化學(xué)鎳金工藝中漏金影響因素探討
本文關(guān)鍵詞:化學(xué)鎳鈀金表面處理工藝研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
摘要 本文主要介紹了化學(xué)沉鎳金工藝中漏金(也即漏沉金)問(wèn)題,對(duì)其成因及影響因素進(jìn)行了分析,
并提出了相應(yīng)的改善對(duì)策。通過(guò)對(duì)改善措施的實(shí)施和產(chǎn)品性能測(cè)試,以驗(yàn)證其有效性及確保產(chǎn)品
可靠性良好。
關(guān)鍵詞 化學(xué)鎳金; 漏金; 鎳面污染;焊接不良
一、 前言
近年來(lái),在電子產(chǎn)品追求輕、薄、短、小、高頻化和數(shù)字化等因素的推動(dòng)下,電路板的要求不再只是更小的孔、更細(xì)密的線路、更平坦的焊墊,而且要求電路板的最終表面處理要能夠提供良好的可焊性、可打線,并維持低接觸電阻等功能[1]。由于化學(xué)鎳金(Electroless Nickel and Immersion Gold; ENIG)具有鍍層平整、均勻、可焊性良好等優(yōu)點(diǎn),已成為PCB行業(yè)中最重要的表面處理方式,自上世紀(jì)90年代至今,其應(yīng)用越來(lái)越廣泛。
化學(xué)鎳金工藝中,易出現(xiàn)各類品質(zhì)異常,如滲鍍、鎳足、漏鍍、色差等,最主要的問(wèn)題是黑盤(pán)問(wèn)題。因此,有化學(xué)沉金藥水商推出了一種新的焊盤(pán)最終表面涂飾處理工藝化學(xué)鍍鎳化學(xué)鍍鈀與浸金,簡(jiǎn)稱化學(xué)鎳鈀金(Electroless Nickel Electroless Palladium Immersion Gold;ENEPIG),它是在焊盤(pán)銅面上先后沉積鎳、鈀和金,鍍層厚度一般為鎳2.00μm~5.00μm、鈀0.10μm~0.20μm和金0.03μm~0.05μm。ENEPIG工藝的出現(xiàn)可完全規(guī)避化學(xué)鎳金黑盤(pán)造成的失效風(fēng)險(xiǎn),亦可大大降低ENIG+OSP的綜合成本(比此低8~10%),金厚可控制最低約0.015μm[2-4]。但是,隨著精細(xì)線路的出現(xiàn),PCB的設(shè)計(jì)越來(lái)越趨于“極限化”,新的品質(zhì)異常也將逐漸出現(xiàn),其中漏金問(wèn)題即是其中一例,它不同于普通的漏鍍或跳鍍(Skip Plating),如圖1所示。
普通漏鍍一般是由于銅面氧化嚴(yán)重、活化不足、前處理不良、鎳槽溫度偏低、藥水失調(diào)或負(fù)載不足等原因引起,其改善主要從以上方面著手。而本文中所講述的漏金問(wèn)題是不同于普通的漏鍍,其表現(xiàn)為漏鍍處有鎳無(wú)金,且鎳厚度與正常處一樣。當(dāng)然,從嚴(yán)格意義上來(lái)講,其也屬于漏鍍的一類,本文將就其產(chǎn)生的原因進(jìn)行分析,通過(guò)幾組試驗(yàn)來(lái)驗(yàn)證其影響因素,并最終給出相應(yīng)的解決方法。
二、 原因分析
1 金缸置換反應(yīng)機(jī)理
金缸主要成分有氰化金鉀KAu(CN)2、有機(jī)酸和螯合劑,氰化金鉀主要提供Au(CN)2-錯(cuò)離子來(lái)源,在鎳面置換出金層(離子化趨勢(shì)Ni>Au);有機(jī)酸主要是防止鎳表面產(chǎn)生鈍態(tài)并與溶出的Ni2+結(jié)合成錯(cuò)離子;螯合劑主要是抑制金屬污染物(減少游離態(tài)Ni2+、Cu2+等)。其反應(yīng)如圖2所示:
金缸主要成分的管控和溫度的控制都至關(guān)重要,這些都會(huì)直接影響到沉金的效果,如金厚度、致密性、鎳層腐蝕和沉積速度等。因此,對(duì)于金缸的參數(shù)管控應(yīng)該引起高度重視,這也關(guān)系到漏金現(xiàn)象的出現(xiàn),漏金問(wèn)題的改善很大程度上也依賴于這些參數(shù)的控制。
2 漏金原因
針對(duì)漏金的原因我先通過(guò)魚(yú)骨圖對(duì)其進(jìn)行分析,如圖3所示:
根據(jù)相關(guān)資料和業(yè)界技術(shù)人員的經(jīng)驗(yàn)總結(jié)[5-6],我們分析漏金原因可能有以下幾個(gè):
。1)來(lái)料板面有異物污染,前處理未能處理干凈。
。2)沉鎳后進(jìn)金缸的時(shí)間太長(zhǎng)或鎳缸后面水洗太臟導(dǎo)致鎳層鈍化無(wú)法上金。
。3)金缸震動(dòng)器故障或震動(dòng)力度不夠,或金缸藥水參數(shù)存在異常(例如:溫度太低、PH值太低、金含量低等)
。4)金缸受選化、阻焊等油墨等有機(jī)物料污染,造成阻鍍現(xiàn)象發(fā)生。
三、 實(shí)驗(yàn)部分
為驗(yàn)證我們對(duì)漏金原因分析的準(zhǔn)確性,通過(guò)DOE(正交設(shè)計(jì))試驗(yàn)設(shè)計(jì),我們進(jìn)行了多組實(shí)驗(yàn),具體情況如下文所述:
1 實(shí)驗(yàn)流程
來(lái)料→水平線前處理→上板→除油→微蝕→預(yù)浸→活化→后浸酸→化學(xué)鎳→化學(xué)金→金回收→下板
2 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
實(shí)驗(yàn)參數(shù)如表1所示:
2 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)及結(jié)果
我們?cè)O(shè)計(jì)了以下幾組實(shí)驗(yàn):
。1)正常水平線前處理和正常沉鎳金;
。2)微蝕后再過(guò)水平線前處理,然后正常沉鎳金線;
。3)金缸更換大功率震動(dòng)器;
。4)加大化鎳后水洗更換頻率(由1次/天更改為1次/班);
。5)金缸生產(chǎn)面積達(dá)8000平米以上與新開(kāi)金缸后對(duì)比
通過(guò)以上幾組實(shí)驗(yàn)的結(jié)果對(duì)比,我們不難發(fā)現(xiàn)化鎳后水洗更換、新開(kāi)金缸后這兩種情況下出現(xiàn)漏金的比例很小或是沒(méi)有。第二組實(shí)驗(yàn)則證明漏金不是因?yàn)閬?lái)料板面有異物污染造成的,這也與實(shí)際檢測(cè)的鎳厚滿足要求相符。因此,我們認(rèn)為:化鎳后水洗的維護(hù)和金缸污染、金濃度的控制是改善漏金問(wèn)題的關(guān)鍵所在,具體實(shí)驗(yàn)結(jié)果可參見(jiàn)表2:
據(jù)有關(guān)資料顯示:綠油、白油、紅油、黑油、藍(lán)油、干膜等有機(jī)材料在沉金金缸會(huì)出現(xiàn)不同程度的“溶出”現(xiàn)象,進(jìn)而對(duì)金缸造成污染,影響板子的沉金效果(出現(xiàn)甩金、黑pad、不上金等問(wèn)題)。其中藍(lán)油、選化黑油和紅油等幾種油墨對(duì)其污染尤為嚴(yán)重,因此要謹(jǐn)防長(zhǎng)時(shí)間或大批量生產(chǎn)該類油墨的板子而出現(xiàn)品質(zhì)問(wèn)題。而我司出現(xiàn)的幾款漏金問(wèn)題的型號(hào)(如1479、1552、1475、1310等)均具有幾個(gè)特點(diǎn):a. 阻焊油墨為藍(lán)色、紅色居多;b. 有大面積選化(圖4中a所示);c. 有半塞孔(單面開(kāi)窗),且在生產(chǎn)中有掉油問(wèn)題出現(xiàn)(圖4中b所示)。
另外,由于阻焊、選化、樹(shù)脂塞孔油墨等在金缸的溶出,會(huì)造成金缸污染加劇,為減輕其對(duì)金缸的污染,除了從油墨材料的選擇、前工序參數(shù)的優(yōu)化加以控制外,還需要對(duì)金缸的維護(hù)予以加強(qiáng)。如金缸過(guò)濾的濾芯更換頻率、金含量的控制以及金缸藥水的更換周期等,之前的維護(hù)頻率或控制參數(shù)針對(duì)普通類型的板可能還不會(huì)造成不良影響,但是對(duì)于以上提到的特殊類型的板就必須加以管控。
在檢查中我們還發(fā)現(xiàn),由于化鎳后水洗的流量控制較小、更換周期過(guò)長(zhǎng),在缸壁會(huì)造成粘稠狀物質(zhì)出現(xiàn)(圖5所示),而這些粘稠狀物質(zhì)極易附著在已化鎳的鎳層表面,在金缸時(shí)會(huì)出現(xiàn)“阻鍍”問(wèn)題。金缸里金濃度的控制不易過(guò)低,,過(guò)低會(huì)引起鎳腐蝕、黑盤(pán)問(wèn)題的出現(xiàn),也可能會(huì)導(dǎo)致漏金問(wèn)題的出現(xiàn)。我們還發(fā)現(xiàn),每次更換新金缸后出現(xiàn)漏金的幾率很小或沒(méi)有,而當(dāng)金缸生產(chǎn)面積達(dá)到8000平米以上時(shí),出現(xiàn)漏金的幾率則大大增加。 四、 結(jié)論
通過(guò)以上實(shí)驗(yàn)及對(duì)上述改善措施的實(shí)施,我們使漏金問(wèn)題得到了有效改善。因此,可得出以下實(shí)驗(yàn)結(jié)論,并提出相應(yīng)的改善措施:
。1)阻焊、選化、塞孔樹(shù)脂油墨等在金缸大量“溶出”造成藥液污染是導(dǎo)致漏金問(wèn)題出現(xiàn)的最主要原因。為改善此問(wèn)題,我們須從物料選擇和前工序工藝參數(shù)優(yōu)化等方面著手,如選擇性能良好的油墨、對(duì)阻焊、文字等曝光、烤板參數(shù)進(jìn)行調(diào)整等。
。2)化鎳后水洗槽的流量、溫度和更換頻率等進(jìn)行有效管控或調(diào)整,有助于漏金問(wèn)題的改善。建議在該水洗槽內(nèi)增加一只500w的加熱管,可適當(dāng)加大水洗流量,水洗更換頻率由1次/天更改為1次/班,每月進(jìn)行一次酸堿洗,防止槽內(nèi)生菌或出現(xiàn)粘稠物質(zhì)等。
。3)金缸金濃度的控制不易過(guò)低,金缸藥液更換頻率須根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)板的特點(diǎn)來(lái)定。由于金含量控制過(guò)低,也會(huì)造成金缸螯合劑的偏低,因?yàn)轵蟿┨砑邮歉鶕?jù)金鹽的添加量和次數(shù)來(lái)定的。而螯合劑偏低就會(huì)造成金缸的抗污染能力下降,使出現(xiàn)漏金的幾率增加。對(duì)于生產(chǎn)藍(lán)油、紅油和大面積選化類型的板,要適當(dāng)縮短金缸藥液的更換周期,以保證金缸藥液的受污染度控制在一定的范圍內(nèi),不會(huì)出現(xiàn)漏金問(wèn)題。
參考文獻(xiàn):
[1]周政明 化學(xué)浸金制程ENIG 電路板濕制程全書(shū)(臺(tái)灣)[M]. TPCA 2006年出版 p187.
[2]Biunno Nick. "A Root Cause Failure Mechanism for Solder Joint Integrity of Electroless
Nickel/Immersion Gold Surface Finish." IPC Printed Circuits Expo''99, March 14-18,1999,Long
Beach,CA,p.S18-5-8.
[3]戚斌斌 李雄輝 謝添華 李志東 化學(xué)鎳金工藝中的鎳足控制方法研究[J]. 印制電路信息 2011第222期
。ㄔ隹 第196-197頁(yè).
[4]紀(jì)成光 陳立宇 袁繼旺 王燕梅 化學(xué)鎳鈀金表面處理工藝研究 電子工藝技術(shù)[J].2011年第2期.
[5]衛(wèi)桂芳 化學(xué)鎳金漏鍍滲金的原因和措施[J]. 表面涂覆 2004年第5期.
[6]白蓉生 化學(xué)浸金量產(chǎn)之管理與解困 電路板濕制程全書(shū)(臺(tái)灣)[M]. TPCA 2006年出版 p323-335.
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