú)立半槽,這兩個(gè)獨(dú)立的半槽完全的隔離,只能通過(guò)導(dǎo)線彼此的銜接。放置在中間位置的硅片也有要求,其拋光面對(duì)著陰極,未拋光面對(duì)著陽(yáng)極。實(shí)驗(yàn)開始時(shí)接通電源,電流通過(guò)連接兩端的導(dǎo)線從獨(dú)立半槽的一端流向另外一端,對(duì)著陰極的拋光面....
圖1.4雙槽電化學(xué)腐蝕法示意圖[fsi.szl
安徽工程大學(xué)碩士學(xué)位論文位置的支架剛好能夠?qū)⒄麄(gè)電槽液分離成兩個(gè)獨(dú)立半槽,這兩個(gè)獨(dú)立的半槽完全的隔離,只能通過(guò)導(dǎo)線彼此的銜接。放置在中間位置的硅片也有要求,其拋光面對(duì)著陰極,未拋光面對(duì)著陽(yáng)極。實(shí)驗(yàn)開始時(shí)接通電源,電流通過(guò)連接兩端的導(dǎo)線從獨(dú)立半槽的一端流向另外一端,對(duì)著陰極的拋光面....
圖1.5光化學(xué)腐蝕法原理圖
安徽工程大學(xué)碩士學(xué)位論文鍵逐漸將代替已經(jīng)減弱的Si-Si鍵,生成的氧化物覆蓋在硅片,硅就會(huì)發(fā)生電拋光現(xiàn)象,刻蝕速率約為1.5nm/min。進(jìn)行光化學(xué)腐蝕法的時(shí)候,除了原有的酸溶液外,還可以添加碘分子[70]、硝酸[71]、三氯化鐵等[72]作為氧化劑,加快反應(yīng)速度,減少制....
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